[發明專利]光學元件的評價值計算方法、評價值計算裝置以及記錄介質有效
| 申請號: | 201680058879.2 | 申請日: | 2016-07-25 |
| 公開(公告)號: | CN108139294B | 公開(公告)日: | 2020-08-14 |
| 發明(設計)人: | 松岡祥平 | 申請(專利權)人: | HOYA株式會社 |
| 主分類號: | G01M11/00 | 分類號: | G01M11/00;G01B21/20 |
| 代理公司: | 北京三友知識產權代理有限公司 11127 | 代理人: | 李輝;黃綸偉 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 光學 元件 評價 計算方法 計算 裝置 以及 記錄 介質 | ||
1.一種光學元件的評價值計算方法,其中,包含如下步驟:
針對光學元件的被檢面取得作為與設計值之間的偏差的形狀誤差;
針對所述光學元件的各位置i,取出所取得的形狀誤差中的被包含在如下范圍內的值的權重函數的成分,該范圍是以各位置i為中心且半徑u的2倍的范圍,該半徑u比有效半徑小;以及
根據所取出的各位置i的權重函數的成分來計算評價值,
使用以位置i為基準的相對位置k,將所述權重函數定義為下式所示的函數WM[k],
WM[k]=k2×N[k]+A(-u≦k≦u)
WM[k]=0(k<-u或者u<k)
其中,對于N[k],0≦N[-u],且N[k]在處于-u≦k≦0的范圍時是單調增加的偶函數,A是用于使ΣkWM[k]=0的常數項,對于WM[k]的二階導函數WM”[k],-WM”[0]≦WM”[-u],且WM”[0]≧0,u是正數。
2.根據權利要求1所述的光學元件的評價值計算方法,其中,
在所述進行取出的步驟中,
通過計算所述值與所述權重函數的內積而取出所述權重函數的成分。
3.根據權利要求2所述的光學元件的評價值計算方法,其中,
所述權重函數在所述內積下與零次函數和一次函數正交。
4.根據權利要求2或3所述的光學元件的評價值計算方法,其中,
所述權重函數是余弦函數。
5.根據權利要求4所述的光學元件的評價值計算方法,其中,
所述權重函數在所述半徑u的2倍的范圍內具有半個周期至1個周期的余弦成分。
6.根據權利要求1~5中的任意一項所述的光學元件的評價值計算方法,其中,
在所述相對位置k為零時,該權重函數的二階微分最大,且在該相對位置k為-u或者u時,該權重函數的二階微分成為零或者接近零的值,或者,在該相對位置k為零時,該權重函數的二階微分最大,且在該相對位置k為-u或者u時,該權重函數的一階微分成為零或者接近零的值。
7.根據權利要求1~6中的任意一項所述的光學元件的評價值計算方法,其中,
所述半徑u是入射到所述被檢面的光束的半徑。
8.根據權利要求1~6中的任意一項所述的光學元件的評價值計算方法,其中,
在所述光學元件為在至少一部分使用狀態下光束直徑大于有效直徑的50%的光學元件時,將所述半徑u設定為光束直徑最大時的光束半徑的10%以下的值。
9.根據權利要求1~8中的任意一項所述的光學元件的評價值計算方法,其中,包含如下步驟:
對所述被檢面至少賦予位置信息和與位置信息對應的光軸方向的成分量;以及
根據所賦予的位置信息和成分量來設定所述權重函數。
10.一種光學元件的評價值計算程序,其中,
所述光學元件的評價值計算程序用于使計算機執行權利要求1~9中的任意一項所述的評價值計算方法。
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