[發明專利]包含陽離子表面活性劑體系、硅氧烷和除了金屬吡啶硫酮之外的金屬鹽的毛發護理組合物在審
| 申請號: | 201680057452.0 | 申請日: | 2016-10-14 |
| 公開(公告)號: | CN108135803A | 公開(公告)日: | 2018-06-08 |
| 發明(設計)人: | 巖田俊之 | 申請(專利權)人: | 寶潔公司 |
| 主分類號: | A61K8/27 | 分類號: | A61K8/27;A61K8/41;A61K8/49;A61Q5/00;A61K8/89 |
| 代理公司: | 上海專利商標事務所有限公司 31100 | 代理人: | 樊云飛;江磊 |
| 地址: | 美國俄*** | 國省代碼: | 美國;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 陽離子表面活性劑體系 金屬鹽 陽離子表面活性劑 毛發護理組合物 硅氧烷化合物 金屬吡啶硫酮 亞烷基氧基團 頭皮 單長鏈烷基 二長鏈烷基 季銨基團 吡啶硫銅 硅氧烷 沉積 金屬 | ||
本發明公開了一種毛發護理組合物,其包含:陽離子表面活性劑體系,所述陽離子表面活性劑體系包含單長鏈烷基陽離子表面活性劑和二長鏈烷基陽離子表面活性劑;具有胺或季銨基團以及亞烷基氧基團的硅氧烷化合物;并且還包含除了金屬吡啶硫銅之外的金屬鹽。本發明的組合物提供了金屬鹽在頭皮上的改善的沉積。
技術領域
本發明涉及一種毛發護理組合物,其包含:陽離子表面活性劑體系,該陽離子表面活性劑體系包含單長鏈烷基陽離子表面活性劑和二長鏈烷基陽離子表面活性劑;具有胺或季銨基團以及亞烷基氧基團的硅氧烷化合物;并且還包含除了金屬吡啶硫酮之外的金屬鹽。本發明的組合物提供了金屬鹽在頭皮上的改善的沉積。
背景技術
已經開發了多種方法來調理毛發。一種提供調理有益效果的常用方法是通過使用調理劑,諸如陽離子表面活性劑和聚合物、高熔點脂肪族化合物、低熔點油、硅氧烷化合物、以及它們的混合物。已知大多數這些調理劑提供多種調理有益效果。此外,除了此類調理有益效果之外,還開發了各種方法來提供其它有益效果。
例如,除了調理有益效果之外,一些調理組合物還提供去頭屑有益效果。
德國專利申請DE 10 2011 086 635 A公開了一種化妝品組合物,其含有諸如吡啶硫酮鋅的至少一種頭皮屑控制劑和具有至少三個末端氨基官能團的至少一種陽離子氨基硅氧烷。據說該專利公開的組合物除了調理效果和對角質纖維特別是人的毛發的光澤和感覺的改善之外,還具有有關減少頭皮屑形成的改善的效果。該德國專利公布還公開了實施例中含有0.5%吡啶硫酮鋅和0.5%或1.0%硅氧烷季銨-22的組合物。
PCT專利公布WO 2014/014977公開了包含聚季銨鹽-6和金屬吡啶硫酮作為去頭屑劑的毛發護理組合物,其中該組合物基本上不含葡聚糖膠、非離子瓜爾膠和羥乙基纖維素。據稱本公布的組合物提供去頭屑劑如吡啶硫酮鋅在頭皮上的改善的沉積。WO專利公布還公開了實施例中的此類毛發護理組合物,其包含0.075%的聚季銨鹽-6、0.75%的吡啶硫酮鋅、1.6%的碳酸鋅和2.0%的氨基硅氧烷。
仍然需要此類去頭屑劑毛發護理組合物,以提供除了金屬吡啶硫酮之外的金屬鹽如碳酸鋅的改善的沉積。
沒有任何現有技術提供了本發明的全部優點和有益效果。
發明內容
本發明涉及毛發護理組合物,該毛發護理組合物包含按重量計:
(a)約0.1%至約10%的陽離子表面活性劑體系,其含有單長鏈烷基陽離子表面活性劑和二長鏈烷基陽離子表面活性劑;
(b)約0.1%至約20%的高熔點脂肪族化合物;
(c)約0.05%至約15%的硅氧烷化合物,其具有:胺或季銨基團,以及亞烷基氧基團;
(d)約0.05%至約10%的除了金屬吡啶硫酮之外的金屬鹽;和
(e)水性載體。
本發明的組合物提供了金屬鹽在頭皮上的改善的沉積。
通過閱讀以下描述和所附權利要求,將更好地理解本發明的這些和其它特征、方面和優點。
具體實施方式
雖然本說明書以特別指出并清楚地要求保護本發明的權利要求書作為結尾,但據信通過下列說明可更好地理解本發明。
本文中“包括”是指可加入不影響最終結果的其它步驟和其它成分。該術語包括“由…組成”和“基本上由…組成”。
除非另外說明,所有百分比、份數和比率均基于本發明組合物的總重量計。所有涉及所列成分的這些重量均基于活性物質的含量,因此不包括可能被包含在可商購獲得的物質中的載體或副產物。
本文中,“混合物”是指包括材料的簡單組合以及可由它們的組合產生的任何化合物。
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