[發明專利]曝光裝置、平面顯示器的制造方法及元件制造方法

有效

• 申請號: 201680057195.0
• 申請日: 2016-09-29
• 公開（公告）號: CN108139678B
• 公開（公告）日: 2022-03-15
• 發明（設計）人: 青木保夫
• 申請（專利權）人: 株式會社尼康
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;H01L21/68
• 代理公司: 中國貿促會專利商標事務所有限公司 11038
• 代理人: 劉楊

使基板(P)移動的基板載臺裝置(20)具備：非接觸保持具(32)，以非接觸方式支承基板(P)；第1驅動系，使非接觸保持具(32)移動；標尺板(82)，作為非接觸保持具(32)的移動的基準；第1測量部，測量Y讀頭(78y)的位置信息，具有標尺板(46)與Y讀頭(78y)，標尺板(46)與Y讀頭(78y)中的一者設于非接觸保持具(32)，標尺板(46)與Y讀頭(78y)中的另一者設于標尺板(82)與非接觸保持具(32)之間；第2測量部，測量標尺板(46)與Y讀頭(78y)中的另一者的位置信息；及位置測量系，根據由第1及第2測量部測量的位置信息，求出非接觸保持具(32)的位置信息。

技術領域

本發明關于移動體裝置、曝光裝置、平面顯示器的制造方法、及元件制造方法、以及物體的移動方法，更詳言之，關于使物體移動的移動體裝置及移動方法、包含移動體裝置的曝光裝置、使用曝光裝置的平面顯示器、或元件的制造方法。

背景技術

以往，在制造液晶顯示元件、半導體元件(集成電路等)等的電子元件(微型元件)的微影工序中，使用步進掃描方式的曝光裝置(所謂掃描步進機(也稱為掃描機))等，其一邊使光罩(photomask)或標線片(以下總稱為“光罩”)與玻璃板或晶圓(以下總稱為“基板”)沿著既定掃描方向同步移動，一邊使用能量光束將形成在光罩的圖案轉印至基板上。

作為此種曝光裝置，已知有使用基板載臺裝置所具有的棒反射鏡(長條的鏡)求出曝光對象基板在水平面內的位置信息的光干涉儀系統的裝置(參照例如專利文獻1)。

此處，在使用光干涉儀系統求出基板的位置信息的情況下，無法忽視所謂空氣波動的影響。

先行技術文獻

專利文獻1：美國專利申請公開第2010/0266961號說明書

發明內容

根據本發明的第1方式，提供一種移動體裝置，其具備：支承部，其以非接觸方式支承物體；保持部，其保持被前述支承部以非接觸方式支承的前述物體；第1驅動部，其使前述保持部向彼此交叉的第1及第2方向移動；基準構件，其作為前述保持部向前述第1及第2方向的移動的基準；第1測量部，其具有：具有前述第1方向的測量成分的第1格子部、以及配置成與前述第1格子部對置且對前述第1格子部照射測量光束的第1讀頭，前述第1格子部與前述第1讀頭中的一方設于前述保持部，前述第1格子部與前述第1讀頭中的另一方設于前述基準構件與前述保持部之間，藉由前述第1讀頭及前述第1格子構件測量前述第1讀頭的位置信息；第2測量部，其測量前述第1格子部與前述第1讀頭中的另一方的位置信息；以及位置測量系，其根據由前述第1及第2測量部測量的位置信息，求出在前述第1及第2方向中保持前述物體的前述保持部的位置信息。

根據本發明的第2方式，提供一種曝光裝置，其具備：第1方式的移動體裝置；以及使用能量束在前述物體形成既定圖案的圖案形成裝置。

根據本發明的第3方式，提供一種平面顯示器制造方法，其包含：使用第2方式的曝光裝置使前述物體曝光的動作；以及使曝光后的前述物體顯影的動作。

根據本發明的第4方式，提供一種元件制造方法，其包含：使用第2方式的曝光裝置使前述物體曝光的動作；以及使曝光后的前述物體顯影的動作。