[發(fā)明專利]有機(jī)膜CMP漿料組成物的應(yīng)用及使用其的研磨方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201680056927.4
• 申請日: 2016-09-30
• 公開（公告）號: CN108138029B
• 公開（公告）日: 2021-05-18
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 崔正敏;都均奉;姜東憲;金東珍;兪龍植;鄭榮哲;趙炫洙
• 申請（專利權(quán)）人: 三星SDI株式會社
• 主分類號: C09K3/14
• 分類號: C09K3/14;H01L21/306
• 代理公司: 北京同立鈞成知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11205
• 代理人: 彭雪瑞;臧建明

1.一種化學(xué)機(jī)械研磨漿料組成物用于有機(jī)膜的應(yīng)用，其特征在于，所述化學(xué)機(jī)械研磨漿料組成物包含氧化鈰及硝酸鈰(III)且具有100或高于100的選擇性比，由方程式1所計(jì)算：

[方程式1]

選擇性比＝α/β，

在方程式1中，α是對有機(jī)膜的研磨速率且β是對無機(jī)膜的研磨速率，其中α與β的單位為埃/分鐘，

其中所述硝酸鈰(III)以0.04重量％至0.4重量％的量存在于所述化學(xué)機(jī)械研磨漿料組成物中。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的化學(xué)機(jī)械研磨漿料組成物用于有機(jī)膜的應(yīng)用，其中所述有機(jī)膜具有90原子％或大于90原子％的碳含量。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的化學(xué)機(jī)械研磨漿料組成物用于有機(jī)膜的應(yīng)用，其中所述氧化鈰具有10納米至150納米的平均粒徑。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的化學(xué)機(jī)械研磨漿料組成物用于有機(jī)膜的應(yīng)用，其中所述氧化鈰以0.01重量％至10.0重量％的量存在于所述化學(xué)機(jī)械研磨漿料組成物中。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的化學(xué)機(jī)械研磨漿料組成物用于有機(jī)膜的應(yīng)用，其中所述化學(xué)機(jī)械研磨漿料組成物具有3至5的pH。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的化學(xué)機(jī)械研磨漿料組成物用于有機(jī)膜的應(yīng)用，其中所述有機(jī)膜具有0.5克/立方厘米至2.5克/立方厘米的膜密度及0.4十億帕或大于0.4十億帕的硬度。

7.一種研磨有機(jī)膜的方法，其特征在于，包括：使用根據(jù)權(quán)利要求1至6中任一項(xiàng)所述的化學(xué)機(jī)械研磨漿料組成物來研磨有機(jī)膜。