[發(fā)明專(zhuān)利]半導(dǎo)體器件及形成其的方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201680054722.2 | 申請(qǐng)日: | 2016-09-21 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN108028245A | 公開(kāi)(公告)日: | 2018-05-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 林葉;陳全勝 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 南洋理工大學(xué) |
| 主分類(lèi)號(hào): | H01L23/522 | 分類(lèi)號(hào): | H01L23/522;H01L23/48;H01L21/768 |
| 代理公司: | 中科專(zhuān)利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021 | 代理人: | 潘軍 |
| 地址: | 新加坡國(guó)*** | 國(guó)省代碼: | 暫無(wú)信息 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 半導(dǎo)體器件 形成 方法 | ||
1.一種半導(dǎo)體器件,包括具有貫穿襯底通孔的襯底,所述貫穿襯底通孔在其中形成有:
第一電容器電極層和第二電容器電極層,和設(shè)置于第一電容器電極層和第二電容器電極層之間的介電材料層;以及
貫穿襯底通孔導(dǎo)體。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體器件,所述貫穿襯底通孔已經(jīng)由形成在襯底第一側(cè)的溝槽形成,貫穿襯底通孔導(dǎo)體包括通孔導(dǎo)電芯;第一電容器電極層、介電材料層和第二電容器電極層已經(jīng)形成在溝槽中,并且其中,第二電容器電極層圍繞通孔導(dǎo)電芯。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的半導(dǎo)體器件,第一電容器電極層、介電材料層和第二電容器電極層基本上設(shè)置為圍繞通孔導(dǎo)電芯的同心層。
4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的半導(dǎo)體器件,包括設(shè)置在溝槽內(nèi)表面上的第一絕緣層,設(shè)置在所述絕緣層上的第一電容器電極層。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的半導(dǎo)體器件,包括設(shè)置在所述第二電容器電極層上的第二絕緣層。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的半導(dǎo)體器件,其中,所述半導(dǎo)體器件包括設(shè)置在所述第二絕緣層上的阻擋層。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的半導(dǎo)體器件,所述阻擋層已經(jīng)形成為使溝槽處于未填滿狀態(tài),所述通孔導(dǎo)電芯已經(jīng)通過(guò)用導(dǎo)電材料填充溝槽來(lái)形成,以及所述貫穿襯底通孔已經(jīng)通過(guò)平面化襯底的第二側(cè)以暴露在此處的通孔導(dǎo)電芯的導(dǎo)電材料來(lái)形成。
8.一種形成半導(dǎo)體器件的方法,所述半導(dǎo)體器件包括貫穿襯底通孔,所述方法包括在所述貫穿襯底通孔中形成:
第一電容器電極層和第二電容器電極層,和設(shè)置于第一電容器電極層和第二電容器電極層之間的介電材料層;以及
貫穿襯底通孔導(dǎo)體。
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