[發(fā)明專利]船舶的廢氣凈化裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201680053491.3
• 申請(qǐng)日: 2016-05-27
• 公開（公告）號(hào): CN108350781B
• 公開（公告）日: 2020-08-11
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 小林亮太;井上剛;橫山哲也;高畑泰幸;濱岡俊次
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 洋馬動(dòng)力科技有限公司
• 主分類號(hào): F01N3/20
• 分類號(hào): F01N3/20;F01N3/08;F01N3/18;F01N3/24
• 代理公司: 北京旭知行專利代理事務(wù)所(普通合伙) 11432
• 代理人: 王軼;陳東升

1.一種廢氣凈化裝置，在凈化箱內(nèi)設(shè)置有：主路徑，其是搭載于船舶用的發(fā)動(dòng)機(jī)的排氣路徑、且設(shè)置有催化劑；以及旁通路徑，其從所述主路徑的中途部分支出來，使所述主路徑以及所述旁通路徑的廢氣移動(dòng)方向下游側(cè)匯合而向所述凈化箱外部進(jìn)行排氣，并且，在所述凈化箱內(nèi)，從廢氣移動(dòng)方向上游側(cè)至下游側(cè)對(duì)所述主路徑和所述旁通路徑進(jìn)行劃分的分隔板沿著廢氣移動(dòng)方向延伸設(shè)置，

所述分隔板的下游側(cè)端部設(shè)置為:從所述凈化箱的排氣流出口與所述主路徑的排氣出口之間通過，

所述廢氣凈化裝置的特征在于，

設(shè)置有防止倒流板，所述排氣流出口在所述主路徑側(cè)配置于與所述主路徑重疊的位置，所述分隔板的下游側(cè)端部在所述凈化箱的排氣出口部從所述主路徑的下游出口側(cè)朝向所述排氣流出口的周緣傾斜地延伸設(shè)置，由此構(gòu)成所述防止倒流板，

所述防止倒流板的側(cè)緣及下游側(cè)端緣固接于所述凈化箱的內(nèi)壁面，并且，在所述防止倒流板的固接于所述凈化箱的內(nèi)壁面的兩邊緣側(cè)未設(shè)置孔，在所述防止倒流板的內(nèi)側(cè)設(shè)置有多孔狀的開口部。

2.一種廢氣凈化裝置，在凈化箱內(nèi)設(shè)置有：主路徑，其是搭載于船舶用的發(fā)動(dòng)機(jī)的排氣路徑、且設(shè)置有催化劑；以及旁通路徑，其從所述主路徑的中途部分支出來，使所述主路徑以及所述旁通路徑的廢氣移動(dòng)方向下游側(cè)匯合而向所述凈化箱外部進(jìn)行排氣，并且，在所述凈化箱內(nèi)，從廢氣移動(dòng)方向上游側(cè)至下游側(cè)對(duì)所述主路徑和所述旁通路徑進(jìn)行劃分的分隔板沿著廢氣移動(dòng)方向延伸設(shè)置，

所述分隔板的下游側(cè)端部設(shè)置為:從所述凈化箱的排氣流出口與所述主路徑的排氣出口之間通過，

所述廢氣凈化裝置的特征在于，所述凈化箱的所述排氣流出口設(shè)置于所述旁通路徑側(cè)，并且，所述凈化箱的排氣出口部以趨向下游側(cè)的所述排氣流出口而減小截面積的方式形成為向所述主路徑側(cè)傾斜的前端縮小的形狀，所述排氣流出口設(shè)置于與所述主路徑的排氣側(cè)重疊的位置，所述分隔板的下游側(cè)端部朝向所述凈化箱的所述排氣出口部的所述排氣流出口周緣延伸設(shè)置，由此構(gòu)成防止倒流板，并且，在所述防止倒流板的整體設(shè)置有多孔狀的孔。

3.一種廢氣凈化裝置，在凈化箱內(nèi)設(shè)置有：主路徑，其是搭載于船舶用的發(fā)動(dòng)機(jī)的排氣路徑、且設(shè)置有催化劑；以及旁通路徑，其從所述主路徑的中途部分支出來，使所述主路徑以及所述旁通路徑的廢氣移動(dòng)方向下游側(cè)匯合而向所述凈化箱外部進(jìn)行排氣，并且，在所述凈化箱內(nèi)，從廢氣移動(dòng)方向上游側(cè)至下游側(cè)對(duì)所述主路徑和所述旁通路徑進(jìn)行劃分的分隔板沿著廢氣移動(dòng)方向延伸設(shè)置，

所述分隔板的下游側(cè)端部設(shè)置為:從所述凈化箱的排氣流出口與所述主路徑的排氣出口之間通過，

所述廢氣凈化裝置的特征在于，在所述分隔板的下游，由具有多孔狀的開口部的防止倒流板將所述凈化箱中的處理催化劑的下游側(cè)覆蓋，并且，從所述主路徑通過的廢氣通過多孔狀的所述開口部而向排氣下游側(cè)流出。

4.根據(jù)權(quán)利要求1～3中任一項(xiàng)所述的廢氣凈化裝置，其特征在于，

在所述主路徑中，對(duì)廢氣供給還原劑的還原劑供給裝置的還原劑噴射體被配置在：比所述催化劑靠廢氣移動(dòng)方向上游側(cè)，

當(dāng)所述廢氣從所述旁通路徑通過時(shí)，對(duì)所述還原劑噴射體供給冷卻空氣。