[發明專利]用于控制光刻設備的方法、光刻設備以及器件制造方法

有效

• 申請號: 201680053392.5
• 申請日: 2016-08-23
• 公開（公告）號: CN108027572B
• 公開（公告）日: 2020-09-18
• 發明（設計）人: R·M·G·J·昆斯;A·J·唐科布洛克;P·安德里西奧拉;E·F·范韋斯特
• 申請（專利權）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: G03F9/00
• 分類號: G03F9/00
• 代理公司: 北京市金杜律師事務所 11256
• 代理人: 王茂華;呂世磊

1.一種控制光刻設備以制造襯底上的一個或多個器件的方法，所述方法包括：

(a)使用高度傳感器來獲得表示跨所述襯底的形貌變化的高度傳感器數據；以及

(b)使用所述高度傳感器數據來控制所述光刻設備的定位系統，用于在跨所述襯底的多個位置處施加器件圖案，

其中步驟(b)包括：

(b1)標識所述高度傳感器數據被判斷為可靠的一個或多個第一區域以及所述高度傳感器數據被判斷為不太可靠的一個或多個第二區域；

(b2)使用針對所述第一區域的所述高度傳感器數據以及預期的器件特定形貌的先驗知識，來計算針對所述一個或多個第二區域的替代高度數據，以及

(b3)使用所述替代高度數據與來自所述傳感器的所述高度數據的組合來控制所述光刻設備。

2.根據權利要求1所述的方法，其中在步驟(b1)中，至少部分地使用產品布局的知識來標識所述第一區域和所述第二區域。

3.根據權利要求1或2所述的方法，其中在步驟(b1)中，至少部分地使用在先前襯底上進行的測量來標識所述第一區域和所述第二區域。

4.根據權利要求1或2所述的方法，其中在步驟(b2)中，預期的器件特定形貌的所述先驗知識指定第一區域和相鄰的第二區域之間的高度差。

5.根據權利要求4所述的方法，其中使用所指定的高度差以及針對緊鄰所述第二區域的一個或多個第一區域的高度傳感器數據，來計算針對一個第二區域的所述替代高度數據。

6.根據權利要求4所述的方法，其中使用所指定的高度差以及根據針對多個第一區域的高度傳感器數據計算的高度模型，來計算針對一個第二區域的所述替代高度數據，所述多個第一區域不僅是緊鄰所述第二區域的第一區域。

7.根據權利要求1、2、5和6中任一項所述的方法，其中在步驟(b2)中，在用于計算針對第二區域的所述替代高度數據之前，通過利用高度傳感器響應函數進行解卷積來增強針對第一區域的所述高度傳感器數據。

8.一種光刻設備，所述光刻設備包括投影系統和定位系統，所述定位系統用于相對于所述投影系統對圖案形成裝置和襯底進行定位，所述投影系統用于將圖案施加到襯底，所述光刻設備包括：

高度傳感器，用于獲得表示跨所述襯底的形貌變化的高度傳感器數據；以及

控制器，用于使用所述高度傳感器數據來控制所述定位系統，其中所述控制器被布置為：(i)標識高度傳感器數據被判斷為可靠的一個或多個第一區域以及所述高度傳感器數據被判斷為不太可靠的一個或多個第二區域，(ii)使用針對所述第一區域的高度傳感器數據以及預期的器件特定形貌的先驗知識來計算針對所述第二區域的替代高度數據，以及(iii)在控制所述定位系統時使用所述替代高度數據與來自所述傳感器的所述高度數據的組合。

9.根據權利要求8所述的光刻設備，其中所述控制器被布置為：至少部分地使用產品布局的知識來標識所述第一區域和所述第二區域。

10.根據權利要求8或9所述的光刻設備，其中所述控制器被布置為：至少部分地使用在先前襯底上進行的測量來標識所述第一區域和所述第二區域。

11.根據權利要求8或9所述的光刻設備，其中預期的器件特定形貌的所述先驗知識指定第一區域和相鄰的第二區域之間的高度差。

12.一種光刻設備，所述光刻設備包括投影系統和定位系統，所述定位系統用于相對于所述投影系統對圖案形成裝置和襯底進行定位，所述投影系統用于將圖案施加到襯底，所述光刻設備被布置為通過根據權利要求1至7中任一項所述的方法來控制所述定位系統。

13.一種計算機可讀存儲介質，具有存儲在其上的機器可讀指令，所述機器可讀指令用于使通用數據處理設備執行根據權利要求1至7中任一項所述的方法的步驟。