[發明專利]用于處理基板的射頻脈沖反射減量

有效

• 申請號: 201680052937.0
• 申請日: 2016-07-19
• 公開（公告）號: CN108028166B
• 公開（公告）日: 2020-02-18
• 發明（設計）人: 川崎勝正
• 申請（專利權）人: 應用材料公司
• 主分類號: H01J37/32
• 分類號: H01J37/32;H05H1/46
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司 31100
• 代理人: 楊學春;侯穎媖

1.一種操作基板處理系統的方法，包含以下步驟：

(a)在第一時間周期期間從多個RF產生器提供多個脈沖RF功率波形到處理腔室；

(b)確定所述多個脈沖RF功率波形中的每一者的初始反射功率分布；

(c)針對所述多個脈沖RF功率波形中的每一者，

確定所述第一時間周期期間的反射功率的最高水平，并

控制耦接至產生所述脈沖RF功率波形的RF產生器的匹配網絡或產生所述脈沖RF功率波形的所述RF產生器中的至少一者，以減少反射功率的所述最高水平；

(d)確定所述多個脈沖RF功率波形中的每一者的經調整反射功率分布；以及

(e)重復(c)與(d)，直到所述多個脈沖RF功率波形中的每一者的所述經調整反射功率分布在閾值調諧范圍中。

2.如權利要求1所述的方法，其中每一初始反射功率分布包括所述第一時間周期期間的多個不同水平的反射功率。

3.如權利要求1所述的方法，其中所述多個脈沖RF功率波形中的每一者的所述反射功率分布受到任何給定時間提供到所述處理腔室的所有所述脈沖RF功率波形影響。

4.如權利要求1所述的方法，其中所述多個脈沖RF功率波形的第一脈沖RF功率波形是RF源信號。

5.如權利要求4所述的方法，其中所述多個脈沖RF功率波形的第二脈沖RF功率波形是RF偏壓信號。

6.如權利要求1-5中任一者所述的方法，其中所述初始反射功率分布與所述經調整反射功率分布是所測量的反射功率值。

7.如權利要求1-5中任一者所述的方法，其中所述多個脈沖RF功率波形中的每一者的頻率彼此不同。

8.如權利要求1-5中任一者所述的方法，其中所述多個脈沖RF功率波形中的每一者同步。

9.如權利要求1-5中任一者所述的方法，其中控制耦接至產生所述脈沖RF功率波形的所述RF產生器的所述匹配網絡，以減少反射功率的所述最高水平。

10.如權利要求9所述的方法，其中所述匹配網絡包括可變電容器，且其中所述可變電容器經電子或機械調諧，以減少反射功率的所述最高水平。

11.如權利要求1-5中任一者所述的方法，其中控制產生所述脈沖RF功率波形的所述RF產生器，以調整所述脈沖RF功率波形的頻率，以減少反射功率的所述最高水平。

12.如權利要求1-5中任一者所述的方法，其中所述閾值調諧范圍是RF功率波形的最高反射功率與RF功率波形的最低反射功率之間的范圍。

13.如權利要求1-5中任一者所述的方法，其中所述閾值調諧范圍是預定義值。

14.如權利要求1-5中任一者所述的方法，其中應用至所述多個脈沖RF功率波形中的每一者的所述閾值調諧范圍是相同范圍。

15.一種基板處理系統，包含：

多個RF產生器，經配置以在第一時間周期期間提供多個脈沖RF功率波形到處理腔室；

多個傳感器，經配置以測量所述多個脈沖RF功率波形的反射功率；以及

多個匹配網絡，各自耦接到所述多個RF產生器中的一者，其中所述多個匹配網絡中的每一者經配置以：

(a)基于來自所述多個傳感器中的一者的測量，確定所述多個脈沖RF功率波形中的一者的反射功率分布；

(b)確定在所述第一時間周期期間的所述反射功率分布的反射功率的最高水平；

(c)減少反射功率的所述最高水平；

(d)基于來自所述多個傳感器中的一者的第二組測量，確定所述多個脈沖RF功率波形中的每一者的經調整反射功率分布；以及

(e)重復(b)與(d)，直到所述多個脈沖RF功率波形中的每一者的所述經調整反射功率分布在閾值調諧范圍中。