[發(fā)明專利]半透膜及半透膜的制造方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201680052705.5 | 申請(qǐng)日: | 2016-10-12 |
| 公開(公告)號(hào): | CN108025264A | 公開(公告)日: | 2018-05-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 林文弘;室谷保彥 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 住友電工超效能高分子股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | B01D69/10 | 分類號(hào): | B01D69/10;B01D69/12;B01D71/32;C08J9/28 |
| 代理公司: | 北京天昊聯(lián)合知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11112 | 代理人: | 常海濤;高釗 |
| 地址: | 日本*** | 國(guó)省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 半透膜 制造 方法 | ||
1.一種半透膜,包括含有無定形樹脂作為主要成分的半透膜層,以及支持所述半透膜層的片狀支持體,
其中所述支持體具有多孔的第一支持層和層疊于所述第一支持層的一個(gè)表面上的多孔的第二支持層,
所述第二支持層的平均流量孔徑小于所述第一支持層的平均流量孔徑,并且
所述第二支持層被所述半透膜層浸漬。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半透膜,其中所述第二支持層的平均流量孔徑與所述第一支持層的平均流量孔徑之比為1/1,000以上1/5以下。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的半透膜,其中所述第一支持層的平均流量孔徑為0.05μm以上20μm以下,并且所述第二支持層的平均流量孔徑為0.01μm以上1μm以下。
4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的半透膜,其中所述第一支持層的泡點(diǎn)為10kPa以上350kPa以下,并且所述第二支持層的泡點(diǎn)為500kPa以上3000kPa以下。
5.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述的半透膜,其中所述第一支持層的孔隙率為40%以上90%以下,所述第二支持層的孔隙率為30%以上80%以下。
6.根據(jù)權(quán)利要求1至5中任一項(xiàng)所述的半透膜,其中所述半透膜層的平均厚度為0.2μm以上10μm以下。
7.根據(jù)權(quán)利要求1至6中任一項(xiàng)所述的半透膜,其中所述半透膜層浸漬到所述第一支持層和所述第二支持層之間的界面。
8.根據(jù)權(quán)利要求1至7中任一項(xiàng)所述的半透膜,其中所述無定形樹脂為無定形氟樹脂。
9.根據(jù)權(quán)利要求1至8中任一項(xiàng)所述的半透膜,其中所述第一支持層和所述第二支持層均包含氟樹脂作為主要成分。
10.根據(jù)權(quán)利要求1至9中任一項(xiàng)所述的半透膜,其中所述第一支持層包括擴(kuò)張膜。
11.一種制造半透膜的方法,該半透膜包括含有無定形樹脂作為主要成分的半透膜層,以及支持所述半透膜層的片狀支持體,所述方法包括:
層疊多孔的第一支持層和多孔的第二支持層以制備片狀支持體的層疊步驟;
利用無定形樹脂的分散液浸漬所述支持體的分散液浸漬步驟;以及
將浸漬有所述分散液的支持體干燥的干燥步驟,
其中所述第二支持層的平均流量孔徑小于所述第一支持層的平均流量孔徑。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于住友電工超效能高分子股份有限公司,未經(jīng)住友電工超效能高分子股份有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201680052705.5/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 氫燃料制造系統(tǒng)、氫燃料制造方法以及氫燃料制造程序
- 單元控制系統(tǒng)、生產(chǎn)系統(tǒng)以及控制方法
- 制造裝置及制造方法以及制造系統(tǒng)
- 一種三相異步電動(dòng)機(jī)制造工藝方法
- 制造設(shè)備、制造裝置和制造方法
- 用于監(jiān)測(cè)光學(xué)鏡片制造過程的方法
- 產(chǎn)品的制造系統(tǒng)、惡意軟件檢測(cè)系統(tǒng)、產(chǎn)品的制造方法以及惡意軟件檢測(cè)方法
- 一種面向制造服務(wù)的制造能力評(píng)估方法
- 一種基于云制造資源的制造能力建模方法
- 制造設(shè)備系統(tǒng)、制造設(shè)備以及制造方法
- 一種數(shù)據(jù)庫讀寫分離的方法和裝置
- 一種手機(jī)動(dòng)漫人物及背景創(chuàng)作方法
- 一種通訊綜合測(cè)試終端的測(cè)試方法
- 一種服裝用人體測(cè)量基準(zhǔn)點(diǎn)的獲取方法
- 系統(tǒng)升級(jí)方法及裝置
- 用于虛擬和接口方法調(diào)用的裝置和方法
- 線程狀態(tài)監(jiān)控方法、裝置、計(jì)算機(jī)設(shè)備和存儲(chǔ)介質(zhì)
- 一種JAVA智能卡及其虛擬機(jī)組件優(yōu)化方法
- 檢測(cè)程序中方法耗時(shí)的方法、裝置及存儲(chǔ)介質(zhì)
- 函數(shù)的執(zhí)行方法、裝置、設(shè)備及存儲(chǔ)介質(zhì)





