[發(fā)明專利]涂布方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201680052094.4
• 申請日: 2016-09-08
• 公開（公告）號: CN108025328B
• 公開（公告）日: 2021-03-12
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 島谷謙一;友枝哲
• 申請（專利權(quán)）人: 東麗工程株式會社
• 主分類號: B05D1/26
• 分類號: B05D1/26;B05D3/06
• 代理公司: 北京三友知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11127
• 代理人: 于靖帥;喬婉

提供涂布方法，能夠按照預先設(shè)定的形狀形成涂布圖案。具體而言，該涂布方法對形成在基材上的整個圖案區(qū)域涂布涂布液，形成具有圖案區(qū)域(52)的形狀的涂布圖案，圖案區(qū)域(52)的周圍的親液性比圖案區(qū)域(52)低，在圖案區(qū)域(52)內(nèi)設(shè)置有疏液部(54)，該疏液部(54)的親液性比圖案區(qū)域(52)內(nèi)的其他部分低。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及涂布方法，利用噴墨法將涂布液涂布到基材上并形成任意的形狀的涂布膜。

背景技術(shù)

當在基材W上形成任意的形狀的涂布圖案時，以往采用光刻，取而代之近年來大多情況下采用基于噴墨法的涂布。在光刻中，需要涂布、曝光、蝕刻等多個工序且在蝕刻的工序中消耗大量的涂布材料，與此相對，利用該噴墨法，能夠以較少的工序且?guī)缀醪焕速M涂布材料地進行涂布圖案51的形成。

但是，在利用噴墨法形成涂布圖案時，液滴著落在基材W上之后會產(chǎn)生浸潤擴展，因此難以按照預先設(shè)定的形狀形成涂布圖案。特別是在涂布圖案彼此的間隔較窄的情況下，有時涂布圖案彼此連接，有可能無法發(fā)揮對該涂布圖案所期待的性能。因此，如下述專利文獻1所示，有時采用下述方法：預先按照涂布圖案的形狀提高基材W的親液性，再對該部分噴出液滴。這樣，液滴在親液性高的部分內(nèi)浸潤擴展，因此能夠容易地形成預先設(shè)定的形狀的涂布圖案。

現(xiàn)有技術(shù)文獻

專利文獻

專利文獻1：日本特開2005-109390號公報

發(fā)明內(nèi)容

發(fā)明要解決的課題

但是，即使在通過上述方法形成了涂布圖案的情況下，也有可能無法精度良好地得到任意的形狀的涂布圖案。具體而言，如圖6的(a)那樣在基材W上按照涂布圖案的形狀預先形成親液性比周圍高的圖案區(qū)域91，在該圖案區(qū)域91上涂布液滴而形成圖6的(b)所示的涂布圖案92，此時如圖6的(b)中箭頭所示，對涂布圖案92作用有表面張力，因此涂布圖案92被拉向涂布圖案92的中央部，如圖6的(c)所示，例如有可能在涂布圖案92的角部產(chǎn)生非填充部93。

本發(fā)明是鑒于上述問題而完成的，其目的在于提供涂布方法，能夠按照預先設(shè)定的形狀形成涂布圖案。

用于解決課題的手段

為了解決上述課題，本發(fā)明的涂布方法對形成在基材上的整個圖案區(qū)域涂布涂布液，形成具有所述圖案區(qū)域的形狀的涂布圖案，其特征在于，所述圖案區(qū)域的周圍的親液性比所述圖案區(qū)域的親液性低，在所述圖案區(qū)域內(nèi)設(shè)置有疏液部，該疏液部的親液性比所述圖案區(qū)域內(nèi)的其他部分的親液性低。

根據(jù)上述涂布方法，設(shè)置有疏液部，由此，雖然涂布圖案被表面張力拉向中央，但在疏液部產(chǎn)生推回涂布圖案的作用，因此能夠抑制表面張力所導致的涂布圖案的變形。

另外，所述疏液部可以設(shè)置在所述圖案區(qū)域內(nèi)的至少角部附近。

這樣，能夠在最有可能產(chǎn)生表面張力所導致的涂布圖案的變形的角部抑制涂布圖案的變形，能夠得到更高精度的形狀的涂布圖案。

另外，所述疏液部的尺寸可以小于涂布液的飛行直徑。

這樣，能夠防止未在疏液部上填充涂布液而在涂布圖案上開孔。

另外，最接近所述角部的所述疏液部與所述角部之間的距離可以為涂布液的所述飛行直徑的1/20倍至3倍之間。

這樣，能夠精度更良好地形成涂布圖案角部的形狀。

發(fā)明效果

根據(jù)本發(fā)明的涂布方法，能夠按照預先設(shè)定的形狀形成涂布圖案。

附圖說明

圖1是示出用于進行本發(fā)明的一個實施方式中的涂布方法的涂布裝置的概略圖。