[發明專利]涂覆設備有效
| 申請號: | 201680051966.5 | 申請日: | 2016-07-29 |
| 公開(公告)號: | CN108026641B | 公開(公告)日: | 2021-07-16 |
| 發明(設計)人: | I·R·威廉姆斯;D·雷茲貝克;D·M·尼爾森;K·D·桑德森 | 申請(專利權)人: | 皮爾金頓集團有限公司 |
| 主分類號: | C23C16/54 | 分類號: | C23C16/54;C03C17/00 |
| 代理公司: | 中國貿促會專利商標事務所有限公司 11038 | 代理人: | 李躍龍 |
| 地址: | 英國蘭*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 設備 | ||
1.一種用于涂覆三維玻璃制品的設備,包括:
通道,該通道具有頂部和第一與第二側壁,適合于布置在傳送帶上,使得傳送帶將制品從上游端運送到下游端,在該上游端制品進入通道,在下游端制品離開通道,
其特征在于:
布置在至少一個側壁上的線性噴嘴陣列以輸送氣體射流,該射流橫穿通過所述通道輸送的制品的路徑;
布置在側壁上的至少一個排氣孔,該排氣孔位于比線性噴嘴陣列更靠近下游端,以及
用于將負壓施加到排氣孔的裝置,
其中所述設備還包括阻尼板,其可移動以改變排氣孔的有效尺寸。
2.根據權利要求1所述的設備,包括一對入口噴嘴陣列,在每個側壁上布置一個陣列,在所述通道中彼此相對。
3.根據權利要求2所述的設備,包括一對排氣孔,所述排氣孔布置成在每個側壁上具有一個孔,在所述通道中彼此相對。
4.根據權利要求3所述的設備,其中該對入口噴嘴陣列與該對排氣孔之間的距離在500mm與1000mm之間。
5.根據前述權利要求中任一項所述的設備,還包括至少一個反射板,所述反射板布置成將從玻璃制品輻射的熱引導到線性噴嘴陣列。
6.根據權利要求1所述的設備,其中所述排氣孔由垂直的導管限定,所述導管包括壁和擋板,所述擋板從所述通道延伸并遠離所述下游端延伸到所述導管的壁。
7.根據權利要求1所述的設備,其中所述通道的橫截面積是排氣孔的橫截面積的1.5至2.5倍。
8.根據權利要求1所述的設備,其中流過所述通道的空氣的動能密度K空氣是離開噴嘴的氣體的動能密度K射流的0.1至3倍,其中:
K空氣=空氣密度×涂覆機寬度×瓶子速度2[單位J/m2]和
K射流=涂覆前體密度×噴嘴寬度×射流速度2[單位J/m2]。
9.根據權利要求1所述的設備,其中布置至少一個噴嘴陣列使得離開噴嘴的氣體的速度包括與通過通道傳送的制品的總體方向平行的分量。
10.根據權利要求1所述的設備,包括位于離通道的端部第一距離處的至少一個噴嘴陣列和位于離所述通道的端部第二距離處的至少一個噴嘴陣列。
11.根據權利要求1所述的設備,還包括用于加熱至少一個噴嘴陣列的裝置。
12.根據權利要求11所述的設備,其中用于加熱至少一個噴嘴陣列的裝置包含陣列位于其中的外殼和用于加熱外殼內部的裝置。
13.根據權利要求12所述的設備,其中用于加熱外殼內部的裝置包含電加熱元件。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





