[發明專利]光催化劑性能的模擬方法

在審

• 申請號: 201680051956.1
• 申請日: 2016-08-31
• 公開（公告）號: CN108027841A
• 公開（公告）日: 2018-05-11
• 發明（設計）人: 新田晃久;日下隆夫;佐藤光;中野佳代;豐島正規;福士大輔;佐田豐
• 申請（專利權）人: 株式會社東芝;東芝高新材料公司
• 主分類號: G06F17/50
• 分類號: G06F17/50
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038
• 代理人: 劉強

1.光催化劑性能的模擬方法，其推定將光催化劑涂布于房間內之后的所述房間內的氣味成分濃度，其具備：

選擇選自所述光催化劑的涂布前的所述房間內的氣味成分濃度Cb(單位：g/m3)、所述房間的容積V(單位：m3)、所述房間的每單位時間的換氣次數n(單位：次/h)、所述房間內的水蒸氣量W(單位：g/m3)、所述房間內的溫度T(單位：℃)、所述光催化劑的涂布面的照度I(單位：Ix)、及所述光催化劑的涂布面附近的風速S(單位：m/s)構成的組中的至少1個作為涂布所述光催化劑的所述房間的環境條件的工序；

基于選擇的所述房間的環境條件，設定選自所述光催化劑的涂布面密度Ad(單位:g/m2)及所述光催化劑的涂布面積Aa(單位：m2)構成的組中的至少1個作為所述光催化劑向所述房間內的涂布條件的工序；以及

基于所述光催化劑的基本性能、所述房間的環境條件、及所述光催化劑的涂布條件算出所述光催化劑的涂布后的所述房間內的氣味成分濃度Ca(單位：g/m3)的工序。

2.根據權利要求1所述的模擬方法，其具備如下的工序：將所述算出的所述房間內的氣味成分濃度Ca與所述房間內的所述氣味成分濃度的基準值相比較，判定所述光催化劑的所述涂布面密度Ad及所述涂布面積Aa的良否。

3.根據權利要求1所述的模擬方法，其中，作為所述房間的環境條件，選擇所述光催化劑的涂布前的所述房間內的氣味成分濃度Cb、所述房間的容積V、所述房間的每單位時間的換氣次數n、所述房間內的水蒸氣量W、所述房間內的溫度T、所述光催化劑的涂布面的照度I、及所述光催化劑的涂布面附近的風速S，

作為所述光催化劑的涂布條件，設定所述光催化劑的涂布面密度Ad及涂布面積Aa，

基于所述光催化劑的基本性能、所述房間的環境條件、及所述光催化劑的涂布條件，算出所述光催化劑引起的所述氣味成分的分解速度D(單位：g/h)，

由所述氣味成分的分解速度D及所述房間的環境條件算出所述光催化劑的涂布后的所述房間內的氣味成分濃度Ca。

4.根據權利要求3所述的模擬方法，其中，基于下述的式(1)算出所述光催化劑的涂布后的所述房間內的氣味成分濃度Ca，

Ca＝Cb-D/(V×n)…(1)

式(1)中，Cb為所述光催化劑的涂布前的所述房間內的氣味成分濃度，D為所述光催化劑引起的所述氣味成分的分解速度，V為所述房間的容積，n為所述房間的每單位時間的換氣次數。

5.根據權利要求4所述的模擬方法，其中，基于下述的式(2)算出所述光催化劑引起的所述氣味成分的分解速度D，

D＝f(p，q，r，s，t，u，w)…(2)

式(2)中，p為與所述涂布面密度Ad有關的修正系數，q為與所述涂布面積Aa有關的修正系數，r為與所述氣味成分濃度Cb有關的修正系數，s為與所述水蒸氣量W有關的修正系數，t為與所述溫度T有關的修正系數，u為與所述照度I有關的修正系數，w為與所述風速S有關的修正系數。

6.根據權利要求4所述的模擬方法，其中，基于下述的式(3)算出所述光催化劑引起的所述氣味成分的分解速度D，

D＝D0×p×q×r×s×t×u×w…(3)

式(3)中，D0為所述光催化劑引起的所述氣味成分的標準分解速度，p為與所述涂布面密度Ad有關的修正系數、q為與所述涂布面積Aa有關的修正系數，r為與所述氣味成分濃度Cb有關的修正系數，s為與所述水蒸氣量W有關的修正系數，t為與所述溫度T有關的修正系數，u為與所述照度I有關的修正系數，w為與所述風速S有關的修正系數。