[發(fā)明專利]光學(xué)裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201680051311.8 | 申請(qǐng)日： | 2016-12-02 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN107924086B | 公開（公告）日： | 2023-07-25 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 樸智勛;全炳建;蔡升訓(xùn);李晟珉;金正云 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 株式會(huì)社LG化學(xué) |
| 主分類號(hào)： | G02F1/1335 | 分類號(hào)： | G02F1/1335;G02B5/30 |
| 代理公司： | 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227 | 代理人： | 蔡勝有;蘇虹 |
| 地址： | 韓國(guó)*** | 國(guó)省代碼： | 暫無(wú)信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 光學(xué) 裝置 | ||
1.一種光學(xué)裝置，具有：
第一基底；
位于所述第一基底上的第一偏光層；以及
包括具有液晶化合物的液晶層的液晶窗，其中所述液晶窗位于所述第一偏光層的載有所述第一基底的相反側(cè)上，
其中在100℃下持續(xù)240小時(shí)的耐熱性試驗(yàn)之后透射率變化率為±10％或更小，
其中所述第一基底的彈性模量為20GPa至150GPa，以及
其中：
所述第一偏光層與所述液晶窗直接接觸，并且所述液晶窗包含僅位于所述液晶層的載有所述第一偏光層的相反側(cè)上的一個(gè)基礎(chǔ)層，
其中所述基礎(chǔ)層為聚合物膜，以及
所述基礎(chǔ)層的彈性模量為0.5GPa至15GPa。
2.一種光學(xué)裝置，具有：
第一基底；
位于所述第一基底上的第一偏光層；以及
包括具有液晶化合物的液晶層的液晶窗，其中所述液晶窗位于所述第一偏光層的載有所述第一基底的相反側(cè)上，
其中在100℃下持續(xù)240小時(shí)的耐熱性試驗(yàn)之后透射率變化率為±10％或更小，
其中所述第一基底的彈性模量為20GPa至150GPa，以及
其中：
所述液晶窗包括在所述液晶層的兩側(cè)上的基礎(chǔ)層，并且所述第一偏光層經(jīng)由流體壓敏粘合劑層附接至所述液晶窗，
其中所述基礎(chǔ)層為聚合物膜，以及
所述基礎(chǔ)層的彈性模量為0.5GPa至15GPa。
3.一種光學(xué)裝置，具有：
第一基底；
位于所述第一基底上的第一偏光層；
包括具有液晶化合物的液晶層的液晶窗，其中所述液晶窗位于所述第一偏光層的載有所述第一基底的相反側(cè)上，以及
位于所述液晶窗的與所述第一偏光層接觸的表面的相反側(cè)上的第二基底，
其中在100℃下持續(xù)240小時(shí)的耐熱性試驗(yàn)之后透射率變化率為±10％或更小，
其中所述第一基底的彈性模量為20GPa至150GPa，以及
其中：
所述液晶窗包括在所述液晶層的兩側(cè)上的基礎(chǔ)層，并且所述第一偏光層直接接觸所述第一基底和所述液晶窗，
其中所述基礎(chǔ)層為聚合物膜，以及
所述基礎(chǔ)層的彈性模量為0.5GPa至15GPa。
4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的光學(xué)裝置，其中
所述光學(xué)裝置通過外部作用在透射模式與阻擋模式之間切換，在所述透射模式中可見光區(qū)的透射率為15％或更大，在所述阻擋模式中可見光區(qū)的透射率為3％或更小。
5.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的光學(xué)裝置，其中
所述第一基底的熱膨脹系數(shù)為100ppm/K或更小。
6.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的光學(xué)裝置，其中
在沒有外部作用的情況下，所述第一偏光層的吸收軸和所述液晶層的光軸形成0度至90度的角。
7.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的光學(xué)裝置，其中
所述液晶化合物為近晶型、向列型或膽甾型液晶化合物。
8.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的光學(xué)裝置，其中
所述液晶層還包含二色性比為1至30的各向異性染料。
9.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的光學(xué)裝置，其中
所述液晶層的厚度為5μm至30μm。
10.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的光學(xué)裝置，其中
所述基礎(chǔ)層的彈性模量為0.5GPa至10GPa。
11.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的光學(xué)裝置，其中
所述基礎(chǔ)層的熱膨脹系數(shù)為100ppm/K或更小。
12.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光學(xué)裝置，其中
所述流體壓敏粘合劑層是在25℃下的動(dòng)態(tài)粘度為10000cSt至100000cSt的流體壓敏粘合劑層。
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G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置，例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào)，上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的；用于上述操作的技術(shù)或工藝；變頻；非線性光學(xué)；光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置，例如，轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制；非線性光學(xué)
G02F1-01 .對(duì)強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制，即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的
