[發(fā)明專利]減反射膜

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201680051166.3
• 申請(qǐng)日: 2016-12-27
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN107921757B
• 公開(kāi)（公告）日: 2021-04-02
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 金芙敬;張影來(lái);張錫勛;邊真錫
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 株式會(huì)社LG化學(xué)
• 主分類號(hào): B32B27/08
• 分類號(hào): B32B27/08;B32B27/36;C09D5/00;C09D4/00
• 代理公司: 北京鴻元知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11327
• 代理人: 李靜;張?jiān)浦?/td>

1.一種減反射膜，包含：面內(nèi)相位差值(Rin)為3,000nm至30,000nm的聚酯薄膜，其中，面內(nèi)相位差值(Rin)與厚度方向相位差值(Rth)的比(Rin/Rth)為0.2至1.2；以及

設(shè)置在所述聚酯薄膜上的低折射率層，該低折射率層是包含可光聚合的化合物、無(wú)機(jī)粒子、含有光反應(yīng)性官能團(tuán)的氟系化合物和被至少一個(gè)反應(yīng)性官能團(tuán)取代的聚倍半硅氧烷的可光固化的涂層組合物的交聯(lián)聚合物，

其中，所述含有光反應(yīng)性官能團(tuán)的氟系化合物的重均分子量為2,000g/mol至200,000g/mol，

其中，所述氟系化合物含有由硅化合物衍生的側(cè)鏈或重復(fù)單元，基于氟系化合物，硅的含量為0.1重量％至20重量％，

其中，所述被至少一個(gè)反應(yīng)性官能團(tuán)取代的聚倍半硅氧烷包括被至少一個(gè)反應(yīng)性官能團(tuán)取代的具有籠形結(jié)構(gòu)的多面體低聚倍半硅氧烷，

其中，將反應(yīng)性官能團(tuán)引入到所述多面體低聚倍半硅氧烷的至少一個(gè)硅原子中，并且沒(méi)有引入反應(yīng)性官能團(tuán)的硅原子被非反應(yīng)性官能團(tuán)取代。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的減反射膜，其中，所述聚酯薄膜是聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯或聚萘二甲酸乙二醇酯的單軸拉伸膜或雙軸拉伸膜。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的減反射膜，其中，所述可光固化的涂層組合物包含含有(甲基)丙烯酰基或乙烯基的單體或低聚物作為可光聚合的化合物。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的減反射膜，其中，基于100重量份的所述可光聚合的化合物，所述可光固化的涂層組合物包含0.5重量份至30重量份的被至少一個(gè)反應(yīng)性官能團(tuán)取代的聚倍半硅氧烷。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的減反射膜，其中，在所述聚倍半硅氧烷中取代的反應(yīng)性官能團(tuán)包括選自醇、胺、羧酸、環(huán)氧化物、酰亞胺、(甲基)丙烯酸酯、腈、降冰片烯、烯烴和乙烯基中的至少一種官能團(tuán)。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的減反射膜，其中，所述氟系化合物中含有的光反應(yīng)性官能團(tuán)是選自(甲基)丙烯酰基、環(huán)氧基、乙烯基和巰基中的至少一種官能團(tuán)。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的減反射膜，其中，基于100重量份的所述可光聚合的化合物，所述可光固化的涂層組合物包含1重量份至75重量份的所述含有光反應(yīng)性官能團(tuán)的氟系化合物。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的減反射膜，其中，所述無(wú)機(jī)粒子包括數(shù)均粒徑為10nm至100nm的中空二氧化硅粒子。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的減反射膜，其中，基于100重量份的所述可光聚合的化合物，所述可光固化的涂層組合物包含10重量份至350重量份的所述中空二氧化硅粒子。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的減反射膜，其中，在所述聚酯薄膜和所述低折射率層之間插入有硬涂層。

11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的減反射膜，其中，所述硬涂層實(shí)現(xiàn)防眩光功能、防擦傷功能、抗靜電功能或這些功能中的兩種以上的組合。