[發明專利]復合制品及其制備方法

有效

• 申請號: 201680047422.1
• 申請日: 2016-08-18
• 公開（公告）號: CN107922656B
• 公開（公告）日: 2019-06-14
• 發明（設計）人: R·S·克洛;J·C·斯帕格諾拉;C·S·萊昂斯;M·D·韋格爾;T·P·科倫
• 申請（專利權）人: 3M創新有限公司
• 主分類號: C08J7/04
• 分類號: C08J7/04
• 代理公司: 北京市金杜律師事務所 11256
• 代理人: 李勇;呂小羽

本發明公開了一種復合制品，所述復合制品包括基底、基部聚合物層、無機阻擋層、和頂部聚合物層。將所述基部聚合物層設置在所述基底上，并且包含組分的聚合反應產物，所述組分包含至少60重量％的由下式表示的至少一種二(甲基)丙烯酸酯：其中：每個R¹獨立地為H或甲基；并且每個R²獨立地表示具有1至4個碳原子的烷基基團，或者兩個R²基團可一起形成具有2至7個碳原子的亞烷基基團。將無機阻擋層粘結到所述基部聚合物層上。將所述頂部聚合物層設置在與所述基底相背對的所述無機阻擋層上，其中所述頂部聚合物層包含組分的聚合反應產物，所述組分包含至少60重量％的具有13至24個碳原子的脂環族(甲基)丙烯酸酯。

技術領域

本公開廣義上涉及包括無機阻擋層的復合制品及其制備方法。

背景技術

聚合物和氧化物諸如氧化鋁或氧化硅的層沉積在柔性聚合物膜上以制備耐濕氣滲透的阻擋膜。這些阻擋膜可通過多種生產方法來制備，包括液體涂布技術，諸如溶液涂布、輥涂、浸涂、噴涂、旋涂；以及涂布技術如化學氣相沉積(CVD)、等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)、濺射和用于液體和/或固體材料的熱蒸鍍(thermal evaporation)的真空工藝。此類阻擋膜和工藝的示例可見于美國專利5,440,446(Shaw等人)；5,877,895(Shaw等人)；6,010,751(Shaw等人)；7,018,713(Padiyath等人)；和6,413,645(Graff等人)。這些阻擋膜在顯示器、照明和太陽能市場中作為玻璃封裝材料的柔性替代品有著眾多應用。

太陽能技術如有機光伏器件(OPV)、鈣鈦礦太陽能電池和薄膜太陽能電池如銅銦鎵二硒(CIGS)需要保護以免受水蒸氣和氧氣之害并且需要在戶外環境中耐久(例如，對紫外(UV)光)。通常，已使用玻璃作為此類太陽能器件的封裝材料，因為玻璃是非常好的水蒸氣屏障、光學透明且對UV光穩定。然而，玻璃笨重、易碎、難以制成柔性的，并且難以搬運。

美國專利申請公布2012/0003448 A1(Weigel等人)描述了一種包括阻擋層的組件，該阻擋層插置在聚合物膜基底和壓敏粘合劑層之間。

發明內容

一直需要阻擋膜和包括阻擋膜的其它制品，其具有在耐光性和耐候性方面優異的耐久性。具體地，需要柔性的透明多層阻擋膜，其對光降解和光氧化具有優異的耐受性。

第一方面，本公開提供一種復合制品，該復合制品包括：

基底；

設置在基底上的基部聚合物層，其中該基部聚合物層包含可聚合基部組分的聚合反應產物，該可聚合基部組分包含至少60重量％的至少一種由下式表示的二(甲基)丙烯酸酯：

其中：

每個R¹獨立地為H或甲基；并且

每個R²獨立地表示具有1至4個碳原子的烷基基團，或者兩個R²基團可一起形成具有2至7個碳原子的亞烷基基團；

粘結到基部聚合物層的無機阻擋層；以及

設置在與基底相背對的無機阻擋層上的頂部聚合物層，其中頂部聚合物層包含可聚合頂部組分的聚合反應產物，該可聚合頂部組分包含至少60重量％的具有13至24個碳原子的脂環族(甲基)丙烯酸酯，其中除取代基之外的環結構由6至14個選自C、N、O和S的原子構成。

在第二方面，本公開提供一種制備復合制品的方法，該方法按順序包括：

將基部聚合物層設置在基底上，其中該基部聚合物層包含可聚合基部組分的聚合反應產物，該可聚合基部組分包含至少60重量％的至少一種由下式表示的二(甲基)丙烯酸酯：