[發明專利]經由激光能量調制來穩定液滴-等離子體相互作用的系統和方法有效
| 申請號： | 201680047342.6 | 申請日： | 2016-08-10 |
| 公開（公告）號： | CN108029186B | 公開（公告）日： | 2021-12-24 |
| 發明（設計）人： | D·里格斯;R·拉法克 | 申請（專利權）人： | ASML荷蘭有限公司 |
| 主分類號： | H05G2/00 | 分類號： | H05G2/00;H05H1/42 |
| 代理公司： | 北京市金杜律師事務所 11256 | 代理人： | 王茂華;呂世磊 |
| 地址： | 荷蘭維*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 經由 激光 能量 調制 穩定 等離子體 相互作用 系統 方法 | ||
1.一種經由激光能量調制來穩定液滴-等離子體相互作用的方法，包括：
使用極紫外(EUV)能量檢測器來測量由第一激光脈沖生成的EUV能量的量，所述第一激光脈沖撞擊激光產生等離子體(LPP)EUV系統的等離子體室中的第一液滴；
基于所測量的、由撞擊所述等離子體室中的所述第一液滴的所述第一激光脈沖生成的EUV能量的量，使用EUV控制器來計算第一修改的激光脈沖能量；
通過所述EUV控制器，指示所述激光源遞送具有所計算的第一修改的能量的第二激光脈沖，由此改變所述等離子體室中的第二液滴的飛行；
使用所述EUV能量檢測器，測量由所述第二激光脈沖生成的EUV能量的量，所述第二激光脈沖撞擊所述等離子體室中的所述第二液滴；
基于所測量的、由撞擊所述等離子體室中的所述第二液滴的所述第二激光脈沖生成的EUV能量的量，使用所述EUV控制器計算第二修改的激光脈沖能量；以及
通過所述EUV控制器，指示所述激光源遞送具有所計算的第二修改的能量的第三激光脈沖，由此改變所述等離子體室中的第三液滴的飛行；
其中用于改變所述等離子體室中的第二液滴的飛行的所述第一修改的激光脈沖能量和用于改變所述等離子體室中的第三液滴的飛行的所述第二修改的激光脈沖能量穩定所生成的EUV能量的量。
2.根據權利要求1所述的方法，其中計算所述第一修改的激光脈沖能量以及計算所述第二修改的激光脈沖能量包括使用比例-積分(PI)控制器算法。
3.根據權利要求2所述的方法，其中所述PI控制器算法的比例項在0.0與0.5之間，并且所述PI控制器算法的積分項在0.0與1.0之間。
4.一種經由激光能量調制來穩定液滴-等離子體相互作用的系統，包括：
極紫外(EUV)能量檢測器，被配置為測量由第一激光脈沖生成的EUV能量的第一量，所述第一激光脈沖撞擊激光產生等離子體(LPP)EUV系統的等離子體室中的第一液滴；以及
EUV控制器，被配置為：
基于所測量的、由撞擊所述等離子體室中的所述第一液滴的所述第一激光脈沖生成的EUV能量的量，計算第一修改的激光脈沖能量，以及
指示所述激光源遞送具有所計算的第一修改的能量的第二激光脈沖，由此改變所述等離子體室中的第二液滴的飛行；
并且其中：
所述EUV能量檢測器被進一步配置為測量由第二激光脈沖生成的EUV能量的第二量，所述第二激光脈沖撞擊所述激光產生等離子體(LPP)EUV系統的所述等離子體室中的第二液滴；并且
所述EUV控制器被進一步被配置為：
基于所測量的、由撞擊所述等離子體室中的所述第二液滴的所述第二激光脈沖生成的EUV能量的量，計算第二修改的激光脈沖能量；并且
指示所述激光源遞送具有所計算的第二修改的能量的第三激光脈沖，由此改變所述等離子體室中的第三液滴的飛行；
其中用于改變所述等離子體室中的第二液滴的飛行的所述第一修改的激光脈沖能量和用于改變所述等離子體室中的第三液滴的飛行的所述第二修改的激光脈沖能量穩定所生成的EUV能量的量。
5.根據權利要求4所述的系統，其中所述EUV控制器被配置為：使用比例-積分(PI)控制器算法來確定所述第一修改的激光脈沖能量和所述第二修改的激光脈沖能量。
6.根據權利要求5所述的系統，其中所述PI控制器算法的比例項在0.0與0.5之間，并且所述PI控制器算法的積分項在0.0與1.0之間。
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