[發(fā)明專利]經(jīng)由激光能量調(diào)制來(lái)穩(wěn)定液滴-等離子體相互作用的系統(tǒng)和方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201680047342.6 | 申請(qǐng)日： | 2016-08-10 |
| 公開(kāi)（公告）號(hào)： | CN108029186B | 公開(kāi)（公告）日： | 2021-12-24 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | D·里格斯;R·拉法克 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | ASML荷蘭有限公司 |
| 主分類號(hào)： | H05G2/00 | 分類號(hào)： | H05G2/00;H05H1/42 |
| 代理公司： | 北京市金杜律師事務(wù)所 11256 | 代理人： | 王茂華;呂世磊 |
| 地址： | 荷蘭維*** | 國(guó)省代碼： | 暫無(wú)信息 |
| 權(quán)利要求書(shū)： | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū)： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 經(jīng)由 激光 能量 調(diào)制 穩(wěn)定 等離子體 相互作用 系統(tǒng) 方法 | ||
1.一種經(jīng)由激光能量調(diào)制來(lái)穩(wěn)定液滴-等離子體相互作用的方法，包括：
使用極紫外(EUV)能量檢測(cè)器來(lái)測(cè)量由第一激光脈沖生成的EUV能量的量，所述第一激光脈沖撞擊激光產(chǎn)生等離子體(LPP)EUV系統(tǒng)的等離子體室中的第一液滴；
基于所測(cè)量的、由撞擊所述等離子體室中的所述第一液滴的所述第一激光脈沖生成的EUV能量的量，使用EUV控制器來(lái)計(jì)算第一修改的激光脈沖能量；
通過(guò)所述EUV控制器，指示所述激光源遞送具有所計(jì)算的第一修改的能量的第二激光脈沖，由此改變所述等離子體室中的第二液滴的飛行；
使用所述EUV能量檢測(cè)器，測(cè)量由所述第二激光脈沖生成的EUV能量的量，所述第二激光脈沖撞擊所述等離子體室中的所述第二液滴；
基于所測(cè)量的、由撞擊所述等離子體室中的所述第二液滴的所述第二激光脈沖生成的EUV能量的量，使用所述EUV控制器計(jì)算第二修改的激光脈沖能量；以及
通過(guò)所述EUV控制器，指示所述激光源遞送具有所計(jì)算的第二修改的能量的第三激光脈沖，由此改變所述等離子體室中的第三液滴的飛行；
其中用于改變所述等離子體室中的第二液滴的飛行的所述第一修改的激光脈沖能量和用于改變所述等離子體室中的第三液滴的飛行的所述第二修改的激光脈沖能量穩(wěn)定所生成的EUV能量的量。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中計(jì)算所述第一修改的激光脈沖能量以及計(jì)算所述第二修改的激光脈沖能量包括使用比例-積分(PI)控制器算法。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其中所述PI控制器算法的比例項(xiàng)在0.0與0.5之間，并且所述PI控制器算法的積分項(xiàng)在0.0與1.0之間。
4.一種經(jīng)由激光能量調(diào)制來(lái)穩(wěn)定液滴-等離子體相互作用的系統(tǒng)，包括：
極紫外(EUV)能量檢測(cè)器，被配置為測(cè)量由第一激光脈沖生成的EUV能量的第一量，所述第一激光脈沖撞擊激光產(chǎn)生等離子體(LPP)EUV系統(tǒng)的等離子體室中的第一液滴；以及
EUV控制器，被配置為：
基于所測(cè)量的、由撞擊所述等離子體室中的所述第一液滴的所述第一激光脈沖生成的EUV能量的量，計(jì)算第一修改的激光脈沖能量，以及
指示所述激光源遞送具有所計(jì)算的第一修改的能量的第二激光脈沖，由此改變所述等離子體室中的第二液滴的飛行；
并且其中：
所述EUV能量檢測(cè)器被進(jìn)一步配置為測(cè)量由第二激光脈沖生成的EUV能量的第二量，所述第二激光脈沖撞擊所述激光產(chǎn)生等離子體(LPP)EUV系統(tǒng)的所述等離子體室中的第二液滴；并且
所述EUV控制器被進(jìn)一步被配置為：
基于所測(cè)量的、由撞擊所述等離子體室中的所述第二液滴的所述第二激光脈沖生成的EUV能量的量，計(jì)算第二修改的激光脈沖能量；并且
指示所述激光源遞送具有所計(jì)算的第二修改的能量的第三激光脈沖，由此改變所述等離子體室中的第三液滴的飛行；
其中用于改變所述等離子體室中的第二液滴的飛行的所述第一修改的激光脈沖能量和用于改變所述等離子體室中的第三液滴的飛行的所述第二修改的激光脈沖能量穩(wěn)定所生成的EUV能量的量。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的系統(tǒng)，其中所述EUV控制器被配置為：使用比例-積分(PI)控制器算法來(lái)確定所述第一修改的激光脈沖能量和所述第二修改的激光脈沖能量。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的系統(tǒng)，其中所述PI控制器算法的比例項(xiàng)在0.0與0.5之間，并且所述PI控制器算法的積分項(xiàng)在0.0與1.0之間。
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