[發明專利]具有增強型提取器端口的漿料混合器閘門

在審

• 申請號: 201680047259.9
• 申請日: 2016-08-23
• 公開（公告）號: CN107995877A
• 公開（公告）日: 2018-05-04
• 發明（設計）人: R·E·申克;J·R·威特博德
• 申請（專利權）人: 美國石膏公司
• 主分類號: B01F15/02
• 分類號: B01F15/02;B01F7/00
• 代理公司: 北京市金杜律師事務所11256
• 代理人: 蘇娟

1.一種用于傳遞來自石膏漿料混合器的混合漿料的排放閘門，包括：

第一提取器端口，被配置成用于產生第一石膏層的第一密度漿料；

第二提取器端口，被配置成用于產生第二石膏層的第二密度漿料；以及

通道，由所述排放閘門的前面板和側面板界定以供傳遞來自所述漿料混合器的所述第一密度漿料和所述第二密度漿料，

其中所述第一提取器端口從所述排放閘門的所述前面板以半切線方式延伸，且經由所述通道和安置在所述第一提取器端口內以供傳遞所述第一密度漿料的第一漿料過道而以流體連通的形式與所述前面板連接。

2.根據權利要求1所述的排放閘門，其中所述第二提取器端口從所述排放閘門的所述側面板橫向地延伸，且經由所述通道和安置在所述第二提取器端口內以供傳遞所述第二密度漿料的第二漿料過道而以流體連通的形式與所述側面板連接。

3.根據權利要求1所述的排放閘門，其中鋸齒狀底座安置在所述前面板的一端處，且所述前面板的另一端附接到所述側面板。

4.根據權利要求1所述的排放閘門，其中被配置成用于接納所述混合漿料的凹穴安置在所述前面板的內部表面上。

5.根據權利要求4所述的排放閘門，其中所述凹穴具有圍繞所述凹穴的上部外圍圓周逐漸傾斜的坡道，其連續地沿循所述凹穴的外緣的輪廓。

6.根據權利要求4所述的排放閘門，其中所述凹穴在第一面板的一端附近開始，且在所述第一漿料過道的開口附近的相對端處結束。

7.根據權利要求4所述的排放閘門，其中所述凹穴具有由所述凹穴的內部表面界定的預定角度，所述角度是在所述凹穴的相對于所述第一提取器端口的縱向軸線的相對邊緣之間所測量，且當從側面觀看時，所述第一漿料過道的開口完全包圍在由所述凹穴界定的空間內。

8.根據權利要求1所述的排放閘門，其中鄰近于所述第二漿料過道的第二開口來安置所述第一漿料過道的第一開口。

9.根據權利要求1所述的排放閘門，其中所述第一提取器端口和所述第二提取器端口中的至少一個具有定位在對應漿料過道上的至少一個注入開口。

10.根據權利要求1所述的排放閘門，其中所述第一提取器端口以相對于所述第一提取器端口和所述前面板的縱向軸線的預定角度從所述前面板的外部表面逐漸傾斜預定距離。