[發(fā)明專利]密封蓋層的井下完井系統(tǒng)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201680046651.1 | 申請(qǐng)日： | 2016-08-17 |
| 公開(kāi)（公告）號(hào)： | CN107923230B | 公開(kāi)（公告）日： | 2020-12-04 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | P·黑澤爾 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 韋爾泰克油田解決方案股份公司 |
| 主分類號(hào)： | E21B23/06 | 分類號(hào)： | E21B23/06;E21B33/127 |
| 代理公司： | 北京市中咨律師事務(wù)所 11247 | 代理人： | 黃麗娜;吳鵬 |
| 地址： | 瑞士*** | 國(guó)省代碼： | 暫無(wú)信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 密封 蓋層 井下 系統(tǒng) | ||
1.環(huán)狀屏障在無(wú)水泥型井下完井系統(tǒng)(1)中的應(yīng)用，其中，所述環(huán)狀屏障包括安裝為第一金屬井管結(jié)構(gòu)(10)的一部分的管狀金屬部件(12)，所述第一金屬井管結(jié)構(gòu)布置在地層(4)中的井孔(8)中，所述環(huán)狀屏障對(duì)著不可滲透的蓋層(5)布置在所述地層中，所述不可滲透的蓋層具有上端部(6)和下端部(7)，
所述環(huán)狀屏障包括：
第一環(huán)狀屏障(11、11a)和第二環(huán)狀屏障(11、11b)，每個(gè)環(huán)狀屏障包括：
-管狀金屬部件(12)，所述管狀金屬部件安裝為所述第一金屬井管結(jié)構(gòu)的一部分；
-圍繞所述管狀金屬部件的可膨脹管結(jié)構(gòu)(14)，所述可膨脹管結(jié)構(gòu)的每個(gè)端部區(qū)段(31、32)均與所述管狀金屬部件連接；
-在所述管狀金屬部件與所述可膨脹管結(jié)構(gòu)之間的環(huán)狀屏障空間(15)；以及
-在所述管狀金屬部件中的膨脹開(kāi)口(16)，加壓流體通過(guò)所述膨脹開(kāi)口以膨脹所述可膨脹管結(jié)構(gòu)并使所述環(huán)狀屏障從未膨脹位置進(jìn)入已膨脹位置，
其中，所述第一環(huán)狀屏障布置在所述蓋層的上端部，在所述已膨脹位置，所述第一環(huán)狀屏障的可膨脹管結(jié)構(gòu)與所述蓋層重疊，所述第二環(huán)狀屏障布置在所述蓋層的下端部，在所述已膨脹位置，所述第二環(huán)狀屏障的可膨脹管結(jié)構(gòu)與所述蓋層重疊。
2.一種用于對(duì)具有頂部(3)的井(2)進(jìn)行完井作業(yè)的井下完井系統(tǒng)(1)，所述井下完井系統(tǒng)包括：
-地層(4)，包括：
-不可滲透的蓋層(5)，所述不可滲透的蓋層具有上端部(6)和下端部(7)；以及
-井孔(8)，所述井孔延伸穿過(guò)所述蓋層以提供蓋層內(nèi)表面(9)；以及
-布置在所述井孔中的第一金屬井管結(jié)構(gòu)(10)，所述第一金屬井管結(jié)構(gòu)包括：
-第一環(huán)狀屏障(11、11a)和第二環(huán)狀屏障(11、11b)，每個(gè)環(huán)狀屏障包括：
-管狀金屬部件(12)，所述管狀金屬部件安裝為所述第一金屬井管結(jié)構(gòu)的一部分；
-圍繞所述管狀金屬部件的可膨脹管結(jié)構(gòu)(14)，所述可膨脹管結(jié)構(gòu)的每個(gè)端部區(qū)段(31、32)均與所述管狀金屬部件連接；
-在所述管狀金屬部件與所述可膨脹管結(jié)構(gòu)之間的環(huán)狀屏障空間(15)；以及
-在所述管狀金屬部件中的膨脹開(kāi)口(16)，加壓流體通過(guò)所述膨脹開(kāi)口以膨脹所述可膨脹管結(jié)構(gòu)并使所述環(huán)狀屏障從未膨脹位置進(jìn)入已膨脹位置，
其中，所述第一環(huán)狀屏障布置在所述蓋層的上端部，在所述已膨脹位置，所述第一環(huán)狀屏障的可膨脹管結(jié)構(gòu)與所述蓋層重疊，所述第二環(huán)狀屏障布置在所述蓋層的下端部，在所述已膨脹位置，所述第二環(huán)狀屏障的可膨脹管結(jié)構(gòu)與所述蓋層重疊。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的井下完井系統(tǒng)，其中，所述井下完井系統(tǒng)是無(wú)水泥型井下完井系統(tǒng)。
4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的井下完井系統(tǒng)，其中，所述第一金屬井管結(jié)構(gòu)包括構(gòu)造成識(shí)別所述不可滲透的蓋層的傳感器單元(18)。
5.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的井下完井系統(tǒng)，其中，在已膨脹位置，所述第一環(huán)狀屏障、所述第二環(huán)狀屏障、所述第一金屬井管結(jié)構(gòu)和所述蓋層圍成限制空間(17)。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的井下完井系統(tǒng)，其中，所述限制空間是無(wú)水泥的。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的井下完井系統(tǒng)，其中，所述第一金屬井管結(jié)構(gòu)包括布置在所述第一環(huán)狀屏障與所述第二環(huán)狀屏障之間并構(gòu)造成測(cè)量所述限制空間中的流體的特性的傳感器單元(18)。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的井下完井系統(tǒng)，其中，所述傳感器單元包括在所述第一環(huán)狀屏障中或所述第二環(huán)狀屏障中。
9.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的井下完井系統(tǒng)，還包括用于對(duì)所述第一金屬井管結(jié)構(gòu)進(jìn)行加壓的加壓裝置(19)。
10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的井下完井系統(tǒng)，其中，所述傳感器單元包括構(gòu)造成對(duì)傳感器數(shù)據(jù)進(jìn)行通信的通信裝置(21)。
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