[發明專利]凈化裝置、凈化儲料器以及凈化氣體的供給方法在審
| 申請號: | 201680045256.1 | 申請日: | 2016-06-09 |
| 公開(公告)號: | CN107851596A | 公開(公告)日: | 2018-03-27 |
| 發明(設計)人: | 大西真司 | 申請(專利權)人: | 村田機械株式會社 |
| 主分類號: | H01L21/673 | 分類號: | H01L21/673;B65G1/00 |
| 代理公司: | 永新專利商標代理有限公司72002 | 代理人: | 劉杰 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 凈化 裝置 料器 以及 氣體 供給 方法 | ||
1.一種凈化裝置,具備:
多個載置部,供容器載置,且被分組化;
噴嘴,形成為通過在上述載置部載置上述容器來開放朝上述容器供給凈化氣體的流路;以及
流量控制裝置,基于上述組內的上述容器的個數來調整朝上述組內供給的上述凈化氣體的流量。
2.根據權利要求1所述的凈化裝置,其中,
上述載置部分別具有檢測是否載置有上述容器的檢測部。
3.根據權利要求1或2所述的凈化裝置,其中,
上述噴嘴具有當在上述載置部未載置上述容器的狀態下借助上述凈化氣體的壓力來封閉流路的蓋部,
當在上述載置部載置有上述容器的情況下,上述蓋部借助上述容器的重量來開放上述流路。
4.根據權利要求1~3中任一項所述的凈化裝置,其中,
當在上述組內載置有新的上述容器的情況下,上述流量控制裝置使上述凈化氣體的流量暫時減少然后使其逐漸增加至預定流量。
5.根據權利要求1~4中任一項所述的凈化裝置,其中,
將沿水平方向或者鉛垂方向排列的上述多個載置部作為上述組。
6.一種凈化儲料器,其中,
具備多個權利要求1~5中任一項所述的凈化裝置。
7.根據權利要求6所述的凈化儲料器,其中,
具備輸送裝置,該輸送裝置能夠沿著上述凈化裝置的上述多個載置部行進,相對于上述載置部移載上述容器,
上述凈化裝置的上述流量控制裝置集中配置在上述輸送裝置的行進范圍的端部側。
8.一種凈化氣體的供給方法,是對在被分組化的多個載置部載置的容器供給凈化氣體的方法,包括:
通過在上述載置部載置上述容器來開放朝上述容器供給凈化氣體的流路;以及
基于上述組內的上述容器的個數來調整朝上述組內供給的上述凈化氣體的流量。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





