[發(fā)明專利]基板處理裝置、半導(dǎo)體裝置的制造方法及記錄介質(zhì)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201680044904.1
• 申請日: 2016-06-28
• 公開（公告）號: CN107851597B
• 公開（公告）日: 2021-10-01
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 上村大義;伊藤剛;谷山智志
• 申請（專利權(quán)）人: 株式會社國際電氣
• 主分類號: H01L21/677
• 分類號: H01L21/677;C23C16/44;H01L21/02;H01L21/22;H01L21/31;H01L21/316;H01L21/318;H01L21/324
• 代理公司: 北京銀龍知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11243
• 代理人: 丁文蘊;李平

本發(fā)明的課題在于縮短搬送室內(nèi)的氧濃度的降低時間。本發(fā)明的基板處理裝置具有：搬送室，其從收容基板的收納容器搬送上述基板；凈化氣體供給機構(gòu)，其對搬送室內(nèi)供給凈化氣體；以及壓力控制機構(gòu)，其設(shè)置于排放搬送室內(nèi)的環(huán)境氣體的排氣路，并控制搬送室內(nèi)的壓力，壓力控制機構(gòu)具有：排氣擋板，其使排氣路全開或全閉；以及調(diào)整擋板，其設(shè)置在排氣擋板內(nèi)，且將搬送室內(nèi)保持為預(yù)定的壓力。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種基板處理裝置、半導(dǎo)體裝置的制造方法及記錄介質(zhì)。

背景技術(shù)

在半導(dǎo)體裝置(設(shè)備)的制造工序中的基板的熱處理中，例如使用立式基板處理裝置。在立式基板處理裝置中，在配設(shè)在對晶圓進行處理的處理室的下方側(cè)的搬送室內(nèi)，進行晶圓相對于基板保持體(晶舟)的裝載(晶圓裝載)、及卸載(晶圓卸載)。然后，在搬送室內(nèi)，為了將從處理室內(nèi)搬出的高溫的晶圓冷卻至預(yù)定溫度，而利用潔凈空氣形成氣流。該氣流是利用沿搬送室的一側(cè)的側(cè)壁設(shè)置內(nèi)置有過濾器及吹風(fēng)機的清潔單元，并從該清潔單元對搬送室內(nèi)吹出潔凈空氣而形成(例如參照專利文獻1)。

現(xiàn)有技術(shù)文獻

專利文獻

專利文獻1：日本特開2002—175999號公報

發(fā)明內(nèi)容

發(fā)明所要解決的課題

然而，存在作為基板搬送區(qū)域的搬送室內(nèi)的氧濃度的降低時間變長的問題。

本發(fā)明的目的在于提供一種能夠縮短搬送室內(nèi)的氧濃度的降低時間的技術(shù)。

用于解決課題的方案

根據(jù)本發(fā)明的一個方案，提供以下技術(shù)，其具備：

搬送室，其從收容基板的收納容器搬送上述基板；

凈化氣體供給機構(gòu)，其向上述搬送室內(nèi)供給凈化氣體；以及

壓力控制機構(gòu)，其設(shè)置于排放上述搬送室內(nèi)的環(huán)境氣體的排氣路，并控制上述搬送室內(nèi)的壓力，

上述壓力控制機構(gòu)具有：

排氣擋板，其使上述排氣路全開或全閉；以及

調(diào)整擋板，其設(shè)置在上述排氣擋板內(nèi)，并將上述搬送室內(nèi)保持為預(yù)定的壓力。

發(fā)明效果

根據(jù)本發(fā)明，能夠縮短搬送室內(nèi)的氧濃度的降低時間。

附圖說明

圖1是本發(fā)明的實施方式中適用的基板處理裝置的縱剖視圖。

圖2是本發(fā)明的實施方式中適用的基板處理裝置的橫剖視圖。

圖3是本發(fā)明的實施方式中適用的基板處理裝置的立式處理爐的概略結(jié)構(gòu)圖，且是處理爐部分的縱剖視圖。

圖4是本發(fā)明的實施方式中適用的基板處理裝置的控制器的概略結(jié)構(gòu)圖，且是以框圖表示控制器的控制系統(tǒng)的圖。

圖5(a)是表示壓力控制機構(gòu)的全閉動作的構(gòu)造圖。圖5(b)是表示使壓力控制機構(gòu)的自動擋板及按壓擋板打開的狀態(tài)的構(gòu)造圖。圖5(c)是表示壓力控制機構(gòu)的全開動作的構(gòu)造圖。

圖6是本發(fā)明的實施方式中適用的搬送室的縱剖視圖。

圖7是本發(fā)明的實施方式中適用的加載口單元的縱剖視圖。

圖8是表示本發(fā)明的實施方式中適用的加載口單元的排氣路徑的圖。

圖9是本發(fā)明的實施方式中適用的壓力控制機構(gòu)的縱剖視圖。

具體實施方式

以下，使用圖1至3對本發(fā)明的一實施方式進行說明。