[發明專利]注射成型設備和其控制方法

在審

• 申請號: 201680044166.0
• 申請日: 2016-08-24
• 公開（公告）號: CN107848176A
• 公開（公告）日: 2018-03-27
• 發明（設計）人: G·M·艾爾托寧;B·M·伯恩斯
• 申請（專利權）人: 艾姆弗勒克斯有限公司
• 主分類號: B29C45/77
• 分類號: B29C45/77
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司31100
• 代理人: 丁曉峰

1.一種控制注射成型設備的熔體壓力的方法，所述方法包括：

接收熔體壓力曲線，所述熔體壓力曲線包括多個設定點，所述設定點各自界定所述注射成型設備的期望熔體壓力，所述熔體壓力曲線在所述設定點之間延伸，且各設定點通過界定注射成型工藝的至少一部分的時間段與其它設定點分隔，在所述時間段期間，熱塑性材料注射至模穴中；

在位于所述設定點之間的一或多個時間間隔下測定所述熔體壓力曲線，其中所述一或多個時間間隔及所述設定點中的每一個通過時間分隔，且其中所述一或多個時間間隔中的每一個界定所述注射成型設備的期望熔體壓力；及

在所述一或多個時間間隔中的每一個下，基于由在所述一或多個時間間隔中的每一個下的所述熔體壓力曲線所界定的所述期望熔體壓力來控制所述注射成型設備；

其中，對于至少兩個緊鄰設定點，位于所述設定點之間的所述一或多個時間間隔中的每一個下的所述期望熔體壓力與處于所述至少兩個緊鄰設定點中的每一個處的所述期望熔體壓力不同。

2.根據權利要求1所述的方法，其中對于至少兩個其它緊鄰設定點，在所述一或多個時間間隔中的每一個下的所述期望熔體壓力與處于所述至少兩個其它緊鄰設定點處的所述期望熔體壓力實質上相同。

3.根據權利要求1所述的方法，其中對于在所述一或多個時間間隔中的每一個下的所述期望熔體壓力與處于所述至少兩個緊鄰設定點中的每一個處的所述期望熔體壓力不同的所述至少兩個緊鄰設定點，所述熔體壓力曲線為實質上線性的。

4.根據權利要求2所述的方法，其中對于在所述一或多個時間間隔中的每一個下的所述期望熔體壓力與處于所述至少兩個其它緊鄰設定點處的所述期望熔體壓力實質上相同的所述至少兩個其它緊鄰設定點，所述熔體壓力曲線為實質上線性的。

5.根據權利要求1所述的方法，其中對于在所述一或多個時間間隔中的每一個下的所述期望熔體壓力與處于所述至少兩個緊鄰設定點處的所述期望熔體壓力不同的所述至少兩個緊鄰設定點，所述時間段為約10毫秒。

6.根據權利要求5所述的方法，其中沿所述時間段的各時間間隔的取樣約每毫秒進行一次。

7.根據權利要求1所述的方法，其中基于所述期望熔體壓力控制所述注射成型設備進一步包括：

接收來自壓力傳感器的實測熔體壓力值，所述壓力傳感器與所述注射成型設備的熱機筒相關聯且經配置以量測所述熱機筒的熔體壓力；

對所述熱機筒的所述實測熔體壓力與在所述一或多個時間間隔中的每一個下的所述期望熔體壓力進行比較；及

若所述實測熔體壓力與在所述一或多個時間間隔中的每一個下的所述期望熔體壓力之間存在偏差，則調整所述熱機筒的所述實測熔體壓力以使得所述實測熔體壓力朝向所述期望熔體壓力會聚。

8.根據權利要求7所述的方法，其中調整所述熱機筒的所述實測熔體壓力包括控制安置于所述熱機筒內部的往復式螺桿。

9.根據權利要求8所述的方法，其中控制所述往復式螺桿包括控制與所述往復式螺桿相關聯的液壓閥。

10.根據權利要求7所述的方法，其中調整所述熱機筒的所述實測熔體壓力包括控制安置于所述熱機筒內部的柱塞。

11.根據權利要求1所述的方法，其中測定所述熔體壓力曲線包括對數據表進行取樣，所述數據表界定在所述一或多個時間間隔中的每一個下的所述期望熔體壓力。

12.根據權利要求1所述的方法，其中測定所述熔體壓力曲線包括使用算法計算在所述一或多個時間間隔中的每一個下的所述期望熔體壓力。

13.根據權利要求1所述的方法，對于至少兩個緊鄰設定點，多個時間間隔位于所述設定點之間，且在所述設定點之間的各時間間隔下的所述期望熔體壓力與處于所述設定點之間的各緊鄰時間間隔下的所述期望熔體壓力不同。

14.根據權利要求1所述的方法，對于至少兩個緊鄰設定點，多個時間間隔位于所述設定點之間，且在所述設定點之間的各個連續時間間隔下的所述期望熔體壓力與處于所述設定點之間的各緊鄰時間間隔下的所述期望熔體壓力不同。