[發明專利]變倍光學系統、光學裝置、變倍光學系統的制造方法有效
| 申請號: | 201680043965.6 | 申請日: | 2016-05-26 |
| 公開(公告)號: | CN107850762B | 公開(公告)日: | 2020-05-08 |
| 發明(設計)人: | 町田幸介;鈴木剛司;上原健 | 申請(專利權)人: | 株式會社尼康 |
| 主分類號: | G02B15/20 | 分類號: | G02B15/20;G02B13/18 |
| 代理公司: | 中原信達知識產權代理有限責任公司 11219 | 代理人: | 高培培;戚傳江 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 光學系統 光學 裝置 制造 方法 | ||
1.一種變倍光學系統,從物體側依次具備具有負的光焦度的第1透鏡組、具有正的光焦度的第2透鏡組、具有負的光焦度的第3透鏡組、具有正的光焦度的第4透鏡組、具有負的光焦度的第5透鏡組以及具有正的光焦度的第6透鏡組,
在進行變倍時,相鄰的所述透鏡組彼此之間的空氣間隔變化,
配置在最靠物體側的透鏡組具有負透鏡與正透鏡的接合透鏡,
且滿足以下的條件式:
0.30(-fA)/fB0.60
0.20fD/fB0.50
其中,
fA:所述配置在最靠物體側的透鏡組的焦距
fB:配置在最靠像側的透鏡組的焦距
fD:配置在從像側起第三個的透鏡組的焦距。
2.根據權利要求1所述的變倍光學系統,其中,
滿足以下的條件式:
0.40(-fC)/fB0.72
其中,
fC:配置在從像側起第二個的透鏡組的焦距。
3.根據權利要求1所述的變倍光學系統,其中,
在進行對焦時,所述第3透鏡組移動。
4.根據權利要求1所述的變倍光學系統,其中,
所述配置在最靠物體側的透鏡組由具有負的光焦度的透鏡成分構成。
5.根據權利要求1所述的變倍光學系統,其中,
所述配置在最靠物體側的透鏡組由具有負的光焦度的第1透鏡成分和具有負的光焦度的第2透鏡成分構成。
6.根據權利要求1所述的變倍光學系統,其中,
所述配置在最靠物體側的透鏡組具備具有負的光焦度的第1透鏡成分和具有負的光焦度的第2透鏡成分,
所述第2透鏡成分由負透鏡與正透鏡的接合透鏡構成。
7.根據權利要求1所述的變倍光學系統,其中,
包含于所述配置在最靠物體側的透鏡組中的正透鏡的個數為一個。
8.根據權利要求1所述的變倍光學系統,其中,
所述配置在最靠物體側的透鏡組由三個透鏡構成。
9.根據權利要求1所述的變倍光學系統,其中,
所述配置在最靠像側的透鏡組由兩個透鏡構成。
10.根據權利要求1所述的變倍光學系統,其中,
所述配置在最靠物體側的透鏡組具備具有負的光焦度的第1透鏡成分和具有負的光焦度的第2透鏡成分,
在所述第1透鏡成分的玻璃透鏡的像側面通過樹脂材料形成有非球面。
11.根據權利要求1所述的變倍光學系統,其中,
在進行變倍時,所述第2透鏡組、所述第4透鏡組以及所述第6透鏡組一體地移動。
12.根據權利要求1所述的變倍光學系統,其中,
在進行變倍時,所述配置在最靠像側的透鏡組暫時向像側移動之后向物體側移動。
13.根據權利要求1所述的變倍光學系統,其中,
在進行變倍時,所述第2透鏡組向物體側移動。
14.根據權利要求1所述的變倍光學系統,其中,
所述第2透鏡組中的至少一個透鏡成分以包含相對于光軸垂直的方向的分量的方式移動。
15.一種光學裝置,具備權利要求1所述的變倍光學系統。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于株式會社尼康,未經株式會社尼康許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201680043965.6/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:亞微米晶片對準
- 下一篇:一種表面具有高致密納米金剛石薄膜的工件





