[發明專利]用于制造器件的方法和器件有效
| 申請號: | 201680043905.4 | 申請日: | 2016-07-20 |
| 公開(公告)號: | CN107924977B | 公開(公告)日: | 2020-03-06 |
| 發明(設計)人: | 馬丁·翁特比格爾 | 申請(專利權)人: | 歐司朗光電半導體有限公司 |
| 主分類號: | H01L33/54 | 分類號: | H01L33/54 |
| 代理公司: | 北京集佳知識產權代理有限公司 11227 | 代理人: | 丁永凡;張春水 |
| 地址: | 德國雷*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 制造 器件 方法 | ||
1.一種用于制造具有半導體本體(10)的器件(100)的方法,所述方法具有如下方法步驟:
a)提供所述半導體本體(10),所述半導體本體具有輻射透射面(11)和背離所述輻射透射面的后側(12),其中所述半導體本體在所述后側上具有用于電接觸所述半導體本體(10)的聯接點(70),
b)提供復合載體(90),所述復合載體具有導電的載體層(91)和施加到所述載體層(91)上的部分硬化的連接層(92),
c)將所述半導體本體(10)施加到所述復合載體(90)上,使得所述聯接點(70)進入到部分硬化的所述連接層(92)中,
d)硬化所述連接層(92),以形成由所述半導體本體(10)和所述復合載體(90)構成的牢固的復合件,
e)在硬化所述連接層之后,將成形體材料施加到所述復合載體上,以形成成形體(50),其中所述成形體覆蓋所述半導體本體的側面(13),
f)構成穿過所述載體層(91)和所述連接層(92)的凹部(93),以露出所述聯接點(70),和
g)用導電材料填充所述凹部(93),使得所述導電材料與所述聯接點(70)和所述載體層(91)電接觸,
h)所述半導體本體(10)在填充所述凹部(93)之后立即電短路,并且在填充的所述凹部(93)之間構成中間溝槽(94),使得通過所述中間溝槽(94)消除電短路。
2.根據權利要求1所述的方法,
其中所述連接層(92)由用纖維強化的樹脂材料形成,并且用構成為金屬薄膜的所述載體層(91)完全地包覆。
3.根據權利要求1或2所述的方法,
其中所述載體層(91)是銅薄膜,并且所述連接層(92)是用玻璃纖維強化的環氧樹脂層。
4.根據權利要求1或2所述的方法,
其中將所述載體層(91)作為銅層提供,并且借助于將粘接劑施加到所述載體層(91)上來構成所述連接層(92)。
5.根據權利要求1或2所述的方法,
其中將所述成形體材料以囊封料的形式提供,并且借助于澆注法構成所述成形體(50),使得所述成形體覆蓋所述半導體本體(10)的側面。
6.根據權利要求1或2所述的方法,
其中借助于薄膜輔助澆注來構成所述成形體(50),其中所述半導體本體(10)在橫向方向上全環周地由所述成形體(50)包圍。
7.根據權利要求1或2所述的方法,
其中所述半導體本體(10)在所述后側(12)上具有兩個電聯接點(70),所述電聯接點屬于所述半導體本體(10)的不同的電極性,其中在步驟f)中構成穿過所述載體層(91)和所述連接層(92)的兩個彼此橫向間隔開的凹部(93),以露出所述聯接點(70)。
8.根據權利要求1或2所述的方法,
其中用與所述載體層(91)的材料相同的材料填充所述凹部(93)。
9.根據權利要求1或2所述的方法,
其中所述聯接點(70)由銅構成,或者用銅覆層,所述載體層(91)由銅構成,并且所述凹部(93)用銅填充。
10.根據權利要求1或2所述的方法,
其中所述半導體本體(10)作為未封裝的半導體芯片的一部分提供,所述半導體芯片在所述后側(12)上具有兩個電聯接點,并且所述器件(100)在制成之后具有用于所述半導體本體(10)的殼體(20),其中所述殼體(20)由連貫的復合件構成,所述復合件由所述成形體(50)、所述載體層(91)和所述連接層(92)構成。
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