[發明專利]氣體分配設備的遠程控制

在審

• 申請號: 201680043403.1
• 申請日: 2016-07-20
• 公開（公告）號: CN108139720A
• 公開（公告）日: 2018-06-08
• 發明（設計）人: 阿濟茲·歐爾頓;亨里克·多斯賴斯;埃爾韋·迪爾菲
• 申請（專利權）人: 喬治洛德方法研究和開發液化空氣有限公司;液化空氣電子系統公司
• 主分類號: G05B19/042
• 分類號: G05B19/042;G05B19/05;F17C13/02;G05B15/02;F17C13/08;H01L21/67
• 代理公司: 北京市中咨律師事務所 11247
• 代理人: 楊曉光;于靜

一種氣體分配設備，包括：殼體，所述殼體適于接收至少一個氣瓶并且具有氣體輸入開口和氣體輸出開口；被安排在所述殼體中的氣體管道系統，所述至少一個氣瓶連接到所述氣體管道系統；鏈接到所述輸出開口從而允許向裝備單元進行供應的氣體分配系統，其特征在于，所述氣體分配設備包括至少一個通信端口以及可編程的邏輯控制器，所述邏輯控制器配備有處理器，所述處理器能夠處理至少部分地源自不同于所述設備的便攜式數據存儲及處理系統的數據。

本發明涉及數據存儲及處理系統用于遠程控制氣柜的用途。

氣柜應被理解為氣體分配設備。

氣柜是一種用于分配特種氣體(ESG)的裝置，在諸如半導體、光伏、LED和平面屏行業的不同行業或諸如采礦或制藥行業的任何其他行業中用于特定和一次性應用。

這些方法的實施通常需要使用高質量要求(例如自動泄放和連續分配)的有害氣體。例如，電子電路的制造需要使用各種不同的所謂的“工作”氣體，例如C1₂、NH₃、HCl、HBr、NF₃或WF₆等等，由于它們的毒性和/或它們的易燃性，其大部分情況下被認為是對人類有害的。

許多工業設備需要能夠自動控制氣體和流體向某些設備單元的供應的裝備。例如，集成電路的制造通常包括多種方法，例如氣相沉積，在氣相沉積中將多種氣體引入限定半導體襯底的反應室中。為形成集成電路的三維模型而設定的各種材料層的沉積溫度和壓力在此包封件中被仔細控制。

由于構成蒸氣氛圍的不同試劑的比例最終決定將在極小的硅片上共同構成單個巨大電路的元件(特別是晶體管、電容器和電阻器)的物理尺寸，因此所有運入和運出反應室的物質必須不斷地被監測。

集成電路故障的最大原因之一可歸因于污染制造電路所處的工作區的微小粉塵粒子。極小的異物可損壞非常昂貴的電路，并使其無法使用。為了防止這種微粒污染，半導體制造商在受保護的“潔凈室”環境中制造其產品。

首先對進入潔凈室的空氣過濾，從而幾乎完全消除不希望的粉塵粒子。在這些環境中工作的技術人員穿著特殊的衣服和面具，這些衣服和面具防止會損害其細致工作的物質的引入。與這種非常專業化的環境的維護和正確操作相關的成本相當高。因此，潔凈室的所有空間必須以可能最有效的方式使用。

除了這個關鍵的需求外，所使用的化學產品還必須非常謹慎地分配。半導體行業中使用的液體化學產品和特種氣體往往是有毒的。為分配這些潛在有害產品所選擇的裝置必須確保使用可靠，防止腐蝕或泄漏。

在傳統的氣體分配系統中，大量要泄放的、潛在有害的氣體會產生安全問題。管道和精密設置組件在使用過程中也容易泄漏或受到嚴重損壞。因此，這些設備不適合需要頻繁斷開和泄放的一次性用途，頻繁斷開和泄放將使操作者暴露于有害氣體的風險增加。

這些標準氣柜主要用于長期生產和分配應用中的日常和可靠使用。這些系統完全安裝在專用房間中的大柜子里，這些大柜子可能位于距它們所連接到的裝備單元幾十米的地方。

標準氣柜包括連接到可編程邏輯控制器的“人機界面”，所述可編程邏輯控制器用于控制(也就是說監測和管理)所述氣柜的氣體分配系統的維護。

這種人機界面例如具有尺寸大于或等于10英寸的觸摸屏，從而使得用戶可以直接從該屏幕向邏輯控制器提供這些指令。

該操作對于不得不走到氣柜并因此只能從結合到所述柜中的屏幕來控制氣柜的用戶而言證明是繁瑣的。換句話說，存在與要控制的氣柜一樣多的人機界面。這構成了耗時的局限，同時也限制了要控制的氣柜的體積，必須為氣柜提供足夠大的屏幕以顯示所有要監測和/或控制以控制氣體分配系統的參數。

因此，在保持上述應用領域中氣柜的必要功能的同時，需要最大程度降低成本、體積和部件數量。

這就是本發明的主題是一種氣體分配設備的原因，所述氣體分配設備包括：