[發(fā)明專利]與配戴者相適配的光學(xué)設(shè)備

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201680038485.0
• 申請日: 2016-06-28
• 公開（公告）號: CN108351520B
• 公開（公告）日: 2021-07-27
• 發(fā)明（設(shè)計）人: L·凱雷;M·梅南;E·加庫安;M·賴格納特;B·卡利耶
• 申請（專利權(quán)）人: 依視路國際公司
• 主分類號: G02B27/01
• 分類號: G02B27/01;G02C7/08
• 代理公司: 中國貿(mào)促會專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 11038
• 代理人: 杜文樹

1.一種與配戴者相適配的光學(xué)設(shè)備(10)，包括：

-發(fā)射系統(tǒng)(12)，所述發(fā)射系統(tǒng)包括光傳導(dǎo)元件(16)，所述光傳導(dǎo)元件被配置成用于透過所述光傳導(dǎo)元件的出射面(18)朝向所述配戴者的眼睛(20)輸出光，

-第一晶片(14)，所述第一晶片包括面向所述光傳導(dǎo)元件的內(nèi)面(28)，以及

-間隙(40)，所述間隙被安排在所述第一晶片與所述光傳導(dǎo)元件的至少所述出射面之間，

其中，所述第一晶片的所述內(nèi)面(28)至少包括面向所述出射面并且具有大于0D的曲率的彎曲表面，并且所述第一晶片的所述內(nèi)面(28)的彎曲表面包括面向所述出射面并且具有大于0.2D的曲率的凹形區(qū)域。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)設(shè)備，其中，所述第一晶片的所述內(nèi)面(28)至少包括面向所述出射面并且具有大于0.5D的曲率的凹形區(qū)域。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的光學(xué)設(shè)備，其中，所述間隙(40)填充有具有的折射率低于所述光傳導(dǎo)元件的折射率的材料。

4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的光學(xué)設(shè)備，其中，所述間隙(40)填充有空氣。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)設(shè)備，進一步包括第二晶片(60)，所述第二晶片被安排成使得所述光傳導(dǎo)元件被放置在所述第一晶片與所述第二晶片之間。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的光學(xué)設(shè)備，其中，所述光傳導(dǎo)元件包括被安排在面向所述第二晶片的面上的隔離層(64)，所述隔離層與所述第二晶片緊密接觸。

7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的光學(xué)設(shè)備，進一步包括被安排在至少所述光傳導(dǎo)元件(16)的和所述出射面相反的面與所述第二晶片之間的另一間隙(70)，并且其中，所述第二晶片包括面向所述光傳導(dǎo)元件的內(nèi)面，所述第二晶片的所述內(nèi)面至少包括彎曲表面，該彎曲表面面向與所述出射面相反的面并且具有大于0D的曲率。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的光學(xué)設(shè)備，其中：

-所述晶片中的、又被稱為前晶片的一個晶片被配置成用于形成平光鏡片，并且

-所述晶片中的、又被稱為后晶片的另一個晶片被配置成用于形成具有與所述配戴者相適配的屈光力的鏡片。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的光學(xué)設(shè)備，其中，所述后晶片(462)的內(nèi)面(474)至少包括凸形區(qū)域(472)，所述凸形區(qū)域面向所述出射面(18)而不與所述光傳導(dǎo)元件接觸并且被配置成用于接收從所述出射面朝向所述配戴者的所述眼睛(20)輸出的光。

10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的光學(xué)設(shè)備，其中，所述前晶片被配置成具有等于零的柱鏡度。

11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)設(shè)備，其中：

-所述光傳導(dǎo)元件(16)具有透明基材(22)，所述透明基材具有兩個面，所述面中的一個面包括所述出射面(18)，并且

-所述第一晶片和所述透明基材各自圍繞輪廓根據(jù)鏡架的尺寸被磨邊，每個輪廓被包含在平面中。

12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的光學(xué)設(shè)備，其中，所述第一晶片的所述內(nèi)面包括周邊區(qū)域(50)，所述周邊區(qū)域被包含在與所述輪廓(C)相同的平面中。

13.根據(jù)權(quán)利要求11或12所述的光學(xué)設(shè)備，其中，所述光學(xué)設(shè)備包括被安排在所述透明基材的周邊區(qū)域與所述第一晶片的所述內(nèi)面的周邊區(qū)域之間的密封裝置(42)。

14.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的光學(xué)設(shè)備，其中，所述第一晶片的面中的至少一個面是根據(jù)配戴者數(shù)據(jù)進行表面處理的。