[發(fā)明專利]化學(xué)蒸鍍裝置及化學(xué)蒸鍍方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201680037152.6
• 申請(qǐng)日: 2016-07-08
• 公開（公告）號(hào): CN107709607A
• 公開（公告）日: 2018-02-16
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 龍岡翔;山口健志
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 三菱綜合材料株式會(huì)社
• 主分類號(hào): C23C16/455
• 分類號(hào): C23C16/455;B23B27/14
• 代理公司: 北京德琦知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司11018
• 代理人: 齊葵,周艷玲

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種化學(xué)蒸鍍裝置及化學(xué)蒸鍍方法。

本申請(qǐng)主張基于2015年07月10日在日本申請(qǐng)的專利申請(qǐng)2015-138721號(hào)及2016年07月07日在日本申請(qǐng)的專利申請(qǐng)2016-135275號(hào)的優(yōu)先權(quán)，并將該內(nèi)容援用于此。

背景技術(shù)

一直以來使用表面包覆有硬質(zhì)層的切削工具。例如，已知有將WC基硬質(zhì)合金等作為基體，并通過化學(xué)蒸鍍法對(duì)其表面包覆TiC、TiN等硬質(zhì)層的表面包覆切削工具。作為對(duì)切削工具基體的表面包覆處理硬質(zhì)層的裝置，例如已知有專利文獻(xiàn)1～3所記載的化學(xué)蒸鍍裝置。

專利文獻(xiàn)1：日本特開平5-295548號(hào)公報(bào)

專利文獻(xiàn)2：日本特表2011-528753號(hào)公報(bào)

專利文獻(xiàn)3：日本特開平9-310179號(hào)公報(bào)

專利文獻(xiàn)1、2所記載的化學(xué)蒸鍍裝置中，通過將反應(yīng)容器內(nèi)載置有切削工具基體的托盤沿鉛垂方向?qū)盈B，并使在托盤附近沿鉛垂方向延伸的氣體供給管旋轉(zhuǎn)來分散原料氣體。并且，專利文獻(xiàn)3所記載的化學(xué)蒸鍍裝置中，以避免因氣體導(dǎo)入口的堵塞所引起的操作上的問題并進(jìn)行穩(wěn)定的化學(xué)蒸鍍?yōu)槟康模€提出有在底板上設(shè)置有兩處(或兩處以上)氣體導(dǎo)入口的減壓式立式化學(xué)蒸鍍裝置。

但是，當(dāng)作為原料氣體而使用彼此間反應(yīng)活性較高的氣體種類時(shí)，原料氣體在供給路徑中容易反應(yīng)。因此，有時(shí)因原料氣體的反應(yīng)所產(chǎn)生的反應(yīng)生成物沉淀于氣體供給管的內(nèi)部或氣體噴出口，而發(fā)生氣體供給不良。其結(jié)果，有時(shí)氣體的反應(yīng)狀態(tài)發(fā)生不均，且反應(yīng)容器內(nèi)的各切削工具的膜質(zhì)均勻性降低。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的之一在于，提供一種能夠在多個(gè)被成膜物上形成均質(zhì)的被膜的化學(xué)蒸鍍裝置及化學(xué)蒸鍍方法。

根據(jù)本發(fā)明的一方式，提供一種化學(xué)蒸鍍裝置，其特征在于，具有容納被成膜物的反應(yīng)容器、設(shè)置于所述反應(yīng)容器內(nèi)的氣體供給管及在所述反應(yīng)容器內(nèi)使氣體供給管繞旋轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)裝置，所述氣體供給管的內(nèi)部被劃分為沿所述旋轉(zhuǎn)軸延伸的第1氣體流通部和第2氣體流通部，在所述氣體供給管的管壁設(shè)置有由沿圓周方向相鄰配置的至少三個(gè)以上的氣體噴出口組成的氣體噴出口組，所述氣體噴出口組包含至少一個(gè)以上的第1氣體噴出口和至少一個(gè)以上的第2氣體噴出口，所述第1氣體噴出口使流通到所述第1氣體流通部的第1氣體噴出到所述反應(yīng)容器內(nèi)，所述第2氣體噴出口使流通到所述第2氣體流通部的第2氣體噴出到所述反應(yīng)容器內(nèi)。

可以為如下結(jié)構(gòu)：在所述氣體噴出口組中，設(shè)置在相同的所述氣體流通部的兩個(gè)所述氣體噴出口繞所述旋轉(zhuǎn)軸的相對(duì)角度為60°以上。

可以為如下結(jié)構(gòu)：在所述氣體供給管的軸向上設(shè)有多個(gè)所述氣體噴出口組。

可以為如下結(jié)構(gòu)：具備托盤，所述托盤具有載置所述被成膜物的載置面，所述托盤的載置面朝向所述氣體供給管的軸向而配置。

可以為如下結(jié)構(gòu)：沿所述氣體供給管的軸向?qū)盈B配置有多個(gè)所述托盤。

可以為如下結(jié)構(gòu)：所述托盤具有貫穿孔，且所述氣體供給管插通所述貫穿孔。

根據(jù)本發(fā)明的一方式，提供一種化學(xué)蒸鍍方法，其使用上述化學(xué)蒸鍍裝置在被成膜物的表面上形成被膜。

可以為如下方法：使所述氣體供給管以10轉(zhuǎn)/分鐘以上且60轉(zhuǎn)/分鐘以下的轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)。

可以為如下方法：使用不含金屬元素的原料氣體來作為所述第1氣體，使用含有金屬元素的原料氣體來作為所述第2氣體。

可以為如下方法：使用不含金屬元素的原料氣體來作為所述第2氣體，使用含有金屬元素的原料氣體來作為所述第1氣體。

可以為如下方法：使用含氨氣體來作為使用不含所述金屬元素的原料氣體的所述第1氣體或第2氣體。

根據(jù)本發(fā)明的方式，提供一種能夠在多個(gè)被成膜物上形成均質(zhì)的被膜的化學(xué)蒸鍍裝置及化學(xué)蒸鍍方法。

附圖說明

圖1為實(shí)施方式所涉及的化學(xué)蒸鍍裝置的剖視圖。

圖2為表示氣體供給管及旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)裝置的剖視圖。

圖3為氣體供給管的橫剖視圖。

圖4為氣體供給管的局部立體圖。

圖5A為與氣體噴出口的配置有關(guān)的說明圖。

圖5B為與氣體噴出口的配置有關(guān)的說明圖。

圖5C為與氣體噴出口的配置有關(guān)的說明圖。

圖6為表示氣體供給管的其他例的剖視圖。

圖7為表示氣體供給管的其他例的剖視圖。

具體實(shí)施方式

以下，參考附圖對(duì)本發(fā)明的實(shí)施方式進(jìn)行說明。

(化學(xué)蒸鍍裝置)