[發(fā)明專利]熱增強的玻璃制造設(shè)備和方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201680035048.3
• 申請日: 2016-04-08
• 公開（公告）號: CN107771165B
• 公開（公告）日: 2020-12-01
• 發(fā)明（設(shè)計）人: B·阿夫扎爾;A·阿格拉沃爾;K·W·阿尼奧萊克;J·M·費諾蒂;M-H·黃;G·N·庫德瓦;S·R·馬克漢姆;I·A·尼庫林
• 申請（專利權(quán)）人: 康寧股份有限公司
• 主分類號: C03B25/08
• 分類號: C03B25/08;C03B17/06;C03B25/12
• 代理公司: 上海專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 31100
• 代理人: 高宏偉;江磊

1.一種用于生產(chǎn)玻璃制品的設(shè)備，所述設(shè)備包含：

冷卻機(jī)制，所述冷卻機(jī)制位于所述設(shè)備的至少一個壁中，增強熔融玻璃與所述設(shè)備的所述壁之間的輻射傳熱，且在垂直和水平方向上可調(diào)，其中，所述壁的內(nèi)部部分包含至少一個擋板，并且相對于不含所述冷卻機(jī)制的情況，所述冷卻機(jī)制提供從玻璃帶至所述設(shè)備的壁的增大的輻射傳熱；以及

加熱機(jī)制，所述加熱機(jī)制影響熔融玻璃與所述設(shè)備的所述壁之間的輻射傳熱，且在垂直和水平方向上可調(diào)，且可獨立于所述冷卻機(jī)制操作，其中，相對于不含所述加熱機(jī)制的情況，所述加熱機(jī)制提供從所述玻璃帶至所述設(shè)備的壁的減小的輻射傳熱。

2.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其特征在于，所述冷卻機(jī)制包含位于所述設(shè)備的所述壁中的導(dǎo)管中的流體流動。

3.如權(quán)利要求2所述的設(shè)備，其特征在于，所述流體是液體。

4.如權(quán)利要求3所述的設(shè)備，其特征在于，所述液體是水。

5.如權(quán)利要求2所述的設(shè)備，其特征在于，所述流體的溫度低于100℃。

6.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其特征在于，所述加熱機(jī)制包含至少一個電阻加熱組件。

7.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，所述設(shè)備包含溢流下拉成形裝置。

8.如權(quán)利要求2所述的設(shè)備，其特征在于，所述設(shè)備的所述壁中的至少一個流體流動導(dǎo)管位于擋板區(qū)域內(nèi)。

9.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其特征在于，所述冷卻機(jī)制和加熱機(jī)制經(jīng)過配置，以使所述玻璃在其處于所述玻璃的應(yīng)變點與200℃之間的溫度下時被冷卻的平均冷卻速率要比在所述玻璃處于所述玻璃的軟化點與所述玻璃的應(yīng)變點之間的溫度下時被冷卻的平均冷卻速率快。

10.如權(quán)利要求9所述的設(shè)備，其特征在于，所述冷卻機(jī)制和加熱機(jī)制經(jīng)過配置，以使所述玻璃在其處于所述玻璃的工作點與所述玻璃的軟化點之間的溫度下時被冷卻的平均冷卻速率要比在所述玻璃處于所述玻璃的軟化點與所述玻璃的應(yīng)變點之間的溫度下時被冷卻的平均冷卻速率快。

11.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其特征在于，所述玻璃制品是厚度小于0.5毫米的玻璃板。

12.一種生產(chǎn)玻璃制品的方法，所述方法包括在一種設(shè)備中形成玻璃制品，所述設(shè)備包含：

冷卻機(jī)制，所述冷卻機(jī)制位于所述設(shè)備的至少一個壁中，增強熔融玻璃與所述設(shè)備的所述壁之間的輻射傳熱，且在垂直和水平方向上可調(diào)，其中，所述壁的內(nèi)部部分包含至少一個擋板，并且相對于不含所述冷卻機(jī)制的情況，所述冷卻機(jī)制提供從玻璃帶至所述設(shè)備的壁的增大的輻射傳熱；以及

加熱機(jī)制，所述加熱機(jī)制影響熔融玻璃與所述設(shè)備的所述壁之間的輻射傳熱，且在垂直和水平方向上可調(diào)，且可獨立于所述冷卻機(jī)制操作，其中，相對于不含所述加熱機(jī)制的情況，所述加熱機(jī)制提供從所述玻璃帶至所述設(shè)備的壁的減小的輻射傳熱。

13.如權(quán)利要求12所述的方法，其特征在于，所述冷卻機(jī)制包含位于所述設(shè)備的所述壁中的導(dǎo)管中的流體流動。

14.如權(quán)利要求13所述的方法，其特征在于，所述流體是液體。

15.如權(quán)利要求14所述的方法，其特征在于，所述液體是水。

16.如權(quán)利要求13所述的方法，其特征在于，所述流體的溫度低于100℃。

17.如權(quán)利要求12所述的方法，其特征在于，所述加熱機(jī)制包含至少一個電阻加熱組件。

18.如權(quán)利要求12所述的方法，其特征在于，所述設(shè)備包含溢流下拉成形裝置。