[發(fā)明專利]用于差分相位對比CT的平鋪探測器布置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201680034723.0 | 申請日: | 2016-06-10 |
| 公開(公告)號: | CN107743379B | 公開(公告)日: | 2021-10-22 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | T·克勒;F·普法伊費爾;P·B·T·諾埃爾;D·R·哈恩 | 申請(專利權(quán))人: | 皇家飛利浦有限公司 |
| 主分類號: | A61B6/00 | 分類號: | A61B6/00;A61B6/03;G01N23/04 |
| 代理公司: | 永新專利商標(biāo)代理有限公司 72002 | 代理人: | 李光穎;王英 |
| 地址: | 荷蘭艾*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 相位 對比 ct 平鋪 探測器 布置 | ||
1.一種計算機斷層攝影檢查裝置(500),包括:
輻射源(305);
探測器(300),其具有多個探測器瓦塊(100、401),每個探測器瓦塊包括干涉儀(101、102)和輻射探測器(103);
其特征在于,
所述多個探測器瓦塊(100、401)相對于穿過所述輻射源的位置和旋轉(zhuǎn)中心(302)的線(301)被非對稱地布置。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的計算機斷層攝影檢查裝置(500),其中,所述多個探測器瓦塊(100、401)中的第一瓦塊(401)以相對于所述線(301)偏移四分之一瓦塊被布置。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的計算機斷層攝影檢查裝置(500),其中,所述多個探測器瓦塊(100、401)中的所述第一瓦塊(401)是被定位在所述多個探測器瓦塊的中心的瓦塊。
4.根據(jù)權(quán)利要求1-3中的任一項所述的計算機斷層攝影檢查裝置(500),其中,所述多個探測器瓦塊(100、401)中的每個探測器瓦塊(100、401)的所述干涉儀包括相位光柵(101)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1-3中的任一項所述的計算機斷層攝影檢查裝置(500),其中,所述多個探測器瓦塊中的每個探測器瓦塊(100、401)的所述干涉儀包括分析器光柵(102)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1-3中的任一項所述的計算機斷層攝影檢查裝置(500),其中,所述輻射源(305)包括源光柵(106)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1-3中的任一項所述的計算機斷層攝影檢查裝置(500),其中,所述多個探測器瓦塊(100、401)沿著圓弧(306)被布置。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的計算機斷層攝影檢查裝置(500),其中,所述圓弧(306)具有與所述輻射源(305)的位置一致的中心。
9.一種利用差分相位對比或暗場計算機斷層攝影掃描器(500)采集感興趣對象(501)的圖像的方法,所述方法包括以下步驟:
通過輻射源(305)朝向探測器(300)在第一方向上沿著第一路徑(303)發(fā)射電磁輻射的第一射束,所述探測器具有多個探測器瓦塊(100、401),其中,所述第一路徑擊中兩個相鄰?fù)邏K之間的間隙;
旋轉(zhuǎn)所述輻射源和所述探測器;
其特征在于,所述方法還包括:
通過所述輻射源朝向所述探測器在第二方向上沿著第二路徑(304)發(fā)射電磁輻射的第二補充射束;
其中,所述第一路徑等于所述第二路徑;
其中,第一方向與所述第二方向相反;并且
其中,所述第二路徑擊中瓦塊而非兩個相鄰?fù)邏K之間的間隙。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法,還包括以下步驟:
使用對應(yīng)于所述第二補充射束的探測數(shù)據(jù)用于圖像重建。
11.一種利用差分相位對比或暗場計算機斷層攝影掃描器(500)采集感興趣對象(501)的圖像的裝置,包括:
用于通過輻射源(305)朝向探測器(300)在第一方向上沿著第一路徑(303)發(fā)射電磁輻射的第一射束的模塊,所述探測器具有多個探測器瓦塊(100、401),其中,所述第一路徑擊中兩個相鄰?fù)邏K之間的間隙;
用于旋轉(zhuǎn)所述輻射源和所述探測器的模塊;
用于通過所述輻射源朝向所述探測器在第二方向上沿著第二路徑(304)發(fā)射電磁輻射的第二補充射束的模塊;
其中,所述第一路徑等于所述第二路徑;
其中,第一方向與所述第二方向相反;并且
其中,所述第二路徑擊中瓦塊而非兩個相鄰?fù)邏K之間的間隙。
12.一種存儲有計算機程序的計算機可讀介質(zhì),所述計算機程序當(dāng)由計算機斷層攝影檢查裝置(500)的處理器(502)運行時指令所述裝置執(zhí)行以下步驟:
通過輻射源(305)朝向探測器(300)在第一方向上沿著第一路徑(303)發(fā)射電磁輻射的第一射束,所述探測器具有多個探測器瓦塊(100、401),其中,所述第一路徑擊中兩個相鄰?fù)邏K之間的間隙;
旋轉(zhuǎn)所述輻射源和所述探測器;
通過所述輻射源朝向所述探測器在第二方向上沿著第二路徑(304)發(fā)射電磁輻射的第二補充射束;
其中,所述第一路徑等于所述第二路徑;
其中,第一方向與所述第二方向相反;并且
其中,所述第二路徑擊中瓦塊而非兩個相鄰?fù)邏K之間的間隙。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于皇家飛利浦有限公司,未經(jīng)皇家飛利浦有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201680034723.0/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。





