[發(fā)明專利]具有減壓腔的玻璃制造設(shè)備和方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201680034400.1 | 申請日： | 2016-06-09 |
| 公開（公告）號： | CN107750240A | 公開（公告）日： | 2018-03-02 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | T·L·蘭斯貝利;A·J·穆托 | 申請（專利權(quán)）人： | 康寧股份有限公司 |
| 主分類號： | C03B17/06 | 分類號： | C03B17/06 |
| 代理公司： | 上海專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司31100 | 代理人： | 項(xiàng)丹 |
| 地址： | 美國*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 具有 減壓 玻璃 制造 設(shè)備 方法 | ||
1.一種用于生產(chǎn)玻璃制品的設(shè)備，所述設(shè)備包括玻璃成形裝置，所述玻璃成形裝置包括：
進(jìn)口端和壓縮端以及在進(jìn)口端和壓縮端之間延伸的槽；和
在槽下方的通道，所述通道在進(jìn)口端和壓縮端之間至少部分地延伸；
其中，通道內(nèi)的氣氛保持在比圍繞玻璃成形裝置的氣氛的壓力低。
2.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中，通道的截面積在進(jìn)口端和壓縮端之間變化。
3.如權(quán)利要求2所述的設(shè)備，其中，通道的截面積在進(jìn)口端和壓縮端之間減小。
4.如權(quán)利要求3所述的設(shè)備，其中，通道的寬度在進(jìn)口端和壓縮端之間減小。
5.如權(quán)利要求3所述的設(shè)備，其中，通道的高度在進(jìn)口端和壓縮端之間減小。
6.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中，通道的頂部從槽底部出發(fā)在進(jìn)口端與壓縮端之間為均勻的距離。
7.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中，通道的頂部從槽底部出發(fā)在進(jìn)口端與壓縮端之間為不均勻的距離。
8.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中，通道內(nèi)的氣氛保持比圍繞玻璃成形裝置的氣氛的壓力低至少2psi。
9.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中，所述設(shè)備還包括與通道流體連接的減壓單元。
10.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中，所述設(shè)備還包括調(diào)節(jié)通道內(nèi)氣氛的壓力的控制單元。
11.一種生產(chǎn)玻璃制品的方法，所述方法包括將熔融玻璃引入到玻璃成形裝置，所述玻璃成形裝置包括：
進(jìn)口端和壓縮端以及在進(jìn)口端和壓縮端之間延伸的槽；和
在槽下方的通道，所述通道在進(jìn)口端和壓縮端之間至少部分地延伸；
其中，通道內(nèi)的氣氛保持在比圍繞玻璃成形裝置的氣氛的壓力低。
12.如權(quán)利要求11所述的方法，其中，通道的截面積在進(jìn)口端和壓縮端之間變化。
13.如權(quán)利要求12所述的方法，其中，通道的截面積在進(jìn)口端和壓縮端之間減小。
14.如權(quán)利要求13所述的方法，其中，通道的寬度在進(jìn)口端和壓縮端之間減小。
15.如權(quán)利要求13所述的方法，其中，通道的高度在進(jìn)口端和壓縮端之間減小。
16.如權(quán)利要求11所述的方法，其中，通道的頂部從槽底部出發(fā)在進(jìn)口端與壓縮端之間為均勻的距離。
17.如權(quán)利要求11所述的方法，其中，通道的頂部從槽底部出發(fā)在進(jìn)口端與壓縮端之間為不均勻的距離。
18.如權(quán)利要求11所述的方法，其中，通道內(nèi)的氣氛保持比圍繞玻璃成形裝置的氣氛的壓力低至少2psi。
19.如權(quán)利要求11所述的方法，其中，所述方法還包括操作與通道流體連接的減壓單元。
20.如權(quán)利要求11所述的方法，其中，所述方法還包括操作控制單元，所述控制單元調(diào)節(jié)通道內(nèi)氣氛的壓力。
21.一種玻璃片，其通過如權(quán)利要求11所述的方法制造。
22.一種電子裝置，其包括如權(quán)利要求21所述的玻璃片。
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