[發(fā)明專利]用于陶瓷產(chǎn)品等的燒制窯在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201680034265.0 | 申請日： | 2016-05-23 |
| 公開（公告）號： | CN108064331A | 公開（公告）日： | 2018-05-22 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | L·坎塔雷利 | 申請（專利權(quán)）人： | 斯蒂-B及T集團(tuán)股份公司 |
| 主分類號： | F27B9/02 | 分類號： | F27B9/02;F27B9/04;F27D17/00;F27D99/00 |
| 代理公司： | 上海專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 31100 | 代理人： | 董慶;江磊 |
| 地址： | 意大利*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 用于 陶瓷產(chǎn)品 燒制 | ||
1.一種用于陶瓷產(chǎn)品等的燒制窯(1)，包括在所述窯自身(1)的壁之間限定的至少一個所述陶瓷產(chǎn)品的第一加熱區(qū)域(10)、至少一個直接冷卻區(qū)域(13)和至少一個慢/最終冷卻區(qū)域(15)；產(chǎn)品供給元件(4,5)；和用于燒制所述產(chǎn)品自身的燃燒器(6)，其特征在于，包括彼此疊加的第一通道(2)和第二通道(3)，其中，所述加熱區(qū)域(10)和所述直接冷卻區(qū)域(13)包含在一通道內(nèi)，所述慢/最終冷卻區(qū)域(15)包含在另一通道內(nèi)；還包括提升裝置(14)，所述提升裝置(14)將陶瓷產(chǎn)品從包括所述加熱區(qū)域(10)和所述直接冷卻區(qū)域(13)的通道運(yùn)送至包括所述慢/最終冷卻區(qū)域(15)的通道。
2.如權(quán)利要求1所述的窯，其特征在于，所述第一通道(2)位于上側(cè)位置且包括所述加熱區(qū)域(10)和所述直接冷卻區(qū)域(13)，所述第二通道(3)位于下側(cè)位置且包括所述慢/最終冷卻區(qū)域(15)。
3.如權(quán)利要求1所述的窯，其特征在于，所述第一通道(2)位于上側(cè)位置且包括所述慢/最終冷卻區(qū)域(15)，所述第二通道(3)位于下側(cè)位置且包括所述加熱區(qū)域(10)和所述直接冷卻區(qū)域(13)。
4.如權(quán)利要求1～3中任一項(xiàng)所述的窯，其特征在于，包括交換裝置(7)和運(yùn)送裝置(8)，所述交換裝置(7)允許所述交換裝置(7)內(nèi)包含的冷空氣和所述慢/最終冷卻區(qū)域(15)內(nèi)存在的熱空氣之間進(jìn)行熱交換；所述運(yùn)送裝置(8)將所述熱空氣從所述交換裝置(7)運(yùn)送到與所述加熱區(qū)域(10)連接的所述燃燒器(6)，升高所述燃燒器(6)的燃燒溫度，達(dá)到能量節(jié)省和排放降低。
5.如權(quán)利要求1～4中任一項(xiàng)所述的窯，其特征在于，所述交換裝置(7)包括密閉管和通風(fēng)裝置，所述密閉管設(shè)置在設(shè)有所述慢/最終冷卻區(qū)域(15)的所述通道(2,3)的頂部，所述管由所述通風(fēng)裝置吹出的冷空氣流在內(nèi)部交叉，所述冷空氣流已在設(shè)有所述慢/最終冷卻區(qū)域的所述通道內(nèi)被加熱，然后作為燃燒所需的助燃空氣供給經(jīng)由所述運(yùn)送裝置(8)被運(yùn)送至所述燃燒器(6)。
6.如權(quán)利要求1～5中任一項(xiàng)所述的窯，其特征在于，所述通道(2,3)被限定在至少一個下壁或底部(17)、至少一個側(cè)壁(18)、至少一個上壁或拱頂(19)、至少一個中間分割拱頂(20)、所述加熱區(qū)域(10)的一個入口(9)、和所述慢/最終冷卻區(qū)域(15)的一個出口(16)之間，所述入口和所述出口分別設(shè)置在所述窯的同一側(cè)。
7.如權(quán)利要求1～6中任一項(xiàng)所述的窯，其特征在于，所述供給元件(4,5)用于在第一供給方向上沿著所述第一通道(2)、在第二供給方向上沿著所述第二通道(3)運(yùn)送所述陶瓷產(chǎn)品，其中，所述第一供給方向與所述第二供給方向相反。
8.如權(quán)利要求1～7中任一項(xiàng)所述的窯，其特征在于，所述供給元件(4,5)包括驅(qū)動輥式運(yùn)送機(jī)的馬達(dá)。
9.如權(quán)利要求1～8中任一項(xiàng)所述的窯，其特征在于，所述加熱區(qū)域(10)包括第一預(yù)熱區(qū)域(11)和隨后的第二燒制區(qū)域(12)。
10.如權(quán)利要求1～9中任一項(xiàng)所述的窯，其特征在于，所述提升裝置(14)容納在密閉箱(21)中，允許裝載所述產(chǎn)品并將其從所述直接冷卻區(qū)域(13)運(yùn)送到所述慢/最終冷卻區(qū)域(15)。
11.如權(quán)利要求1～10中任一項(xiàng)所述的窯，其特征在于，所述密閉箱(21)是絕緣的，因此使溫度保持在接近所述直接冷卻區(qū)域(13)內(nèi)的所述陶瓷產(chǎn)品的溫度的值。
12.如權(quán)利要求1～11中任一項(xiàng)所述的窯，其特征在于，包括：至少一個位于包含所述加熱區(qū)域(10)的所述通道(2,3)內(nèi)的輥式運(yùn)送機(jī)的部分(23)；及至少一個位于包含所述慢/最終冷卻區(qū)域(15)的所述通道(3,2)內(nèi)的輥式運(yùn)送機(jī)的部分(23)，所述輥式運(yùn)送機(jī)的部分(23)設(shè)有變速馬達(dá)裝置，允許所述陶瓷產(chǎn)品向所述提升裝置(14)加速或從所述提升裝置(14)隔開。
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