[發明專利]膜或片以及屏幕有效
| 申請號: | 201680034101.8 | 申請日: | 2016-06-09 |
| 公開(公告)號: | CN107709450B | 公開(公告)日: | 2020-04-17 |
| 發明(設計)人: | 樋口義明;小寺省吾 | 申請(專利權)人: | AGC株式會社 |
| 主分類號: | C08L27/12 | 分類號: | C08L27/12;C08J5/18;C08K3/04;C08K3/22;C08K9/02;G03B21/62 |
| 代理公司: | 上海專利商標事務所有限公司 31100 | 代理人: | 溫劍;張佳鑫 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 以及 屏幕 | ||
1.膜或片,它是含有氟樹脂、光散射劑和光吸收劑的單層的膜或片,
所述氟樹脂是選自乙烯-四氟乙烯共聚物、聚偏氟乙烯、聚氟乙烯、四氟乙烯-全氟(烷基乙烯基醚)共聚物、四氟乙烯-六氟丙烯共聚物、乙烯-三氟氯乙烯共聚物以及聚三氟氯乙烯中的氟樹脂,
所述光散射劑由選自含氧化鈦的顏料、含氧化鋅的顏料和含氧化鈰的顏料中的至少1種光散射劑構成,其含量為0.01~0.175g/m2,
所述光吸收劑由選自炭黑、黑色干涉鋁顏料、黑色氧化鐵和鈦黑中的至少1種光吸收劑構成,其含量為0.0005~0.035g/m2,
以光散射劑/光吸收劑表示的所述光散射劑與所述光吸收劑的質量比在2以上,
所述膜或片的厚度為25~2000μm。
2.如權利要求1所述的膜或片,其特征在于,所述含氧化鈦的顏料是氧化鈦粒子的一部分表面或全部表面由選自氧化硅、氧化鋁、滑石、氧化鋯、碳酸鈣、硫酸鋇、氫氧化鋁、氫氧化鎂、勃姆石、磷酸鹽玻璃、二氧化硅類低熔點玻璃、氧化鎂中的至少1種被覆材料被覆而得的復合體,所述含氧化鋅的顏料是氧化鋅粒子的一部分表面或全部表面由至少1種所述被覆材料被覆而得的復合體,所述含氧化鈰的顏料是氧化鈰粒子的一部分表面或全部表面由至少1種所述被覆材料被覆而得的復合體。
3.如權利要求2所述的膜或片,其特征在于,所述含氧化鈦的顏料、所述含氧化鋅的顏料和所述含氧化鈰的顏料各自的被覆材料為氧化硅,相對于氧化鈦粒子、氧化鋅粒子和氧化鈰粒子各粒子與氧化硅的總量,氧化硅的比例為1~99質量%。
4.如權利要求1~3中任一項所述的膜或片,其特征在于,含有所述含氧化鈦的顏料與所述含氧化鋅的顏料作為所述光散射劑。
5.如權利要求4所述的膜或片,其特征在于,相對于所述含氧化鈦的顏料與所述含氧化鋅的顏料的總量,所述含氧化鈦的顏料的含量為30~95質量%。
6.如權利要求1所述的膜或片,其特征在于,所述氟樹脂是四氟乙烯-全氟(甲基乙烯基醚)-全氟(丙基乙烯基醚)共聚物。
7.如權利要求1所述的膜或片,其特征在于,所述氟樹脂是乙烯-四氟乙烯共聚物。
8.如權利要求1所述的膜或片,其特征在于,總光線透射率為65~80%。
9.如權利要求1所述的膜或片,其特征在于,霧度值為10~30%。
10.層疊體,其特征在于,具備至少1層權利要求1~9中任一項所述的膜或片、以及至少1層含有氟樹脂和光吸收劑且不含光散射劑的單層的膜或片,總光線透射率為65~80%,霧度值為10~30%。
11.屏幕,其特征在于,具備權利要求1~9中任一項所述的膜或片。
12.屏幕,其特征在于,具備權利要求10所述的層疊體。
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