[發(fā)明專利]用于借助于UV輻射和表面改性的船艦上的生物淤積預(yù)防的方法和設(shè)備有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201680032510.4 | 申請(qǐng)日： | 2016-05-24 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN107667056B | 公開（公告）日： | 2019-12-13 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | E.A.W.G.詹斯森;R.B.希伊特布林克;B.A.薩特斯 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 皇家飛利浦有限公司 |
| 主分類號(hào)： | B63B59/04 | 分類號(hào)： | B63B59/04;B08B7/00;B08B17/00;B08B17/02;B08B17/04;E02B17/00 |
| 代理公司： | 72001 中國(guó)專利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 景軍平;陳嵐 |
| 地址： | 荷蘭艾*** | 國(guó)省代碼： | 荷蘭;NL |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 用于 借助于 uv 輻射 表面 改性 船艦 生物 淤積 預(yù)防 方法 設(shè)備 | ||
1.一種在使用期間至少部分地浸沒在水中的物體（10），其中所述物體（10）選自包括船艦（1）和基礎(chǔ)設(shè)施物體（15）的組，所述物體（10）還包括抗生物淤積系統(tǒng)（200），所述抗生物淤積系統(tǒng)（200）包括UV發(fā)射元件（210），其中物體（10）還包括突出元件（100），其中UV發(fā)射元件（210）配置在突出元件（100）之間并且配置成相對(duì)于突出元件（100）而凹陷，并且其中UV發(fā)射元件（210）配置成在輻照階段期間利用UV輻射（221）輻照（i）所述物體（10）的外部表面（11）的第一部分（111）和（ii）鄰近于所述物體（10）的所述外部表面（11）的所述第一部分（111）的水中的一個(gè)或多個(gè)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的物體（10），其中UV發(fā)射元件（210）包括光學(xué)介質(zhì)（270），所述光學(xué)介質(zhì)（270）配置成向（i）所述物體（10）的所述外部表面（11）的所述第一部分（111）和（ii）鄰近于所述物體（10）的所述外部表面（11）的所述第一部分（111）的水中的所述一個(gè)或多個(gè)提供光源（220）的所述UV輻射（221），并且其中光學(xué)介質(zhì)（270）配置在突出元件（100）之間，并且配置成相對(duì)于突出元件（100）而凹陷。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的物體（10），其中光學(xué)介質(zhì)（270）包括所述光源（220）中的一個(gè)或多個(gè)，其中所述一個(gè)或多個(gè)光源（220）包括固態(tài)光源，并且其中所述光學(xué)介質(zhì)（270）包括作為波導(dǎo)材料的硅樹脂。
4.根據(jù)前述權(quán)利要求中任何一項(xiàng)所述的物體（10），其中外部表面（11）包括所述突出元件（100）。
5.根據(jù)權(quán)利要求1-3中任何一項(xiàng)所述的物體（10），其中（i）物體（10）包括包含所述突出元件（100）的表面輪廓（110），其中所述表面輪廓（110）附接到所述外部表面（11），并且/或者（ii）抗生物淤積系統(tǒng)（200）包括所述突出元件（100）。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的物體（10），其中物體（10）包括UV發(fā)射單元（1210）和根據(jù)權(quán)利要求2所述的光學(xué)介質(zhì)（270），所述UV發(fā)射單元（1210）包括包含所述突出元件（100）的所述表面輪廓（110），其中所述表面輪廓（110）附接到所述外部表面（11）。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的物體（10），其中光學(xué)介質(zhì)（270）配置成向光學(xué)介質(zhì)（270）的輻射逸出表面（230）提供光源（220）的UV輻射（221），其中光學(xué)介質(zhì)（270）配置在突出元件（100）之間并且配置成相對(duì)于突出元件（100）而凹陷，并且其中抗生物淤積系統(tǒng)（200）的輻射逸出表面（230）配置為所述外部表面（11）的部分。
8.根據(jù)權(quán)利要求1-3中任何一項(xiàng)所述的物體（10），其中突出元件（100）包括鋼鐵，并且其中突出元件（100）配置為突出輪緣（102），其中UV發(fā)射元件（210）配置在突出輪緣（102）之間。
9.根據(jù)權(quán)利要求1-3中任何一項(xiàng)所述的物體（10），其中UV發(fā)射元件（210）包括光源（220），其中光源（220）具有兩個(gè)或更多最近的相鄰?fù)怀鲈?00），其中第一最近的相鄰?fù)怀鲈?00）與光源（220）之間的第一最短距離（d1）等于或小于第二最近的相鄰?fù)怀鲈?00）與所述光源（220）之間的第二最短距離（d2）的50%，并且其中突出元件（100）與UV發(fā)射元件（210）之間的最小高度差（d3）為至少1mm。
10.根據(jù)權(quán)利要求1-3中任何一項(xiàng)所述的物體（10），其中物體（10）包括船艦（1），并且其中外部表面（11）包括鋼鐵船體（21）。
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