[發明專利]使用對源輻射的角分布的多次采樣的光刻術模擬

有效

• 申請號: 201680031497.0
• 申請日: 2016-05-13
• 公開（公告）號: CN107667315B
• 公開（公告）日: 2021-04-16
• 發明（設計）人: 段福·史蒂芬·蘇;拉斐爾·C·豪厄爾;賈建軍
• 申請（專利權）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 張啟程

1.一種計算機實施的用于優化照射源的方法，包括：

確定由來自光刻投影設備的照射源的、沿著第一組一個或更多個方向傳播并且照射到圖案形成裝置上的第一輻射部分所形成的第一分圖像，所述第一分圖像由光刻投影設備形成；

確定由來自光刻投影設備的照射源的、沿著第二組一個或更多個方向傳播并且照射到所述圖案形成裝置上的第二輻射部分所形成的第二分圖像，所述第二分圖像由光刻投影設備形成；和

由計算機模擬通過將第一分圖像和第二分圖像相加來確定一圖像，

其中所述一個或更多個方向的第一組和所述一個或更多個方向的第二組是不同的。

2.根據權利要求1所述的方法，其中第一組一個或更多個方向和第二組一個或更多個方向不包括相同的方向。

3.根據權利要求1所述的方法，其中所述圖像是掩模透射圖像，或所述圖像是空間圖像。

4.根據權利要求1所述的方法，其中所述第一輻射部分和第二輻射部分來自所述光刻投影設備的源，并且所述源是離散源或連續源。

5.根據權利要求1所述的方法，還包括從所述光刻投影設備的源的光瞳的連續區域選擇第一組一個或更多個方向。

6.根據權利要求1所述的方法，其中所述第一分圖像和所述第二分圖像由圖案形成裝置形成。

7.根據權利要求6所述的方法，其中所述圖案形成裝置是反射式圖案形成裝置，或所述圖案形成裝置是透射式圖案形成裝置。

8.根據權利要求6所述的方法，其中所述第一輻射部分和所述第二輻射部分相對于所述圖案形成裝置是傾斜的。

9.根據權利要求1所述的方法，其中所述第一分圖像和第二分圖像至少部分地由襯底上的抗蝕劑層下方的結構形成。

10.根據權利要求1所述的方法，還包括基于所述圖像調整圖案形成裝置的參數，和/或基于所述圖像調整所述光刻投影設備的參數。

11.根據權利要求1所述的方法，其中通過以非相干方式相加所述第一分圖像和第二分圖像來確定所述圖像。

12.一種計算機實施的用于優化圖案形成裝置的設計布局的方法，包括：

在數據庫中檢索設計布局中的圖案的分圖像，所述分圖像由沿著一組一個或更多個方向傳播的輻射部分形成；和

在數據庫中找到所述圖案的所述分圖像的情況下，至少由所述圖案的所述分圖像構造所述設計布局的分圖像，所述設計布局的分圖像由所述輻射部分形成。

13.一種計算機實施的用于優化圖案形成裝置的設計布局的方法，包括：

在數據庫中檢索針對沿著一組一個或更多個方向傳播的輻射部分的、用于設計布局中的圖案的透射函數；和

在數據庫中找到所述透射函數的情況下，通過使用所找到的透射函數來構造所述圖案的分圖像。

14.根據權利要求13所述的方法，還包括通過使用所述圖案的分圖像來構造所述設計布局的分圖像。

15.一種計算機可讀介質，所述計算機可讀介質上記錄有指令，所述指令在被計算機執行時實施根據權利要求1所述的方法。