[發(fā)明專利]水處理膜、水處理膜元件及其制造方法，以及支持層

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201680031384.0
• 申請日: 2016-06-16
• 公開（公告）號: CN107635650B
• 公開（公告）日: 2022-01-28
• 發(fā)明（設計）人: 日根野谷充;皆川正和;柴田規(guī)孝;寺町正史;高橋周作;福場芳則
• 申請（專利權）人: 三菱化學株式會社
• 主分類號: B01D67/00
• 分類號: B01D67/00;B01D69/10;B01D69/12
• 代理公司: 上海華誠知識產權代理有限公司 31300
• 代理人: 李曉

1.一種水處理膜元件的制造方法，是具備水處理膜的水處理膜元件的制造方法，所述水處理膜具有復絲加工物支持層以及與所述支持層鄰接而設的多孔膜層，所述制造方法具有以下工序：

將水處理膜以至少所述水處理膜的多孔膜層側與清洗液接觸的方式浸漬于清洗液中后，使所述清洗液從多孔膜層側向支持層滲透，將滲透過支持層的清洗液不與水槽中的清洗液接觸而排出至水處理膜外部；

滲透過支持層的清洗液從水處理膜的端部，經由固定該端部的外殼，不與水槽中的清洗液接觸而排出至水處理膜外部；

所述清洗液是含有表面活性劑的表面活性劑溶液，所述表面活性劑溶液中的表面活性劑是聚氧丙烯-聚氧乙烯-聚氧丙烯的嵌段共聚物，其中，相對于所述嵌段共聚物的總質量，聚氧乙烯的比例為45質量％以下。

2.根據權利要求1所述的水處理膜元件的制造方法，所述表面活性劑溶液中的表面活性劑的親水疏水平衡值HLB為1以上且7以下。

3.根據權利要求1或2所述的水處理膜元件的制造方法，其進一步具有以下工序：上述工序后，至少在多孔膜層內殘留有所述表面活性劑溶液的狀態(tài)下對水處理膜進行干燥。

4.一種水處理膜元件的制造方法，是具備水處理膜的水處理膜元件的制造方法，所述水處理膜具有復絲加工物支持層以及與所述支持層鄰接而設的多孔膜層，所述制造方法具有以下工序：

將支持層用SP值為7.0以上且10.0以下的低SP值溶劑和SP值超過10且在20.0以下的高SP值溶劑清洗后，以與清洗后的支持層鄰接的方式形成多孔膜層。

5.根據權利要求4所述的水處理膜元件的制造方法，對支持層進行清洗，使在40℃下每20g支持層在200mL的甲苯中浸漬3小時后，甲苯中的總有機碳的溶出量為每1kg支持層20mg以下。

6.根據權利要求4所述的水處理膜元件的制造方法，對支持層進行清洗，使在40℃下每20g支持層在200mL的甲苯中浸漬3小時后，甲苯中的非離子型表面活性劑的溶出量成為0.01mg/L以下。

7.一種支持層，是用于水處理膜的支持層，其為使用含有非離子型表面活性劑的加工處理劑處理而得的復絲加工物，

用SP值為7.0以上且10.0以下的低SP值溶劑和SP值超過10且在20.0以下的高SP值溶劑進行清洗后，在40℃下每20g支持層在200mL的甲苯中浸漬3小時后，甲苯中的非離子型表面活性劑的溶出量為0.01mg/L以下。