[發(fā)明專利]涂覆窗玻璃有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201680031237.3 | 申請(qǐng)日： | 2016-04-13 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN107690422B | 公開（公告）日： | 2021-08-06 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | K·S·瓦爾瑪;S·J·赫斯特 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 皮爾金頓集團(tuán)有限公司 |
| 主分類號(hào)： | C03C17/25 | 分類號(hào)： | C03C17/25;C03C17/34 |
| 代理公司： | 中國(guó)貿(mào)促會(huì)專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 11038 | 代理人： | 李躍龍 |
| 地址： | 英國(guó)蘭*** | 國(guó)省代碼： | 暫無(wú)信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 窗玻璃 | ||
1.一種涂覆窗玻璃，包含：
透明基材，其在其主表面上直接或間接地涂覆有基于二氧化硅和/或有機(jī)二氧化硅的至少一個(gè)層，
其中基于二氧化硅和/或有機(jī)二氧化硅的至少一個(gè)層具有至少5nm但至多45nm的厚度，并且
其中通過(guò)部分或完全轉(zhuǎn)化基于一種或多種硅氮烷的至少一個(gè)層獲得基于二氧化硅和/或有機(jī)二氧化硅的至少一個(gè)層，
其中在基于二氧化硅和/或有機(jī)二氧化硅的層的外表面和刮水裝置的接觸表面之間的動(dòng)摩擦系數(shù)在濕和干態(tài)之間變化不超過(guò)50％,
其中在干和濕條件下使用切割成19mm長(zhǎng)度的Bosch Superplus24刮水器刮片進(jìn)行動(dòng)摩擦系數(shù)測(cè)試；在擦拭模式下使用CSM Micro-Combi測(cè)試儀進(jìn)行摩擦測(cè)試，并通過(guò)刮水器刮片將10-ll0 mN的載荷施加到樣品的涂覆側(cè)上；在65mm的長(zhǎng)度上以600mm/min的速度進(jìn)行測(cè)試；對(duì)于每個(gè)樣品，將單獨(dú)的19mm刮水器刮片膠粘到玻璃盤，將該玻璃盤固定到CSM Micro-Combi測(cè)試儀的壓頭固定器的端部；在測(cè)試之前，使用氣溶膠溶劑噴射然后用去離子水清洗樣品，最后用Dus t Off氣溶膠噴射除去任何碎屑，對(duì)樣品進(jìn)行清潔；對(duì)于濕測(cè)試，將約2ml體積的去離子水浴施加到樣品表面；對(duì)每次測(cè)試進(jìn)行5次運(yùn)行，并使用在10到60mm之間行程獲得的數(shù)據(jù)將結(jié)果求平均值。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的涂覆窗玻璃，其中所述基于二氧化硅和/或有機(jī)二氧化硅的至少一個(gè)層具有至少10nm但至多為40nm的厚度。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的涂覆窗玻璃，其中在濕和/或干態(tài)下，在10-110mN的力和600mm/s的速度下，在基于二氧化硅和/或有機(jī)二氧化硅的層的外表面和刮水裝置的接觸表面之間的動(dòng)摩擦系數(shù)為至少0.1但至多為5。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的涂覆窗玻璃，其中在濕和/或干態(tài)下，在10-110mN的力和600mm/s的速度下，在基于二氧化硅和/或有機(jī)二氧化硅的層的外表面和刮水裝置的接觸表面之間的動(dòng)摩擦系數(shù)為至少0.4但至多為0.8。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的涂覆窗玻璃，其中在基于二氧化硅和/或有機(jī)二氧化硅的層的外表面和刮水裝置的接觸表面之間的動(dòng)摩擦系數(shù)在濕和干態(tài)之間變化不超過(guò)30％。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的涂覆窗玻璃，其中透明基材直接或間接涂覆有底層，其中所述底層位于所述透明基材的所述主表面和所述基于二氧化硅和/或有機(jī)二氧化硅的至少一個(gè)層之間。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的涂覆窗玻璃，其中所述底層包含基于透明導(dǎo)電涂層(TCC)的至少一個(gè)層。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的涂覆窗玻璃，其中涂覆的窗玻璃和/或窗玻璃是車輛窗玻璃。
9.制造根據(jù)權(quán)利要求1-7中任一項(xiàng)所述的涂覆窗玻璃的方法，包括：
在透明基材的主表面上沉積基于一種或多種硅氮烷的至少一個(gè)層，
將基于一種或多種硅氮烷的至少一個(gè)層部分或完全地轉(zhuǎn)化為基于二氧化硅和/或有機(jī)二氧化硅的至少一個(gè)層，
其中基于二氧化硅和/或有機(jī)二氧化硅的至少一個(gè)層具有至少5nm但至多45nm的厚度。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法，其中通過(guò)旋涂、狹縫模具涂覆、噴涂、輥涂、浸涂和/或印刷沉積所述基于一種或多種硅氮烷的至少一個(gè)層。
11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法，其中通過(guò)火焰噴涂沉積所述基于一種或多種硅氮烷的至少一個(gè)層。
12.根據(jù)權(quán)利要求9或10所述的方法，其中基于一種或多種硅氮烷的至少一個(gè)層向基于二氧化硅和/或有機(jī)二氧化硅的至少一個(gè)層的所述部分或完全轉(zhuǎn)化包括在沉積基于一種或多種硅氮烷的至少一個(gè)層之后用熱、UV輻射和/或IR輻射處理透明基材。
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