[發(fā)明專(zhuān)利]用于無(wú)線(xiàn)通信設(shè)備的基于MOSCAP的電路及其制造和使用方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201680026404.5 | 申請(qǐng)日: | 2016-05-04 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN109075187A | 公開(kāi)(公告)日: | 2018-12-21 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 索姆納特·慕克吉 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 薄膜電子有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | H01L29/00 | 分類(lèi)號(hào): | H01L29/00;H01L33/14;H01L51/05;H01L31/02;H01L31/115;H01L31/18 |
| 代理公司: | 四川力久律師事務(wù)所 51221 | 代理人: | 韓洋 |
| 地址: | 挪威奧*** | 國(guó)省代碼: | 挪威;NO |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 連續(xù)性傳感器 無(wú)線(xiàn)信號(hào) 無(wú)線(xiàn)通信設(shè)備 電連接 通信設(shè)備 集成電路 天線(xiàn) 集成電路處理 連續(xù)性狀態(tài) 發(fā)射器 接收器 反向散射 天線(xiàn)接收 化學(xué)品 感測(cè) 基板 近場(chǎng) 射頻 粘附 制造 電路 配置 | ||
公開(kāi)了一種無(wú)線(xiàn)(例如近場(chǎng)或射頻)通信設(shè)備,及其制造和使用的方法。所述無(wú)線(xiàn)通信設(shè)備包括接收器和/或發(fā)射器、在其上具有天線(xiàn)的基板、集成電路、以及一個(gè)或多個(gè)連續(xù)性傳感器。所述天線(xiàn)接收和/或反向散射無(wú)線(xiàn)信號(hào)。所述集成電路處理所述無(wú)線(xiàn)信號(hào)和/或由該處理而得的信息,和/或生成所述無(wú)線(xiàn)信號(hào)和/或用于該生成的信息。所述連續(xù)性傳感器配置用于感測(cè)或確定所述包裝或容器中存在化學(xué)品或物質(zhì),以及因此的所述包裝或容器的連續(xù)性狀態(tài),所述通信設(shè)備放置在或者固定或粘附在所述包裝或者容器上。所述連續(xù)性傳感器電連接到所述集成電路的一組端子,該組端子不同于所述天線(xiàn)所電連接的那組端子。
本申請(qǐng)要求于2015年5月4日提交的美國(guó)臨時(shí)專(zhuān)利申請(qǐng)62/156,687號(hào)的權(quán)益,其通過(guò)引用并入本文,如同在本文中完全闡述一樣。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明大體上涉及無(wú)線(xiàn)(例如近場(chǎng)和射頻)通信領(lǐng)域。更具體地,本發(fā)明的實(shí)施例涉及無(wú)線(xiàn)標(biāo)簽和設(shè)備及其制造和使用的方法,該無(wú)線(xiàn)標(biāo)簽和設(shè)備具有以金屬氧化物半導(dǎo)體電容器(MOSCAP)為基礎(chǔ)的前端。
背景技術(shù)
印刷的摻雜多晶硅(PDPS)晶體管和其他類(lèi)型或種類(lèi)的晶體管的有限截止頻率可能無(wú)法使其應(yīng)用于工作在更高射頻(例如,超高頻)的RFID標(biāo)簽。然而,PDPS和其他晶體管的實(shí)現(xiàn)和使用是眾所周知的,包括用于MOSCAP設(shè)備。這樣的晶體管和MOSCAP設(shè)備在許多應(yīng)用中非常有用。然而,需要一種低成本、可靠的解決方案來(lái)調(diào)制(例如,編碼)信息并探測(cè)RFID或其他無(wú)線(xiàn)標(biāo)簽(例如,工作在一個(gè)或多個(gè)UHF和/或RF頻率)中的高頻無(wú)線(xiàn)信號(hào)。
本“背景技術(shù)”部分僅用于提供背景信息。本“背景技術(shù)”部分中的陳述不是對(duì)本“背景技術(shù)”部分中公開(kāi)的主題構(gòu)成本公開(kāi)的現(xiàn)有技術(shù)的承認(rèn),且本“背景技術(shù)”部分中的任何部分都不應(yīng)視為承認(rèn)本申請(qǐng)的任何部分(包括本“背景技術(shù)”部分)構(gòu)成本公開(kāi)的現(xiàn)有技術(shù)。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明涉及非線(xiàn)性電容器,包括非線(xiàn)性電容器的無(wú)線(xiàn)(例如,近場(chǎng)通信[NFC],射頻[RF和/或RFID],高頻[HF]和超高頻[UHF])設(shè)備,以及制造和使用此種非線(xiàn)性電容器和無(wú)線(xiàn)通信設(shè)備的方法。例如,非線(xiàn)性MOSCAP設(shè)備(例如,配置或接線(xiàn)為電容器的MOS晶體管)可以被用來(lái)制作RFID或者其他無(wú)線(xiàn)標(biāo)簽中的調(diào)制器和/或檢測(cè)器,該標(biāo)簽?zāi)軌蜻\(yùn)行在相應(yīng)晶體管的截止頻率范圍之外。所述調(diào)制器和/或檢測(cè)器可以被替換或加入到RFID或其他無(wú)線(xiàn)標(biāo)簽(其工作在一個(gè)或多個(gè)UHF頻率)的前端。因此,一方面,本發(fā)明涉及非線(xiàn)性電容器,其包括第一電極、與所述第一電極接觸的介電層和第二電極,該第二電極通過(guò)所述介電層和第一半導(dǎo)體(例如印刷摻雜多晶硅)與所述第一電極隔開(kāi)的。
在各種實(shí)施例中,所述第二電極可以包括第二半導(dǎo)體(例如印刷摻雜多晶硅),且所述介電層可以包括氧化硅。例如,所述介電層可以包括二氧化硅。在進(jìn)一步的實(shí)施例中,所述第二電極與所述介電層接觸,且所述介電層可以具有實(shí)質(zhì)上恒定的厚度。在一個(gè)實(shí)例中,所述非線(xiàn)性電容器包括金屬氧化物半導(dǎo)體(MOS)晶體管,所述第一半導(dǎo)體包括所述MOS晶體管的源極和漏極區(qū)域,其中二者相互電氣連接,所述第二電極包括所述MOS晶體管的柵極,并且所述介電層包括所述MOS晶體管的柵極介電層。所述MOS晶體管的源極和漏極區(qū)域可以包括在第一印刷摻雜多晶硅體中的第一和第二重?fù)诫s區(qū)域,并且所述MOS晶體管可以進(jìn)一步包括分別連接至所述第一和第二重?fù)诫s區(qū)域且相互電氣連接的第一和第二金屬電極。此種MOS晶體管表現(xiàn)為電壓依賴(lài)型非線(xiàn)性電容器。
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H01L29-02 .按其半導(dǎo)體本體的特征區(qū)分的
H01L29-40 .按其電極特征區(qū)分的
H01L29-66 .按半導(dǎo)體器件的類(lèi)型區(qū)分的
H01L29-68 ..只能通過(guò)對(duì)一個(gè)不通有待整流、放大或切換的電流的電極供給電流或施加電位方可進(jìn)行控制的
H01L29-82 ..通過(guò)施加于器件的磁場(chǎng)變化可控的
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