[發明專利]載波聚合和異步雙連通性的測量方法

在審

• 申請號: 201680026234.0
• 申請日: 2016-04-15
• 公開（公告）號: CN107960148A
• 公開（公告）日: 2018-04-24
• 發明（設計）人: 陽·唐;黃睿
• 申請（專利權）人: 英特爾IP公司
• 主分類號: H04L5/00
• 分類號: H04L5/00;H04W56/00;H04W24/10
• 代理公司: 北京東方億思知識產權代理有限責任公司11258
• 代理人: 孫洋

1.一種基站的裝置，包括：

控制器，所述控制器用于：

為用戶設備(UE)的第一接收(Rx)鏈配置具有第一測量間隙重復周期(MGRP)的第一測量間隙模式；

為所述UE的第二接收(Rx)鏈配置具有第二MGRP的第二測量間隙模式，其中所述第一MGRP與所述第二MGRP不同；以及

耦接到所述控制器的發送器，所述發送器向所述UE發送所述第一測量間隙模式和所述第二測量間隙模式。

2.如權利要求1所述的基站的裝置，其中，所述控制器還：

將所述第一Rx鏈的第一測量間隙配置為包括一組間隙，所述一組間隙包括一個或多個間隙，每個間隙的間隙長度短于所述第一測量間隙。

3.如權利要求2所述的基站的裝置，其中，所述控制器還：

將所述一組間隙中的間隙配置為與所述第一測量間隙的第一個子幀對準。

4.如權利要求2所述的基站的裝置，其中，所述一組間隙中的間隙與所述第一測量間隙的最后一個子幀對準。

5.如權利要求1所述的基站的裝置，其中，所述控制器還：

基于所述第一Rx鏈和所述第二Rx鏈之間的到達時間差來將所述第一Rx鏈的第一測量間隙配置為包括一組間隙，所述一組間隙包括一個或多個間隙。

6.如權利要求5所述的基站的裝置，其中，所述控制器還：

在所述第一Rx鏈的子幀中配置所述一組間隙中的第一間隙，其中所述子幀與所述第二Rx鏈的第二測量間隙的前邊界并發。

7.如權利要求6所述的基站的裝置，其中，所述控制器還：

在所述第一Rx鏈的子幀中配置所述一組間隙中的第一間隙，其中所述子幀與所述第二Rx鏈的第二測量間隙的前邊界并發以支持異步雙連通性。

8.如權利要求5所述的基站的裝置，其中，所述控制器還：

響應于所述到達時間差小于500μs，在所述第一Rx鏈的索引為n+1的子幀或索引為n+5的子幀中配置所述一組間隙中的后續間隙，其中n表示針對所述第一間隙的子幀的索引。

9.如權利要求5所述的基站的裝置，其中，所述控制器還：

響應于所述到達時間差不小于500μs，在所述第一Rx鏈的索引為n+5的子幀或索引為n+6的子幀中配置所述一組間隙中的后續間隙，其中n表示針對所述第一間隙的子幀的索引。

10.如權利要求1所述的基站的裝置，其中，所述控制器還：

為所述第一Rx鏈配置周期性間隙，其中所述周期性間隙的周期為Nms，其中N具有大于5的值。

11.如權利要求10所述的基站的裝置，其中，所述控制器還：

響應于所述第一Rx鏈不具有測量間隙并且所述第二Rx鏈被用于頻率間測量而為所述第一Rx鏈配置所述周期性間隙。

12.如權利要求10所述的基站的裝置，其中，所述控制器還：

基于所述第一Rx鏈的所述周期性間隙，為所述第二Rx鏈配置第二測量間隙。

13.如權利要求12所述的基站的裝置，其中，所述控制器還：

在所述周期性測量間隙之后的一個或多個子幀中配置所述第二Rx鏈的測量。

14.如權利要求1所述的基站的裝置，其中，所述控制器還：

為所述第一Rx鏈設置周期性間隙，其中所述周期性間隙的周期為Nms，其中N的值為40。

15.如權利要求23所述的基站的裝置，其中，所述控制器還：

響應于所述第一Rx鏈不具有測量間隙并且所述第二Rx鏈被用于頻率間測量而為所述第一Rx鏈設置所述周期性間隙。

16.如權利要求23所述的基站的裝置，其中，所述控制器還：

基于所述第一Rx鏈的所述周期性間隙，為所述第二Rx鏈設置第二測量間隙。

17.如權利要求12所述的基站的裝置，其中，所述控制器還：

在所述周期性測量間隙之后的一個或多個子幀中設置所述第二Rx鏈的測量。