[發(fā)明專利]經由數(shù)字實驗解決正電子發(fā)射斷層攝影中的視場外散射校正問題有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201680025785.5 | 申請日： | 2016-04-25 |
| 公開（公告）號： | CN107636493B | 公開（公告）日： | 2021-06-08 |
| 發(fā)明（設計）人： | A·安德烈耶夫;Y-M·朱;葉京漢;宋犀云 | 申請（專利權）人： | 皇家飛利浦有限公司 |
| 主分類號： | G01T1/29 | 分類號： | G01T1/29 |
| 代理公司： | 永新專利商標代理有限公司 72002 | 代理人： | 孟杰雄;王英 |
| 地址： | 荷蘭艾*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 經由 數(shù)字 實驗 解決 正電子 發(fā)射 斷層 攝影 中的 視場 散射 校正 問題 | ||
1.一種輻射發(fā)射成像系統(tǒng)，包括：
輻射發(fā)射成像數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)，其被配置為采集視場(FOV)(14)中的輻射發(fā)射成像數(shù)據(jù)；
電子數(shù)據(jù)處理設備，其被編程為通過包括以下的操作來重建所述輻射發(fā)射成像數(shù)據(jù)：
識別與被設置在所述視場(FOV)中的目標(12)外的所述視場(FOV)的背景區(qū)域(14B)相對應的所述輻射發(fā)射成像數(shù)據(jù)的背景部分(26B)；
針對所述視場(FOV)外的至少一個空間區(qū)域調節(jié)視場(FOV)外活動估計(40)，以優(yōu)化針對所述輻射發(fā)射成像數(shù)據(jù)與所述視場(FOV)外活動估計的組合的模擬散射分布；并且
使用經優(yōu)化的模擬散射分布來重建所述視場(FOV)中的所述目標的散射校正圖像。
2.根據(jù)權利要求1所述的輻射發(fā)射成像系統(tǒng)，其中，所述調節(jié)包括：
迭代地調節(jié)所述視場(FOV)外活動估計(40)以優(yōu)化代價函數(shù)，所述代價函數(shù)將(i)針對所述輻射發(fā)射成像數(shù)據(jù)與所述視場(FOV)外活動估計的所述組合的所述模擬散射分布與(ii)所述輻射發(fā)射成像數(shù)據(jù)的所述背景部分(26B)進行比較。
3.根據(jù)權利要求1所述的輻射發(fā)射成像系統(tǒng)，其中，所述調節(jié)包括：
針對多個不同的視場(FOV)外活動估計中的每個，計算代價函數(shù)，所述代價函數(shù)將(i)針對所述輻射發(fā)射成像數(shù)據(jù)與所述視場(FOV)外活動估計的所述組合的所述模擬散射分布與(ii)所述輻射發(fā)射成像數(shù)據(jù)的所述背景部分(26B)進行比較；并且
選擇優(yōu)化所述代價函數(shù)以改善針對所述輻射發(fā)射成像數(shù)據(jù)與所述視場(FOV)外活動估計的所述組合的所述模擬散射分布的所述視場(FOV)外活動估計。
4.根據(jù)權利要求1所述的輻射發(fā)射成像系統(tǒng)，其中，所述輻射發(fā)射成像數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)包括正電子發(fā)射斷層攝影(PET)成像系統(tǒng)(10)，所述正電子發(fā)射斷層攝影(PET)成像系統(tǒng)被配置為采集所述視場(FOV)(14)中的正電子發(fā)射斷層攝影(PET)成像數(shù)據(jù)(20)。
5.根據(jù)權利要求4所述的輻射發(fā)射成像系統(tǒng)，其中，所述電子數(shù)據(jù)處理設備被編程為通過還包括以下的操作來重建所述輻射發(fā)射成像數(shù)據(jù)：
對所述正電子發(fā)射斷層攝影(PET)成像數(shù)據(jù)(20)執(zhí)行隨機校正以產生經隨機校正的正電子發(fā)射斷層攝影(PET)成像數(shù)據(jù)(26)，其中，所述識別、所述調節(jié)和所述重建是對所述經隨機校正的正電子發(fā)射斷層攝影(PET)成像數(shù)據(jù)來操作的。
6.根據(jù)權利要求4-5中的任一項所述的輻射發(fā)射成像系統(tǒng)，其中，所述電子數(shù)據(jù)處理設備被編程為通過對表示為正弦圖的所述正電子發(fā)射斷層攝影(PET)成像數(shù)據(jù)執(zhí)行的所述操作來重建所述正電子發(fā)射斷層攝影(PET)成像數(shù)據(jù)(20)。
7.根據(jù)權利要求6所述的輻射發(fā)射成像系統(tǒng)，其中，所述識別包括：
將所述正弦圖中的所述目標(12)的邊界識別為正弦圖強度的下降；并且
將所述背景部分(26B)識別為所述正弦圖的在所述邊界的較低強度側的部分。
8.根據(jù)權利要求1所述的輻射發(fā)射成像系統(tǒng)，其中，所述視場(FOV)外活動估計(40)包括在所述視場(FOV)(14)的相對側的兩個視場(FOV)外活動估計分量。
9.根據(jù)權利要求8所述的輻射發(fā)射成像系統(tǒng)，其中，所述視場(FOV)(14)的相對側的所述兩個視場(FOV)外活動估計分量關于所述視場(FOV)(14)不對稱。
10.根據(jù)權利要求8-9中的任一項所述的輻射發(fā)射成像系統(tǒng)，其中，所述視場(FOV)外活動估計(40)還包括在所述視場(FOV)(14)的第三側的第三視場(FOV)外活動估計分量(1”，2”)。
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