[發(fā)明專利]X射線裝置、數(shù)據(jù)處理裝置及數(shù)據(jù)處理方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201680025228.3
• 申請(qǐng)日: 2016-10-24
• 公開（公告）號(hào): CN107533019B
• 公開（公告）日: 2020-05-05
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 山河勉;山本修一郎;岡田雅弘
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 株式會(huì)社蛟簿
• 主分類號(hào): G01N23/046
• 分類號(hào): G01N23/046;A61B6/03;G01N23/18
• 代理公司: 北京鴻元知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11327
• 代理人: 溫劍;陳英俊

1.一種數(shù)據(jù)處理裝置(12)，向?qū)ο笪镎丈渚哂蓄A(yù)先確定的連續(xù)X射線光譜的射束狀X射線，對(duì)于透過該對(duì)象物的X射線的光子的數(shù)量，將對(duì)具有分別屬于預(yù)先設(shè)定的一個(gè)以上的X射線能量BIN的X射線能量的該光子的數(shù)量按照每個(gè)X射線檢測(cè)器的像素且按照每個(gè)該X射線能量BIN進(jìn)行計(jì)數(shù)而得到的計(jì)數(shù)值進(jìn)行處理，其特征在于，具備：

特性取得單元(51)，基于所述計(jì)數(shù)值，按照每個(gè)所述X射線能量BIN取得X射線減弱量μt的特性，所述X射線減弱量μt的特性由與所述對(duì)象物相同的物質(zhì)、或者由有效原子序數(shù)可視作與該對(duì)象物類似的原材料組成的物質(zhì)在所述X射線的線束透過的方向上的多個(gè)相互不同的已知厚度t和該線減弱系數(shù)μ定義；

修正用數(shù)據(jù)運(yùn)算單元(52)，按照每個(gè)所述X射線能量BIN且按照每個(gè)所述像素或者每個(gè)由兩個(gè)以上的該像素組成的像素區(qū)域計(jì)算修正用數(shù)據(jù)，所述修正用數(shù)據(jù)用于將由所述特性取得單元取得的X射線減弱量μt的特性置換成在以所述厚度t為一個(gè)軸、并且以所述X射線減弱量μt為與該一個(gè)軸正交的另一個(gè)軸的二維坐標(biāo)中基于與代表各所述X射線能量BIN的單色X射線相當(dāng)?shù)腦射線能量確定的、經(jīng)過該坐標(biāo)的原點(diǎn)的直線狀的目標(biāo)特性；以及

修正單元(53)，基于所述修正用數(shù)據(jù)，按照每個(gè)所述X射線能量BIN并且按照每個(gè)所述像素或者每個(gè)所述像素區(qū)域，對(duì)所述計(jì)數(shù)值進(jìn)行修正，

所述原材料為具有所述對(duì)象物的有效原子序數(shù)±5的范圍內(nèi)的有效原子序數(shù)的原材料。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的數(shù)據(jù)處理裝置，其特征在于，

所述修正用數(shù)據(jù)運(yùn)算單元具有：

近似單元(S3(S31))，通過所述厚度t的函數(shù)對(duì)由所述特性取得單元取得的所述X射線減弱量μt的特性進(jìn)行近似；以及

修正系數(shù)運(yùn)算單元(S3(S32))，作為所述修正用數(shù)據(jù)計(jì)算修正系數(shù)，所述修正系數(shù)用于將通過所述函數(shù)近似出的X射線減弱量μt的特性置換成與具有代表各所述X射線能量BIN的X射線能量的單色X射線相當(dāng)?shù)摹⑺鯴射線減弱量μt的所述直線狀的目標(biāo)特性。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的數(shù)據(jù)處理裝置，其特征在于，

所述近似單元構(gòu)成為，將由所述厚度t構(gòu)成的所述一個(gè)軸分割為多個(gè)區(qū)間，在該多個(gè)區(qū)間分別通過該厚度t的函數(shù)對(duì)所述X射線減弱量μt的特性進(jìn)行近似，

所述修正系數(shù)運(yùn)算單元構(gòu)成為，在所述多個(gè)區(qū)間分別計(jì)算所述修正系數(shù)。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的數(shù)據(jù)處理裝置，其特征在于，

所述近似單元構(gòu)成為，在由所述厚度t構(gòu)成的所述一個(gè)軸上，對(duì)于規(guī)定數(shù)量的多個(gè)點(diǎn)處的所述X射線減弱量μt的特性，一邊使該規(guī)定數(shù)量的多個(gè)點(diǎn)的位置移動(dòng)，一邊通過該厚度t的函數(shù)依次進(jìn)行近似，

所述修正系數(shù)運(yùn)算單元構(gòu)成為，在由所述近似單元做成的所述規(guī)定數(shù)量的多個(gè)點(diǎn)的位置的分組中分別計(jì)算所述修正系數(shù)。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的數(shù)據(jù)處理裝置，其特征在于，

所述修正系數(shù)運(yùn)算單元構(gòu)成為，每次設(shè)定所述多個(gè)點(diǎn)的位置時(shí)，計(jì)算相對(duì)于如下的范圍的所述修正系數(shù)：即，該范圍是該多個(gè)點(diǎn)的位置中的局部位置構(gòu)成的所述厚度t的范圍，且是與之前設(shè)定時(shí)的該局部位置構(gòu)成的所述厚度t的范圍連續(xù)的該厚度t的范圍。

6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的數(shù)據(jù)處理裝置，其特征在于，

所述多個(gè)區(qū)間中，越是所述厚度t薄的區(qū)間，厚度t的刻度設(shè)定得越細(xì)。

7.根據(jù)權(quán)利要求3所述的數(shù)據(jù)處理裝置，其特征在于，

所述多個(gè)區(qū)間中所述厚度t最薄的區(qū)間以所述二維坐標(biāo)的原點(diǎn)為起點(diǎn)。

8.根據(jù)權(quán)利要求3所述的數(shù)據(jù)處理裝置，其特征在于，

所述厚度t的函數(shù)為所述厚度t的二次函數(shù)。

9.根據(jù)權(quán)利要求1至8中任一項(xiàng)所述的數(shù)據(jù)處理裝置，其特征在于，

所述X射線能量BIN的數(shù)量為兩個(gè)、三個(gè)或四個(gè)以上。