[發(fā)明專利]用于利用深度信息的全視差壓縮光場(chǎng)合成的方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201680023384.6
• 申請(qǐng)日: 2016-04-21
• 公開（公告）號(hào): CN107430782B
• 公開（公告）日: 2021-06-04
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: D.B.格拉西奧斯;Z.Y.阿爾帕斯蘭;H.S.埃爾-古勞里
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 奧斯坦多科技公司
• 主分類號(hào): G06T15/00
• 分類號(hào): G06T15/00;G06T7/00;G06K9/00;G02B6/00
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 周學(xué)斌;鄭冀之

1.一種用于將來自表示多個(gè)預(yù)定視圖和相應(yīng)視差值的數(shù)據(jù)集的光場(chǎng)進(jìn)行合成的方法，包括：

a) 使用所述相應(yīng)視差值將所述多個(gè)預(yù)定視圖投影到單個(gè)視圖位置，

b) 合并所述多個(gè)預(yù)定視圖來定義合并視圖，其中所述合并包括：

i) 評(píng)估所述多個(gè)預(yù)定視圖中的每個(gè)以確定每個(gè)預(yù)定視圖的表觀可靠性；

ii) 針對(duì)每個(gè)像素，選擇先前未選擇的表觀上最可靠的視圖并且使用所述相應(yīng)視差值或標(biāo)注孔洞的位置；

iii) 再次選擇先前未選擇的表觀上最可靠的視圖并且如果孔洞填充像素存在則填充在ii）中發(fā)現(xiàn)的孔洞；

iv) 針對(duì)更進(jìn)一步的預(yù)定視圖重復(fù)ii）和iii），直到所有預(yù)定視圖已經(jīng)被處理；以及

c) 對(duì)所述合并視圖執(zhí)行孔洞填充操作以定義用于顯示的合成光場(chǎng)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中針對(duì)視差值已經(jīng)在b)、ii)中被用于的每個(gè)像素，如果替換視差比在b)、ii)中使用的視差值大，則替換該視差值作為b)、iii)的部分以便填充孔洞。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，進(jìn)一步包括：

確定閾值，利用所述閾值來比較相應(yīng)視差值中的差的絕對(duì)值；以及

對(duì)于在b)、ii)中選擇的最可靠視圖中的每個(gè)像素，針對(duì)任何相應(yīng)像素的相應(yīng)視差值僅在如果在所述相應(yīng)視差和針對(duì)下一個(gè)最可靠視圖的相應(yīng)像素的視差中的差的絕對(duì)值小于所述閾值的情況下使用，否則兩個(gè)視差中的較大的一個(gè)被用作相應(yīng)像素的視差。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中從比預(yù)定的多個(gè)視圖更多數(shù)量的視圖選擇多個(gè)預(yù)定視圖。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中表示多個(gè)預(yù)定視圖的數(shù)據(jù)集包括每個(gè)預(yù)定視圖的位置的標(biāo)識(shí)，并且其中通過分析所述視圖來確定所述預(yù)定視圖中的至少一個(gè)的位置。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中在b)、i）中，通過在相應(yīng)視圖中找到每個(gè)視差發(fā)生的頻率來確定每個(gè)預(yù)定視圖的表觀可靠性，并且響應(yīng)于N個(gè)最頻繁視差的加權(quán)和來建立所述表觀可靠性，其中作為視差在相應(yīng)視圖中的重復(fù)的值來提供權(quán)重，其中N的相同值被用于所有預(yù)定視圖，并且響應(yīng)于在扭曲視圖中不同視差值的數(shù)量來選擇N。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中c）的孔洞填充操作包括比較孔洞的相對(duì)邊界處的像素并且通過重復(fù)相對(duì)于相對(duì)邊界表示背景的邊界的像素來填充孔洞。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，其中所述相對(duì)邊界是在合并視圖中沿著水平線的相對(duì)邊界。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中在a）與b）之間，所述方法進(jìn)一步包括將經(jīng)投影的多個(gè)預(yù)定視圖劃分成M乘N個(gè)像素塊，并且然后逐塊完成b）和c）。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法，其中在逐塊完成b）和c）之后基于塊中的孔洞的數(shù)量來使M乘N個(gè)塊的大小適應(yīng)。

11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法，其中在c）之后，合成光場(chǎng)受到進(jìn)一步處理。

12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法，其中所述進(jìn)一步處理包括比較鄰近塊的塊亮度并且根據(jù)鄰近顏色級(jí)來調(diào)整顏色級(jí)。

13.根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法，其中所述進(jìn)一步處理包括濾波。

14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的方法，其中所述進(jìn)一步處理包括解塊濾波。