[發明專利]吡咯烷化合物有效
| 申請號： | 201680022600.5 | 申請日： | 2016-04-08 |
| 公開（公告）號： | CN107531624B | 公開（公告）日： | 2020-10-02 |
| 發明（設計）人： | 池本哲哉;利奧波德恩帕卡·魯特特 | 申請（專利權）人： | 住友化學株式會社 |
| 主分類號： | C07D207/09 | 分類號： | C07D207/09;C07B61/00;C07C67/343;C07C69/716;C07D207/08 |
| 代理公司： | 中科專利商標代理有限責任公司 11021 | 代理人： | 葛凡 |
| 地址： | 日本國*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 吡咯烷 化合物 | ||
1.一種化合物，以式(1)表示：
式中，Rf表示C1－C8全氟烷基，R表示C1－C4烷基、C1－C4氟代烷基或鹵素原子，m表示0～2的整數，所述以式(1)表示的化合物是光學活性的化合物。
2.一種以式(1)表示的化合物的制造方法，
式(1)中，Rf表示C1－C8全氟烷基，R表示C1－C4烷基、C1－C4氟代烷基或鹵素原子，m表示0～2的整數，
所述制造方法包括：
通過向以式(2)表示的化合物中導入離去基團而得到以式(3)表示的化合物的工序，
式(2)中，R、m如上述定義所示，PG表示氨基的保護基，
式(3)中，X表示離去基團，R、m及PG如上述定義所示；
通過使化合物(3)與氨反應而得到以式(4)表示的化合物或其鹽的工序，
式(4)中，PG、R及m如上述定義所示；
通過使化合物(4)或其鹽與C1－C8全氟烷烴磺酰化劑反應而得到以式(5)表示的化合物的工序，
式(5)中，Rf、PG、R及m如上述定義所示；以及
將化合物(5)脫保護的工序。
3.一種以式(1)表示的化合物的制造方法，
式(1)中，Rf表示C1－C8全氟烷基，R表示C1－C4烷基、C1－C4氟代烷基或鹵素原子，m表示0～2的整數，
所述制造方法包括：
通過向以式(2)表示的化合物中導入離去基團而得到以式(3)表示的化合物的工序，
式(2)中，R、m如上述定義所示，PG表示氨基的保護基，
式(3)中，X表示離去基團，R、m及PG如上述定義所示；
通過使以式(3)表示的化合物與三氟甲磺酰胺或其鹽反應而得到以式(5)表示的化合物的工序，
式(5)中，Rf、PG、R及m如上述定義所示；以及
將化合物(5)脫保護的工序。
4.一種以式(III)表示的化合物的制造方法，
式(III)中，R1表示羧基的保護基，R2表示羥基的保護基，所述制造方法包括：
通過使以式(I)表示的化合物或其聚合物與以式(II)表示的化合物在以式(1)表示的化合物的存在下反應的工序，
式(I)中，R1如上述定義所示，
式(II)中，R2如上述定義所示，
式(1)中，Rf表示C1－C8全氟烷基，R表示C1－C4烷基、C1－C4氟代烷基或鹵素原子，m表示0～2的整數，
所述以式(1)表示的化合物為光學活性體，所述制造方法制造光學活性的以式(III)表示的化合物。
5.一種化合物，以式(3a)表示：
式中，R表示C1－C4烷基、C1－C4氟代烷基或鹵素原子，m表示0～2的整數，PG表示氨基的保護基，
所述以式(3a)表示的化合物是光學活性的化合物。
6.一種化合物，以式(5)表示：
式中，R表示C1－C4烷基、C1－C4氟代烷基或鹵素原子，m表示0～2的整數，PG表示氨基的保護基，Rf表示C1－C8全氟烷基，
所述以式(5)表示的化合物是光學活性的化合物。
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