[發(fā)明專利]低折射率層和包含該低折射率層的減反射膜有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201680020977.7 | 申請日: | 2016-08-18 |
| 公開(公告)號: | CN107438778B | 公開(公告)日: | 2019-06-18 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 金芙敬;張影來;張錫勛;邊真錫 | 申請(專利權(quán))人: | 株式會社LG化學 |
| 主分類號: | G02B1/14 | 分類號: | G02B1/14;G02B1/113 |
| 代理公司: | 北京鴻元知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11327 | 代理人: | 李靜;張云志 |
| 地址: | 韓國*** | 國省代碼: | 韓國;KR |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 折射率 包含 減反射膜 | ||
1.一種低折射率層,該低折射率層滿足下面的式1:
[式1]
30%≥ΔS=[(S0-S1)/S0]×100%
在式1中,
S0是當對#0000級鋼絲絨施加負載并且以24rpm的速度往復運動十次摩擦所述低折射率層的表面時,不產(chǎn)生劃痕的最大負載;
S1是將所述低折射率層浸漬在加熱至30℃的10重量%的氫氧化鈉水溶液中2分鐘,用水洗滌浸漬后的層,擦去水分,接著將擦拭后的層浸漬在加熱至55℃的10重量%的氫氧化鈉水溶液中30秒,然后用水洗滌并擦去水分制備膜,以與測量S0的方法相同的方式測量該膜不產(chǎn)生劃痕的最大負載,
其中,所述低折射率層包含光固化產(chǎn)物,該光固化產(chǎn)物通過使包含可光聚合的化合物、被至少一個反應性官能團取代的聚倍半硅氧烷、含有O-CF2CF2-O-CF3的氟系化合物、無機粒子和光聚合引發(fā)劑的可光固化的涂層組合物進行光固化而得到,
基于100重量份的可光聚合的化合物,所述聚倍半硅氧烷的含量為0.5至25重量份,
氟系化合物的氟含量為1重量%至25重量%,氟系化合物的重均分子量為2,000至200,000g/mol。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的低折射率層,該低折射率層滿足下面的式2:
[式2]
0.5≥Δb*=|b*1-b*0|
在式2中,
b*0是所述低折射率層在由國際照明委員會定義的L*a*b*顏色坐標系中的b*值;
b*1是將所述低折射率層浸漬在加熱至30℃的10重量%的氫氧化鈉水溶液中2分鐘,用水洗滌浸漬后的層,擦去水分,接著將擦拭后的層浸漬在加熱至55℃的10重量%的氫氧化鈉水溶液中30秒,然后用水洗滌并擦去水分制備膜,以與測量b*0的方法相同的方式測量該膜在L*a*b*顏色坐標系中的b*值。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的低折射率層,其中,式2中的b*0值為1至-8。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的低折射率層,其中,所述低折射率層在480nm至680nm的波長范圍內(nèi)顯示最小反射率。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的低折射率層,其中,所述低折射率層對380nm至780nm的波長范圍內(nèi)的光的平均反射率為0.9%至2.5%。
6.一種減反射膜,該減反射膜包含:權(quán)利要求1所述的低折射率層;以及在所述低折射率層的一個表面上形成的硬涂層。
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