[發(fā)明專利]具有背向反射隔離器的集成激光器在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201680019330.2 | 申請(qǐng)日: | 2016-03-28 |
| 公開(公告)號(hào): | CN107820575A | 公開(公告)日: | 2018-03-20 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 鄭學(xué)哲;A·V·克里什納莫西;K·拉杰 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 甲骨文國(guó)際公司 |
| 主分類號(hào): | G02B6/12 | 分類號(hào): | G02B6/12;G02B6/124;G02B6/42;H01S5/02;H01S5/022;H01S5/026 |
| 代理公司: | 中國(guó)國(guó)際貿(mào)易促進(jìn)委員會(huì)專利商標(biāo)事務(wù)所11038 | 代理人: | 邊海梅 |
| 地址: | 美國(guó)加*** | 國(guó)省代碼: | 暫無(wú)信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說(shuō)明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 具有 背向 反射 隔離器 集成 激光器 | ||
1.一種集成電路,包括:
基板;
布置在所述基板上的掩埋氧化物BOX層;
布置在所述BOX層上的半導(dǎo)體層,其中所述半導(dǎo)體層包括光學(xué)耦合器和光波導(dǎo),以及其中,在操作期間,所述光學(xué)耦合器將光學(xué)信號(hào)耦合到所述光波導(dǎo)中;
布置在所述半導(dǎo)體層上的隔離器;以及
布置在所述隔離器上的光源,所述光源包括透鏡,其中,在操作期間,所述光源生成朝向所述隔離器傳播的所述光學(xué)信號(hào),并且所述透鏡聚焦所述光學(xué)信號(hào);以及
其中,在操作期間,所述隔離器減少所述光學(xué)信號(hào)朝向所述光源的背向反射。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的集成電路,其中所述光學(xué)耦合器包括光柵耦合器。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或者權(quán)利要求2所述的集成電路,其中所述隔離器包括:
半波片,所述半波片在操作期間在所述光學(xué)信號(hào)中的沿著尋常軸和非常軸的偏振分量之間產(chǎn)生π相移,并且以所述半波片的光軸與所述光學(xué)信號(hào)的輸入偏振之間的角度的兩倍來(lái)旋轉(zhuǎn)所述光學(xué)信號(hào)的偏振平面;
法拉第旋轉(zhuǎn)器;以及
偏振器。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的集成電路,其中所述偏振器與所述光源對(duì)齊,使得從所述光源朝向所述光學(xué)耦合器傳播的所述光學(xué)信號(hào)的偏振穿過(guò)所述偏振器。
5.根據(jù)權(quán)利要求3或者權(quán)利要求4所述的集成電路,其中所述偏振器與所述半波片對(duì)齊。
6.根據(jù)權(quán)利要求3至5中的任何一個(gè)所述的集成電路,其中所述法拉第旋轉(zhuǎn)器在所述光學(xué)信號(hào)中的水平偏振分量和垂直偏振分量之間產(chǎn)生45°相移。
7.根據(jù)權(quán)利要求3至6中的任何一個(gè)所述的集成電路,其中所述法拉第旋轉(zhuǎn)器布置在所述偏振器上,并且所述半波片布置在所述法拉第旋轉(zhuǎn)器上。
8.根據(jù)權(quán)利要求1至7中的任何一個(gè)所述的集成電路,其中所述光源在平面中生成所述光學(xué)信號(hào)并且所述光源中的鏡以相對(duì)于該平面的角度反射所述光學(xué)信號(hào);以及
其中所述角度不同于90°。
9.根據(jù)權(quán)利要求1至8中的任何一個(gè)所述的集成電路,其中所述透鏡在水平方向上從所述光學(xué)耦合器的位置偏移,使得在操作期間所述光學(xué)信號(hào)傳播通過(guò)所述隔離器到達(dá)所述光學(xué)耦合器。
10.根據(jù)權(quán)利要求1至9中的任何一個(gè)所述的集成電路,其中所述光源包括激光器。
11.一種系統(tǒng),包括:
處理器;
耦合到所述處理器的存儲(chǔ)器,所述存儲(chǔ)器存儲(chǔ)程序模塊,所述存儲(chǔ)模塊在操作期間由所述處理器執(zhí)行;以及
根據(jù)權(quán)利要求1至10中的任何一個(gè)所述的集成電路。
12.一種用于將光學(xué)信號(hào)光學(xué)地耦合到光波導(dǎo)中的方法,包括:
在光源的平面中生成所述光學(xué)信號(hào);
使用鏡以相對(duì)于所述平面的角度反射所述光學(xué)信號(hào);
聚焦所述光學(xué)信號(hào);
傳播所述光學(xué)信號(hào)通過(guò)隔離器,所述隔離器減少所述光學(xué)信號(hào)朝向所述光源的背向反射,其中所述光源布置在所述隔離器上;以及
使用光學(xué)耦合器將所述光學(xué)信號(hào)光學(xué)地耦合到所述光波導(dǎo)中,其中所述隔離器布置在包括所述光學(xué)耦合器和所述光波導(dǎo)的半導(dǎo)體層上;
其中所述半導(dǎo)體層布置在掩埋氧化物BOX層上;以及
其中所述BOX層布置在基板上。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于甲骨文國(guó)際公司,未經(jīng)甲骨文國(guó)際公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201680019330.2/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專利網(wǎng)。





