[發明專利]聚乙烯系薄膜有效
| 申請號: | 201680018586.1 | 申請日: | 2016-03-22 |
| 公開(公告)號: | CN107428968B | 公開(公告)日: | 2020-12-01 |
| 發明(設計)人: | 戶松稚登;大木祐和;松田明 | 申請(專利權)人: | 東洋紡株式會社 |
| 主分類號: | C08J5/18 | 分類號: | C08J5/18;B32B27/32;C08L23/04;C08L23/10 |
| 代理公司: | 中科專利商標代理有限責任公司 11021 | 代理人: | 蔣亭 |
| 地址: | 日本國*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 聚乙烯 薄膜 | ||
提供一種聚乙烯系薄膜,其在從薄膜卷狀態卷出時的耐粘連性、與基材層壓后的密封劑彼此的耐粘連性更良好,且兼具透明性和低溫下也良好的熱封性。一種聚乙烯系薄膜,其特征在于,在至少一個面中,薄膜的流向上的算術平均粗糙度(Ra(MD))與垂直于流向的方向的算術平均粗糙度(Ra(TD))的比值滿足下述式(1)。(1)1.2≤Ra(TD)/Ra(MD)≤3.6。Ra(MD):在薄膜的流向上測定的算術平均粗糙度[μm];Ra(TD):在與薄膜的流向垂直的方向上測定的算術平均粗糙度[μm]。
技術領域
本發明涉及聚乙烯系薄膜。更詳細地,涉及耐粘連性、低溫下的熱封性優異、并且剛從卷中卷出后也顯示出良好的滑動性的聚乙烯系薄膜。
背景技術
近年來,由于方便性、省資源、對環境的負荷降低等,應用了薄膜的包裝或容器在廣泛的領域中使用。薄膜與現有的成形容器、成形物相比,具有質量輕、容易廢棄處理、成本低的優點。
一般而言,密封材料通常與低溫熱粘接性比密封材料差的雙軸拉伸尼龍薄膜、雙軸拉伸酯薄膜、雙軸拉伸聚丙烯薄膜等基材層壓后使用,但在層壓加工后進行保存之后,有時在密封材料與基材之間發生粘連,難以進行用于制袋加工的層壓薄膜的重繞,或者,有時在制袋加工時成為袋內表面的密封材料彼此發生粘連,從而難以填充食品。
出于改善上述情況的目的,已知的策略是散布淀粉等粉末,從而避免密封材料與基材的粘連、避免密封材料彼此的粘連。
但是,這樣不僅會污染薄膜加工裝置的周邊,而且,還會產生使包裝食品的外觀顯著惡化、或者附著于密封材料的粉末與食品一起直接混入到包裝體內之類的衛生性等的問題。
為了解決上述問題而公開了:在具有熱封性的聚乙烯系樹脂薄膜中,熱封性與耐粘連性呈現平衡的層疊聚乙烯系無拉伸薄膜(例如參照專利文獻1等。)。
然而,尋求進一步改善將薄膜卷進行卷出時的聚乙烯系薄膜彼此的耐粘連性。
現有技術文獻
專利文獻
專利文獻1:日本特許第4779822號公報
發明內容
發明要解決的課題
本發明以所述現有技術的課題為背景。即,本發明的目的是提供一種聚乙烯系薄膜,其在從薄膜卷狀態卷出時的耐粘連性、與基材層壓后的密封劑彼此的耐粘連性更良好,且兼具透明性和低溫下也良好的熱封性。
用于解決課題的方法
本發明人為了達成所述目的而進行了深入研究,結果完成了本發明。即,本發明具有以下的方式。
〔1〕一種聚乙烯系薄膜,其特征在于,在至少一個面中,薄膜的流向的算術平均傾斜粗糙度(Ra(MD)[μm])與垂直于流向的方向的算術平均粗糙度(Ra(TD)[μm])之比滿足下述式(1)。
(1)1.2≤Ra(TD)/Ra(MD)≤3.6
Ra(MD):在薄膜的流向上測定的算術平均粗糙度[μm]
Ra(TD):在與薄膜的流向垂直的方向上測定的算術平均粗糙度[μm]
〔2〕一種聚乙烯系薄膜,其特征在于,其至少包含密封層(A層)、中間層(B層)、層壓層(C層)這3層,A層的面的薄膜的流向的算術平均粗糙度(Ra(MD)[μm])與垂直于流向的方向的算術平均粗糙度(Ra(TD)[μm])之比滿足下述式(1)。
(1)1.2≤Ra(TD)/Ra(MD)≤3.6
Ra(MD):在薄膜的流向上測定的算術平均粗糙度
Ra(TD):在與薄膜的流向垂直的方向上測定的算術平均粗糙度
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