[發明專利]奧氏體系不銹鋼板、蓋部件和奧氏體系不銹鋼板的制造方法

在審

• 申請號: 201680018506.2
• 申請日: 2016-03-16
• 公開（公告）號: CN107405655A
• 公開（公告）日: 2017-11-28
• 發明（設計）人: 川越崇史;香月淳一
• 申請（專利權）人: 日新制鋼株式會社
• 主分類號: B21B1/22
• 分類號: B21B1/22;C21D9/46;C22C38/00;C22C38/58;G11B33/02;G11B33/14
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司11127
• 代理人: 龐東成,張志楠

技術領域

本發明涉及在冷精軋(仕上げ冷間圧延)和光亮退火后使用毛面輥進行平整(調質圧延)而得到的奧氏體系不銹鋼板、蓋部件(カバー部材)和奧氏體系不銹鋼板的制造方法。

背景技術

在外裝建材、內裝建材和廚房用品等中，廣泛使用以SUS304和SUS316為代表的奧氏體系不銹鋼板、以SUS430為代表的奧氏體系不銹鋼板。

并且，在這些用途中，為了使制品制造時或施工時所附著的各種污垢和日常使用時所附著的各種污垢或指紋等容易被除去而要求其清洗性，不僅如此，為了使污垢、指紋、處理缺陷等不容易顯眼，防眩性也被視為是很重要的。

另外，在精密設備、電子設備部件等中，例如對于硬盤驅動器(HDD)，通常要求高密度化和處理的高速化。

另外，對于在旋轉部件、臂部件、盒部件和蓋部件等HDD部件中所使用的材料，不僅要求其優異的耐腐蝕性，而且對于顆粒(附著物顆粒)和外部氣體等的污垢也進行嚴格控制。

另外，在制造HDD部件時的清洗工序中，例如，在利用烴進行脫脂后，使用氟系清洗液、弱堿系清洗液和超純水等實施超聲波清洗等細致的清洗。

另外，在清洗工序中，根據需要實施蒸氣清洗，最終實施2次以上的使用超純水的漂洗(沖洗)工序，從而不僅除去顆粒、而且還除去離子性物質。

此外，在清洗工序中，在空氣中存在的微細的污垢也會成為污染源，因而通常在由JIS B 9920規定的5級以上的清潔度的清潔環境下進行清洗。需要說明的是，由JIS B 9920規定的5級以上是指下述環境，即在每1m²空氣中，0.1μm的顆粒數為100000個以下、0.2μm的顆粒數為23700個以下、0.3μm的顆粒數為10200個以下、0.5μm的顆粒數為3520個以下、1μm的顆粒數為832個以下、5μm的顆粒數為29個以下。

在經過這樣的清洗工序而進行制造的HDD部件中，使用普通鋼、鋁合金和不銹鋼等，出于主要提高耐腐蝕性和改善清洗性的目的，多在實施了無電解鍍Ni的狀態下進行使用。

此處，在HDD部件等中，不僅要求耐腐蝕性、清洗性，而且為了使指紋、微細的缺陷不容易顯眼，還要求為具有防眩性的無光澤表面。

另外，在HDD中，如圖1所示，在作為蓋部件1的內側的蓋內面2安裝有例如墊片、橡膠墊圈等密封部件3，為了在HDD的各部件組裝后的狀態下將HDD內部與HDD外部阻斷進行密封。

密封部件3利用粘合劑安裝在構成蓋部件1的不銹鋼上，因而為了維持穩定的密封性，粘合劑與不銹鋼之間的浸潤性是很重要的。即，對于構成HDD的蓋部件1的不銹鋼來說，要求其表面為親水性的。

并且，作為HDD盒等精密設備的蓋部件用的不銹鋼板，已知有專利文獻1中所記載的耐污染性優異的不銹鋼減振鋼板。

對于通常的不銹鋼板來說，在進行退火酸洗時，由于退火而在表面附近的晶界附近生成的貧Cr層通過酸洗而被優先溶解去除(溶削)，沿著晶界形成較小的溝槽(微槽)。在酸洗不充分的情況下，該微槽中殘留油分而成為發生脫氣的主要原因。另外，微槽中容易附著塵埃，也會成為清洗性降低的主要原因。

因此，在專利文獻1中，為了防止微槽的產生，作為冷軋后的最終退火，實施光亮退火或無氧化退火。

另外，作為不容易附著空氣中的微細的灰塵或塵埃的不銹鋼板，如專利文獻2中所記載，已知有如下所述的不銹鋼板：通過將機械拋光、還原退火和使用水溶性潤滑劑的平整進行組合，將平整板表面上的大于0.25mm²尺寸的針孔數目抑制在每10cm²為10個以下的不銹鋼板。

此外，作為耐污性和耐腐蝕性優異的不銹鋼板，如專利文獻3中所示，已知有下述的不銹鋼板：使用毛面輥在精軋后進行光亮退火而將其控制在規定的表面粗糙度，從而提高其耐污性和耐腐蝕性的不銹鋼板。

另外，作為耐污染性、清洗性和防眩性優異的不銹鋼板，如專利文獻4所示，通過在最終退火后利用鏡面輥進行第1次平整、利用毛面輥進行第2次平整而將鋼板表面控制在規定的算術平均粗糙度，從而提高耐污染性、清洗性和防眩性。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：日本專利第3956346號公報

專利文獻2：日本特開2001-20045號公報

專利文獻3：日本專利第3587180號公報

專利文獻4：日本專利第4226131號公報

發明內容

發明所要解決的課題