[發明專利]疏水性膦酸酯和硅烷化學物質

在審

• 申請號: 201680018429.0
• 申請日: 2016-03-29
• 公開（公告）號: CN107429086A
• 公開（公告）日: 2017-12-01
• 發明（設計）人: M·林福德;A·迪萬;F·萊恩
• 申請（專利權）人: 莫克斯泰克公司
• 主分類號: C09D5/08
• 分類號: C09D5/08;C23C16/24
• 代理公司: 北京市中咨律師事務所11247
• 代理人: 李穎,林柏楠

1.一種器件，其包括：

a.襯底；

b.位于襯底上的膦酸酯涂層，其中膦酸酯涂層包括：

其中：

i.各R¹獨立地為疏水基團；

ii.Z為與襯底的鍵；

iii.各R⁵為膦酸酯反應性基團、R¹、R⁶或Z；

iv.膦酸酯反應性基團為-Cl、-OR⁶、-OCOR⁶或-OH；

v.各R⁶各自獨立地為烷基、芳基或其組合。

2.根據權利要求1所述的器件，其中所述疏水基團包括CF₃(CF₂)_n(CH₂)_m，其中n和m為0≤n≤20和0≤m≤5界限內的整數。

3.根據權利要求1所述的器件，進一步包括位于襯底上的硅烷涂層，其中硅烷涂層包括化學式(1)、化學式(2)或其組合：

其中：

a.r為正整數；

a.X為與襯底的鍵；

c.各R³獨立地為化學元素或基團；

d.各R³獨立地選自：硅烷反應性基團，-H、R¹、R⁶和X；且

e.各硅烷反應性基團獨立地選自：-Cl、-OR⁶、-OCOR⁶、-N(R⁶)₂和-OH。

4.根據權利要求3的器件，其中至少一個R³為-OCH₃，至少一個R⁵為-OCH₃或二者。

5.根據權利要求3所述的器件，其中：

a.襯底包括從襯底的基體部分向外延伸的多個凸起，以及介于凸起之間的間隙；

b.硅烷涂層和膦酸酯涂層是共形涂層。

6.根據權利要求5所述的器件，其中：

a.襯底包括由不同材料制成的不同區域；

b.襯底的一個區域包括膦酸酯涂層至少三倍的硅烷涂層；和

c.襯底的另一區域包括硅烷涂層至少三倍的膦酸酯涂層。

7.根據權利要求3所述的器件，其中：

a.襯底包括由不同材料制成的不同區域；

b.X為-O-Si；和

c.Z為-O-Metal，其中Metal為金屬原子。

8.一種膦酸酯化學品，其包括(R¹)_iPO(R⁴)_j(R⁵)_k，其中：

a.各R¹獨立地為疏水基團；

b.i為1或2，j為1或2，k為0或1，且i+j+k＝3；

c.R⁴為膦酸酯反應性基團；

d.各膦酸酯反應性基團獨立地選自：-Cl、-OR⁶、-OCOR⁶和-OH；

e.各R⁶獨立地為烷基、芳基或其組合；且

f.各R⁵如果存在的話獨立地為任何化學元素或基團。