[發(fā)明專利]導(dǎo)電結(jié)構(gòu)體及其制備方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201680018324.5 | 申請日: | 2016-03-25 |
| 公開(公告)號: | CN107408420B | 公開(公告)日: | 2019-06-28 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 李一翻;金起煥;樸贊亨;章盛晧;樸鎮(zhèn)宇 | 申請(專利權(quán))人: | 株式會社LG化學(xué) |
| 主分類號: | H01B5/00 | 分類號: | H01B5/00;H01B5/14;H01B13/00;G02B1/113;G06F3/045 |
| 代理公司: | 北京鴻元知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11327 | 代理人: | 王楠楠;張云志 |
| 地址: | 韓國*** | 國省代碼: | 韓國;KR |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 導(dǎo)電 結(jié)構(gòu) 及其 制備 方法 | ||
1.一種導(dǎo)電結(jié)構(gòu)體,包括:
基板;以及
設(shè)置在所述基板上的構(gòu)成屏幕部、接線部和襯墊部的導(dǎo)線,
其中,所述導(dǎo)線包括金屬層和設(shè)置在所述金屬層上的減光反射層,
所述導(dǎo)線在波長為633nm的光中的消光系數(shù)k為1.2以上且為2.2以下,以及
所述減光反射層包含下面式1的值滿足0.6以上且為0.7以下的氮氧化鋁:
[式1]
在式1中,Nat%指相對于所述氮氧化鋁的氮原子的元素含量,Alat%指相對于所述氮氧化鋁的鋁原子的元素含量,Oat%指相對于所述氮氧化鋁的氧原子的元素含量。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的導(dǎo)電結(jié)構(gòu)體,其中,所述導(dǎo)線在波長為600nm的光中的折射率n為2以上且為2.4以下。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的導(dǎo)電結(jié)構(gòu)體,其中,所述導(dǎo)線的總反射率為60%以下。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的導(dǎo)電結(jié)構(gòu)體,還包括:
在構(gòu)成襯墊部的導(dǎo)線上的柔性印刷電路板(FPCB)。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的導(dǎo)電結(jié)構(gòu)體,還包括:
在所述構(gòu)成襯墊部的導(dǎo)線與所述柔性印刷電路板 之間的各向異性導(dǎo)電膜(ACF)。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的導(dǎo)電結(jié)構(gòu)體,其中,所述柔性印刷電路板 設(shè)置為比所述金屬層更接近所述減光反射層。
7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的導(dǎo)電結(jié)構(gòu)體,其中,所述減光反射層的電阻率為10-4Ω·cm以上且為5×10-3Ω·cm以下。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的導(dǎo)電結(jié)構(gòu)體,其中,所述屏幕部包括多個開口和導(dǎo)電圖案,該導(dǎo)電圖案包括分隔所述開口的導(dǎo)線。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的導(dǎo)電結(jié)構(gòu)體,其中,構(gòu)成屏幕部的導(dǎo)線的線寬為0.1μm以上且為100μm以下。
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的導(dǎo)電結(jié)構(gòu)體,其中,構(gòu)成屏幕部的導(dǎo)線中的相鄰導(dǎo)線之間的線間隔為0.1μm以上且為100μm以下。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的導(dǎo)電結(jié)構(gòu)體,其中,所述金屬層的厚度為10nm以上且為1μm以下。
12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的導(dǎo)電結(jié)構(gòu)體,其中,所述減光反射層的厚度為10nm以上且為100nm以下。
13.一種導(dǎo)電結(jié)構(gòu)體的制備方法,該制備方法包括:
制備基板;
在所述基板上形成金屬層;
在所述金屬層上形成減光反射層;以及
進行圖案化,通過對所述金屬層和所述減光反射層進行圖案化形成構(gòu)成屏幕部、接線部和襯墊部的導(dǎo)線,
其中,所述導(dǎo)線在波長為633nm的光中的消光系數(shù)k為1.2以上且為2.2以下,以及
所述減光反射層包含下面式1的值滿足0.6以上且為0.7以下的氮氧化鋁:
[式1]
在式1中,Nat%表示相對于所述氮氧化鋁的氮原子的元素含量,Alat%表示相對于所述氮氧化鋁的鋁原子的元素含量,Oat%表示相對于所述氮氧化鋁的氧原子的元素含量。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的制備方法,其中,在所述金屬層的形成中,所述金屬層在所述基板的一個表面上形成完整的層。
15.根據(jù)權(quán)利要求13所述的制備方法,其中,在所述減光反射層的形成中,所述減光反射層在所述金屬層的一個表面上形成完整的層。
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H01B 電纜;導(dǎo)體;絕緣體;導(dǎo)電、絕緣或介電材料的選擇
H01B5-00 按形狀區(qū)分的非絕緣導(dǎo)體或?qū)щ娢矬w
H01B5-02 .單根桿、棒、線或帶;匯流排
H01B5-06 .單管
H01B5-08 .若干根線或類似物的絞線
H01B5-12 .編織線或其類似物
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