[發明專利]取代吡啶并嘧啶類化合物的合成工藝有效
| 申請號： | 201680017878.3 | 申請日： | 2016-03-24 |
| 公開（公告）號： | CN107709319B | 公開（公告）日： | 2020-11-06 |
| 發明（設計）人： | 沈競康;孟韜;于霆;馬蘭萍;王昕;陳驎 | 申請（專利權）人： | 中國科學院上海藥物研究所;山東羅欣藥業集團股份有限公司 |
| 主分類號： | C07D471/04 | 分類號： | C07D471/04;C07D519/00 |
| 代理公司： | 上海一平知識產權代理有限公司 31266 | 代理人： | 馬思敏;馬莉華 |
| 地址： | 上海市浦東*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 取代 吡啶 嘧啶 化合物 合成 工藝 | ||
1.一種式III化合物的制備方法，其特征在于，包括步驟(7)：
(7)用式II’化合物與甲胺反應，得到式III化合物；
其中，R1、R2、R3、R4各自獨立地選自下組：取代或未取代的C1-C4的烷基、取代或未取代的C1-C4的酯基；
或R1、R2以及相鄰的-N-共同構成取代或未取代的3-10元雜環，且所述的雜環上可含有1-3個選自下組的雜原子：N、O或S；所述的3-10元雜環為單環、二環、螺環或橋環；
或R3、R4以及相鄰的-N-共同構成取代或未取代的3-10元雜環，且所述的雜環上可含有1-3個選自下組的雜原子：N、O或S；所述的3-10元雜環為單環、二環、螺環或橋環；
R5選自下組：C1-C4烷氧基；
所述的取代指基團上的一個或多個氫原子被選自下組的取代基取代：鹵素、C1-C4的烷基；
所述甲胺選自下組：甲胺甲醇溶液、或甲胺乙醇溶液；
且所述的式II'化合物與甲胺的投料質量比為1/10～1/500。
2.如權利要求1所述的方法，其特征在于，所述的C1-C4烷氧基是甲氧基或乙氧基。
3.如權利要求1所述的方法，其特征在于，所述的方法還任選地包括步驟：
用式II化合物進行反應，得到式II'化合物；
式中，所述的R選自下組：C1-C4的烷基；其余各基團的定義如權利要求1中所述；
且RO-與R5-為不同的基團。
4.如權利要求1所述的方法，其特征在于，所述的C1-C4烷基是甲基或乙基。
5.如權利要求3所述的方法，其特征在于，所述方法還包括以下步驟(6)：
(6)在惰性溶劑中，用式I化合物與式IIa化合物或其鹽反應，得到式II化合物；
其中，X選自Cl或Br；
R1、R2、R3、R4各自獨立地選自下組：取代或未取代的C1-C4的烷基、取代或未取代的C1-C4的酯基；
或R1、R2以及相鄰的-NH-共同構成取代或未取代的3-10元雜環，且所述的雜環上可含有1-3個選自下組的雜原子：N、O或S；所述的3-10元雜環為單環、二環、螺環或橋環；
或R3、R4以及相鄰的-NH-共同構成取代或未取代的3-10元雜環，且所述的雜環上可含有1-3個選自下組的雜原子：N、O或S；所述的3-10元雜環為單環、二環、螺環或橋環；
所述的取代指基團上的一個或多個氫原子被選自下組的取代基取代：鹵素、C1-C4的烷基。
6.如權利要求5所述的方法，其特征在于，所述方法還包括以下步驟(5)：
(5)在惰性溶劑中，用式4化合物與式Ia化合物或其鹽反應，得到式I化合物；
其中，X選自Cl或Br；
R1、R2各自獨立地選自下組：取代或未取代的C1-C4的烷基、取代或未取代的C1-C4的酯基；或R1、R2以及相鄰的-N-共同構成取代或未取代的3-10元雜環，且所述的雜環上可含有1-3個選自下組的雜原子：N、O或S；所述的3-10元雜環為單環、二環、螺環或橋環；
所述的取代指基團上的一個或多個氫原子被選自下組的取代基取代：鹵素、C1-C4的烷基。
7.如權利要求6所述的方法，其特征在于，所述方法中，所述的方法還包括以下步驟(4)：
(4)用式3化合物與鹵代試劑進行反應，得到式4化合物；
上述各式中，R的定義如權利要求3中所述，X選自Cl或Br。
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