[發(fā)明專利]制備撓性有機(jī)?無(wú)機(jī)層壓材料的方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201680017247.1 | 申請(qǐng)日: | 2016-03-15 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN107429390A | 公開(kāi)(公告)日: | 2017-12-01 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | M·阿爾夫;J·弗朗克;T·阿德?tīng)柭?/a>;S·克洛茨 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 巴斯夫涂料有限公司 |
| 主分類號(hào): | C23C16/30 | 分類號(hào): | C23C16/30;C23C16/455 |
| 代理公司: | 北京市中咨律師事務(wù)所11247 | 代理人: | 張雙雙,劉金輝 |
| 地址: | 德國(guó)*** | 國(guó)省代碼: | 暫無(wú)信息 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 制備 有機(jī) 無(wú)機(jī) 層壓 材料 方法 | ||
1.一種制備層壓材料的方法,包括至少兩次包含以下的序列:
(a)通過(guò)進(jìn)行3至150個(gè)原子層沉積方法的循環(huán)來(lái)沉積無(wú)機(jī)層,和
(b)通過(guò)進(jìn)行1至3個(gè)分子層沉積方法的循環(huán)來(lái)沉積包含氮的有機(jī)層。
2.根據(jù)權(quán)利要求1的方法,其中在該分子層沉積方法中使用伯胺來(lái)沉積該有機(jī)層。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2的方法,其中在該分子層沉積方法中使用芳族胺來(lái)沉積該有機(jī)層。
4.根據(jù)權(quán)利要求1-3中任一項(xiàng)的方法,其中在該分子層沉積方法中使用含有羥基的芳族胺來(lái)沉積該有機(jī)層。
5.根據(jù)權(quán)利要求1-4中任一項(xiàng)的方法,其中在該原子層沉積方法中使用含Al化合物來(lái)沉積該無(wú)機(jī)層。
6.根據(jù)權(quán)利要求1-5中任一項(xiàng)的方法,其中包含(a)和(b)的序列進(jìn)行至少30次。
7.一種層壓材料,包含至少兩次的包含以下的層序列:
(a)厚度為0.3至15nm的無(wú)機(jī)層,和
(b)厚度為0.1至3nm的含氮有機(jī)層。
8.根據(jù)權(quán)利要求7的層壓材料,其中該有機(jī)層含有呈氧化態(tài)-3的氮。
9.根據(jù)權(quán)利要求7或8的層壓材料,其中該無(wú)機(jī)層包含AlOx(OH)y,其中0≤x≤1.5;0≤y≤3并且2x+y=3。
10.根據(jù)權(quán)利要求7-9中任一項(xiàng)的層壓材料,其中該層壓材料包含該包含至少30次的(a)和(b)的層序列。
11.一種阻擋膜,包含根據(jù)權(quán)利要求7-10中任一項(xiàng)的層壓材料。
12.根據(jù)權(quán)利要求11的阻擋膜,其中該阻擋膜進(jìn)一步包含聚合基材。
13.根據(jù)權(quán)利要求11或12的阻擋膜,其中該阻擋膜進(jìn)一步包含平坦化層。
14.根據(jù)權(quán)利要求11-13中任一項(xiàng)的阻擋膜在包封、包裝或鈍化中的用途。
15.一種電子器件,包含根據(jù)權(quán)利要求11-13中任一項(xiàng)的阻擋膜。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過(guò)氣態(tài)化合物分解且表面材料的反應(yīng)產(chǎn)物不留存于鍍層中的化學(xué)鍍覆,例如化學(xué)氣相沉積
C23C16-01 .在臨時(shí)基體上,例如在隨后通過(guò)浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無(wú)機(jī)材料為特征的
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