[發明專利]二氧化硅膜及分離膜過濾器

有效

• 申請號: 201680015708.1
• 申請日: 2016-03-15
• 公開（公告）號: CN107427784B
• 公開（公告）日: 2020-12-15
• 發明（設計）人: 三浦綾;古川昌宏
• 申請（專利權）人: 日本礙子株式會社
• 主分類號: B01D71/02
• 分類號: B01D71/02;B01D69/00;B01D69/02;B01D69/10;B01D69/12;C01B33/12
• 代理公司: 北京旭知行專利代理事務所(普通合伙) 11432
• 代理人: 王軼;鄭雪娜

1.一種二氧化硅膜，其中，

所述二氧化硅膜具有芳基，且利用能量分散型X射線分光法、亦即EDX法進行元素分析而得到的原子數比Si/C為0.2～15的范圍，

所述二氧化硅膜是通過形成在透水量為0.5m/day～6.0m/day的范圍的多孔質基材上而得到的，

傅里葉變換紅外吸收光譜、亦即FT－IR中的、Si－O－Si鍵的吸收強度X與基于所述芳基的吸收強度Y的比值X/Y為5.0～200的范圍。

2.根據權利要求1所述的二氧化硅膜，其中，

所述Si/C為0.5以上。

3.根據權利要求1所述的二氧化硅膜，其中，

所述Si/C為8.0以下。

4.根據權利要求1～3中的任意一項所述的二氧化硅膜，其中，

所述二氧化硅膜的膜厚為30nm～300nm的范圍。

5.根據權利要求1～3中的任意一項所述的二氧化硅膜，其中，

所述芳基為對甲苯基及苯基中的1種以上。

6.一種分離膜過濾器，其中，包括：

多孔質基材，和

被形成在所述多孔質基材上的權利要求1～5中的任意一項所述的二氧化硅膜。

7.根據權利要求6所述的分離膜過濾器，其中，

所述二氧化硅膜的膜附著量為0.3g/m²～5.2g/m²的范圍。

8.根據權利要求6所述的分離膜過濾器，其中，

所述多孔質基材的透水量為0.5m/day～6.0m/day的范圍。

9.根據權利要求6～8中的任意一項所述的分離膜過濾器，其中，

所述二氧化硅膜被形成在所述多孔質基材的超濾膜上，

所述超濾膜的平均細孔徑為2nm～25nm的范圍。

10.根據權利要求6～8中的任意一項所述的分離膜過濾器，其中，

所述二氧化硅膜被形成在所述多孔質基材的超濾膜上，

所述超濾膜的膜厚為0.2μm～5μm的范圍。

11.根據權利要求6～8中的任意一項所述的分離膜過濾器，其中，

所述二氧化硅膜被形成在所述多孔質基材的超濾膜上，

所述超濾膜以Ti為主成分。